JP2006330656A - 液晶配向膜用真空蒸着装置およびその成膜方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】排気手段を有する真空槽及び真空槽内部の蒸着源を備えた液晶配向膜用真空蒸着装置において、蒸着源の鉛直線を中心として水平に配置されたスリットであって蒸着材料が通過するための複数の開口が放射状に設けられたスリット、およびスリットを介して蒸着源に対向する位置に配置され鉛直線を中心として基板を円周上に配列して保持する基板保持手段であって基板上の任意の点と蒸着源とを結ぶ直線と基板の垂線とのなす入射角を所定の角度に調整可能な基板保持手段を備え、鉛直線を中心に基板およびスリットが相対的に回転可能であり、スリットを通過した蒸着材料によって基板が斜方蒸着されて配向膜が形成されるように構成した。
【選択図】 図1
Description
図1に本発明の一実施形態の真空蒸着装置を示す。
排気系統9を備える真空槽1内底面には蒸着源2が設けられ、蒸着源2には蒸着材料5および電子銃7が備えられる。蒸着材料5は真空槽1底面の中心位置に配置され、電子銃7は蒸着材料5に電子ビーム6を照射する位置に配置される。蒸着源2には開閉自在のシャッター8が設けられ、図示のようにシャッター8を閉じることにより飛散する蒸着材料を遮蔽する。蒸着源2は蒸着材料5を蒸発または昇華させるものであればよく、電子ビームに限らず、抵抗加熱、レーザー等他の加熱手段を用いてもよい。蒸着材料5には所望の成膜材料を用いればよく、図示はしないが複数の蒸着材料を備える蒸着材料供給機構を用いて蒸着源に蒸着材料を自動供給してもよい。
実施例1においては、基板の角度を可変とするとともにスリットを適切に設計・動作させることで好適な斜方蒸着を行うものを示したが、本実施例においては、さらに、その可変に設計された基板角度を調整するための好適な機構、およびスリット細部についての好適な構成例を示す。なお、実施例1における機構と同様のものには同一の符号を付している。
まず、仕込室51に格納された未処理基板4をバッファー室53のロボット54が成膜室50に搬入する。成膜室50への基板4の搬出入は真空状態を維持したまま行われるものとし、成膜室50、バッファー室53、仕込室51、および取出室52は図示しない排気系統により所定の真空度に設定されるものとする。基板4の搬出入時は公転機構13を操作し、搬出入を行う基板ステージ56をバッファー室53に対面させる。ロボット54を用いて基板4を基板ステージ56に受渡した後、基板ステージ56に対して基板4を所定の位置に固定すればよい。
また、実施例は液晶配向膜を作製するものであるが、液晶に限らず基板上に斜方蒸着するものであれば本発明を実施可能である。
2 蒸着源
3 スリット
4 基板
5 蒸着材料
6 電子ビーム
7 電子銃
8 シャッター
9 排気系統
10 モニタ基板
11 光学式膜厚計測装置
12 基板固定治具
13 公転機構
20 開口
21 開口
30 矢印
40 蒸着源
41 基板
50 成膜室
51 仕込室
52 取出室
53 バッファー室
54 ロボット
55 基板角度可変機構
56 基板ステージ
57 スリット
58 制御装置
59 膜厚補正板
60 シャッター
70 真空モータ
71 ボールねじ
72 スライダ
73 アーム
74 支軸
75 エンコーダ
76 ブレーキ
77 コンタクト
78 駆動源
79 端子
80 アーム
81 アーム
82 電源
83 槽壁
84 駆動源
90 アーム
91 アーム
92 カムフォロア
93 カム孔
100 係止部
101 スプリング
102 すべり軸受
103 押圧部
Claims (18)
- 排気手段を有する真空槽及び該真空槽内部の蒸着源を備えた液晶配向膜用真空蒸着装置であって、
該蒸着源の鉛直線を中心として水平に配置されたスリットであって、蒸着材料が通過するための複数の開口が放射状に設けられたスリット、および
該スリットを介して該蒸着源に対向する位置に配置され、前記鉛直線を中心として基板を円周上に配列して保持する基板保持手段であって、該基板上の任意の点と該蒸着源とを結ぶ直線と該基板の垂線とのなす入射角を所定の角度に調整可能な基板保持手段
を備え、
該鉛直線を中心に該基板および該スリットが相対的に回転可能であり、
該スリットを通過した蒸着材料によって該基板が斜方蒸着されて配向膜が形成されるように構成されたことを特徴とする液晶配向膜用真空蒸着装置。 - 請求項1記載の液晶配向膜用真空蒸着装置であって、
該基板保持手段が、該入射角を0°〜90°の範囲から任意に選択可能であることを特徴とする液晶配向膜用真空蒸着装置。 - 請求項1記載の液晶配向膜用真空蒸着装置であって、
該蒸着源の鉛直線を中心に該基板保持手段を公転させる公転機構を設けたことを特徴とする液晶配向膜用真空蒸着装置。 - 請求項1記載の液晶配向膜用真空蒸着装置であって、
該蒸着源の鉛直線を中心に該スリットを自転させる自転機構を設けたことを特徴とする液晶配向膜用真空蒸着装置。 - 請求項1記載の液晶配向膜用真空蒸着装置であって、
モニタ基板、および、光学式膜厚計測装置を備え、
該光学式膜厚計測装置により該モニタ基板の膜厚を測定しながら蒸着膜厚を制御することを特徴とする液晶配向膜用真空蒸着装置。 - 排気手段を有する真空槽、該真空槽内部の蒸着源、該蒸着源に対向する位置に配置された基板を保持する基板保持手段、及び該蒸着源と該基板の間に介在する開口を有するスリットを備えた液晶配向膜用真空蒸着装置において該基板に配向膜を形成する成膜方法であって、
該基板保持手段において、該基板上の任意の点と該蒸着源とを結ぶ直線と該基板の垂線とのなす入射角が所定の角度になるように調整し、
該スリットにおいて、該開口によって該蒸着源から該基板へ飛散する蒸着材料の入射角を制限する
ことを特徴とする成膜方法。 - 斜方蒸着による配向膜の形成方法であって、
蒸着源の鉛直線上に、放射状に複数の開口を設けたスリット、および基板を円周上に配列して保持する基板保持手段を配置し、
該基板上の任意の点と該蒸着源とを結ぶ直線と該基板の垂線とのなす入射角が所定の角度となるように該基板保持手段に該基板を配置し、該蒸着源の鉛直線を中心に該基板および該スリットを相対的に回転させ、該スリットの開口を通り抜けて該基板面に到達する蒸着材料を斜方蒸着し配向膜を形成することを特徴とする成膜方法。 - 排気手段を有する真空槽、該真空槽内部の蒸着源、該蒸着源の鉛直線を中心として水平に配置されたスリット、および該スリットを介して該蒸着源に対向する位置に配置されるとともに前記鉛直線を中心として基板を円周上に配列して保持する基板保持手段を備えた液晶配向膜用真空蒸着装置において該基板に配向膜を形成する成膜方法であって、
該基板上の任意の点と該蒸着源とを結ぶ直線と該基板の垂線とのなす入射角を所定の角度に調整し、
該鉛直線を中心に該基板および該スリットを相対的に回転させ、
該スリットに放射状に設けられた複数の開口を介して蒸着材料を該基板に斜方蒸着する
ことを特徴とする成膜方法。 - 排気手段を有する真空槽内に、蒸着源、蒸着される基板を保持する基板保持機構、該蒸着源の鉛直線を中心として該基板を公転させる公転機構、該基板上の任意の点と該蒸着源とを結ぶ直線と該基板の垂線とのなす入射角を所定の角度に調整可能な基板角度可変機構とを備えた真空蒸着装置であって、
該基板角度可変機構に電力を供給するコンタクトを該公転機構に接触可能に設けたことを特徴とする真空蒸着装置。 - 請求項9記載の真空蒸着装置において、さらに、該コンタクトを該公転機構から切り離し可能にしたことを特徴とする真空蒸着装置。
- 請求項10に記載の真空蒸着装置において、
該公転機構の回転時に該コンタクトと該公転機構とが非接触状態にされることを特徴とする真空蒸着装置。 - 請求項9記載の真空蒸着装置であって、さらに、該基板角度可変機構が該基板保持機構を駆動するための第1の駆動源および基板角度確認器を有し、
該第1の駆動源および該基板角度確認器に導通する端子と該コンタクトとが接触することにより電力が供給されることを特徴とする真空蒸着装置。 - 請求項9記載の真空蒸着装置であって、さらに、該コンタクトを駆動するための第2の駆動源を備え、該第2の駆動源は該公転機構の公転動作の影響を受けない位置に配置されたことを特徴とする真空蒸着装置。
- 請求項13に記載の真空蒸着装置において、
該第2の駆動源によって、該公転機構の回転時に該コンタクトと該端子とが非接触状態にされることを特徴とする真空蒸着装置。 - 請求項9から請求項14いずれか一項に記載の真空蒸着装置であって、さらに、
該基板角度可変機構の非通電時に該基板の角度を保持するブレーキ機構を備えたことを特徴とする真空蒸着装置。 - 請求項15記載の真空蒸着装置において、
該基板角度可変機構は該基板の角度調整に使用されるボールねじを有し、
該ブレーキ機構は該ボールねじの回転動作をロックおよびロック解除する押圧部を有し、
該基板角度可変機構の非通電時に該押圧部が該回転動作をロックすることを特徴とする真空蒸着装置。 - 排気手段を有する真空槽及び該真空槽内部の蒸着源を備えた真空蒸着装置であって、
該蒸着源の鉛直線を中心として水平に配置されたスリットであって、蒸着材料が通過するための複数の開口が放射状に設けられたスリット、
該開口上方に基板を保持する基板保持手段、および
該スリット上に設けられ、該スリット各々の開口面積を変更可能なシャッター
を備えたことを特徴とする真空蒸着装置。 - 排気手段を有する真空槽内に、蒸着源、蒸着される基板を保持する基板保持機構、該蒸着源の鉛直線を中心として該基板を公転させる公転機構、該基板上の任意の点と該蒸着源とを結ぶ直線と該基板の垂線とのなす入射角を調整可能な基板角度可変機構とを備えた真空蒸着装置における成膜方法であって、
該公転機構にコンタクトを接触させ該コンタクトから該基板角度可変機構に電力を供給するステップ、
該基板角度可変機構によって該基板角度を所定の角度に調整するステップ、
該コンタクトを該基板角度可変機構から離すステップ、
該公転機構を公転させるステップ、および
該蒸着源からの蒸着材料を該基板保持機構に保持された基板に斜方蒸着するステップ
からなることを特徴とする成膜方法。
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---|---|
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Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007277645A (ja) * | 2006-04-07 | 2007-10-25 | Ulvac Japan Ltd | 蒸着装置、蒸着方法および無機配向膜の形成方法 |
JP2008224922A (ja) * | 2007-03-12 | 2008-09-25 | Seiko Epson Corp | 液晶装置の製造装置、液晶装置の製造方法 |
JP2010020210A (ja) * | 2008-07-14 | 2010-01-28 | Seiko Epson Corp | スクリーンの製造方法及び製造装置、並びにスクリーン |
JP2011150154A (ja) * | 2010-01-22 | 2011-08-04 | Showa Shinku:Kk | 薄膜、及び、薄膜の形成方法 |
US20110308459A1 (en) * | 2009-02-10 | 2011-12-22 | Toyo Tanso Co., Ltd. | Cvd apparatus |
KR101310916B1 (ko) * | 2006-12-08 | 2013-09-25 | 엘지디스플레이 주식회사 | 증착 장치 및 그를 이용한 증착 방법 |
KR20140071109A (ko) * | 2012-12-03 | 2014-06-11 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착원, 이를 포함한 증착 장치 및 증착 방법 |
JP2017190513A (ja) * | 2016-04-15 | 2017-10-19 | 株式会社昭和真空 | 蒸着装置 |
KR101791111B1 (ko) * | 2010-11-23 | 2017-10-27 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치 및 그 제조 장비 |
WO2020013431A1 (ko) * | 2018-07-13 | 2020-01-16 | 주식회사 넵시스 | 공전, 자전, 틸트를 통한 다중기판 진공증착 장치 |
KR102453442B1 (ko) * | 2021-12-29 | 2022-10-12 | 주식회사 메이 | 무기배향막 균일증착장치 및 이를 이용한 균일증착방법 |
WO2023124251A1 (zh) * | 2021-12-31 | 2023-07-06 | 华为数字能源技术有限公司 | 一种行星盘结构以及蒸镀设备 |
US20240093358A1 (en) * | 2019-10-15 | 2024-03-21 | Santec Corporation | Substrate rotating apparatus |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106987820B (zh) * | 2017-05-19 | 2019-06-07 | 信利光电股份有限公司 | 一种镀膜治具及镀膜设备 |
Citations (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5127948A (en) * | 1974-09-02 | 1976-03-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Ekishohyojisochino seizohoho |
JPS5226847A (en) * | 1975-08-25 | 1977-02-28 | Seiko Instr & Electronics Ltd | Layer forming method for liquid crystal molecule orientation and devic e therefor |
JPS5347382A (en) * | 1976-10-13 | 1978-04-27 | Citizen Watch Co Ltd | Shutter mechanism for evaporation source of vacuum evaporation apparatus |
JPS5384750A (en) * | 1976-12-29 | 1978-07-26 | Seiko Epson Corp | Orientation method of liquid crystal panel |
JPS5430860A (en) * | 1977-08-12 | 1979-03-07 | Citizen Watch Co Ltd | Method and apparatus for orientation treatment of liquid crystal cell substrates |
JPS5459956A (en) * | 1978-10-16 | 1979-05-15 | Citizen Watch Co Ltd | Orientation treating method of liquid crystal cell substrates |
JPS5699318A (en) * | 1980-01-11 | 1981-08-10 | Citizen Watch Co Ltd | Orientation treatment of liquid crystal cell substrate |
JPS5852476A (ja) * | 1981-09-24 | 1983-03-28 | Fujitsu Ltd | 真空蒸着法 |
JPS62178924A (ja) * | 1986-02-03 | 1987-08-06 | Hitachi Ltd | 液晶表示素子配向膜形成装置 |
JPS63313123A (ja) * | 1987-06-17 | 1988-12-21 | Konica Corp | 液晶表示素子の製造方法 |
JPH0238567A (ja) * | 1988-07-27 | 1990-02-07 | Shin Meiwa Ind Co Ltd | 真空蒸着装置のプラネタリ回転治具 |
JPH0339931A (ja) * | 1989-07-07 | 1991-02-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶の配向膜の製造装置 |
JPH03164712A (ja) * | 1989-11-24 | 1991-07-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示装置及びその製造法 |
JPH07113172A (ja) * | 1993-10-14 | 1995-05-02 | Sony Corp | 薄膜加工用コリメーター、薄膜加工装置、薄膜加工方法並びに半導体装置の配線形成方法 |
JPH09143717A (ja) * | 1995-11-21 | 1997-06-03 | Ulvac Japan Ltd | 真空蒸着用基板傾斜自公転装置 |
JPH09241844A (ja) * | 1996-03-08 | 1997-09-16 | Miyota Kk | 成膜装置 |
JPH10147858A (ja) * | 1996-11-15 | 1998-06-02 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 斜め蒸着方法 |
JPH10265954A (ja) * | 1997-03-25 | 1998-10-06 | Asahi Optical Co Ltd | 膜厚モニタ装置ならびに真空蒸着方法および真空蒸着装置 |
JPH11160711A (ja) * | 1997-11-25 | 1999-06-18 | Victor Co Of Japan Ltd | 液晶配向膜の製造方法及びその装置 |
JPH11200017A (ja) * | 1998-01-20 | 1999-07-27 | Nikon Corp | 光学薄膜成膜装置およびこの光学薄膜成膜装置により成膜された光学素子 |
JP2000160329A (ja) * | 1998-11-30 | 2000-06-13 | Sharp Corp | 電子ビーム蒸着方法、及び電子ビーム蒸着装置 |
JP2003050397A (ja) * | 2001-06-01 | 2003-02-21 | Citizen Watch Co Ltd | 配向膜を備えた基板とその製造方法 |
-
2005
- 2005-07-21 JP JP2005210987A patent/JP4835826B2/ja active Active
Patent Citations (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5127948A (en) * | 1974-09-02 | 1976-03-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Ekishohyojisochino seizohoho |
JPS5226847A (en) * | 1975-08-25 | 1977-02-28 | Seiko Instr & Electronics Ltd | Layer forming method for liquid crystal molecule orientation and devic e therefor |
JPS5347382A (en) * | 1976-10-13 | 1978-04-27 | Citizen Watch Co Ltd | Shutter mechanism for evaporation source of vacuum evaporation apparatus |
JPS5384750A (en) * | 1976-12-29 | 1978-07-26 | Seiko Epson Corp | Orientation method of liquid crystal panel |
JPS5430860A (en) * | 1977-08-12 | 1979-03-07 | Citizen Watch Co Ltd | Method and apparatus for orientation treatment of liquid crystal cell substrates |
JPS5459956A (en) * | 1978-10-16 | 1979-05-15 | Citizen Watch Co Ltd | Orientation treating method of liquid crystal cell substrates |
JPS5699318A (en) * | 1980-01-11 | 1981-08-10 | Citizen Watch Co Ltd | Orientation treatment of liquid crystal cell substrate |
JPS5852476A (ja) * | 1981-09-24 | 1983-03-28 | Fujitsu Ltd | 真空蒸着法 |
JPS62178924A (ja) * | 1986-02-03 | 1987-08-06 | Hitachi Ltd | 液晶表示素子配向膜形成装置 |
JPS63313123A (ja) * | 1987-06-17 | 1988-12-21 | Konica Corp | 液晶表示素子の製造方法 |
JPH0238567A (ja) * | 1988-07-27 | 1990-02-07 | Shin Meiwa Ind Co Ltd | 真空蒸着装置のプラネタリ回転治具 |
JPH0339931A (ja) * | 1989-07-07 | 1991-02-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶の配向膜の製造装置 |
JPH03164712A (ja) * | 1989-11-24 | 1991-07-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示装置及びその製造法 |
JPH07113172A (ja) * | 1993-10-14 | 1995-05-02 | Sony Corp | 薄膜加工用コリメーター、薄膜加工装置、薄膜加工方法並びに半導体装置の配線形成方法 |
JPH09143717A (ja) * | 1995-11-21 | 1997-06-03 | Ulvac Japan Ltd | 真空蒸着用基板傾斜自公転装置 |
JPH09241844A (ja) * | 1996-03-08 | 1997-09-16 | Miyota Kk | 成膜装置 |
JPH10147858A (ja) * | 1996-11-15 | 1998-06-02 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 斜め蒸着方法 |
JPH10265954A (ja) * | 1997-03-25 | 1998-10-06 | Asahi Optical Co Ltd | 膜厚モニタ装置ならびに真空蒸着方法および真空蒸着装置 |
JPH11160711A (ja) * | 1997-11-25 | 1999-06-18 | Victor Co Of Japan Ltd | 液晶配向膜の製造方法及びその装置 |
JPH11200017A (ja) * | 1998-01-20 | 1999-07-27 | Nikon Corp | 光学薄膜成膜装置およびこの光学薄膜成膜装置により成膜された光学素子 |
JP2000160329A (ja) * | 1998-11-30 | 2000-06-13 | Sharp Corp | 電子ビーム蒸着方法、及び電子ビーム蒸着装置 |
JP2003050397A (ja) * | 2001-06-01 | 2003-02-21 | Citizen Watch Co Ltd | 配向膜を備えた基板とその製造方法 |
Cited By (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007277645A (ja) * | 2006-04-07 | 2007-10-25 | Ulvac Japan Ltd | 蒸着装置、蒸着方法および無機配向膜の形成方法 |
KR101310916B1 (ko) * | 2006-12-08 | 2013-09-25 | 엘지디스플레이 주식회사 | 증착 장치 및 그를 이용한 증착 방법 |
JP2008224922A (ja) * | 2007-03-12 | 2008-09-25 | Seiko Epson Corp | 液晶装置の製造装置、液晶装置の製造方法 |
JP2010020210A (ja) * | 2008-07-14 | 2010-01-28 | Seiko Epson Corp | スクリーンの製造方法及び製造装置、並びにスクリーン |
US20110308459A1 (en) * | 2009-02-10 | 2011-12-22 | Toyo Tanso Co., Ltd. | Cvd apparatus |
JP2011150154A (ja) * | 2010-01-22 | 2011-08-04 | Showa Shinku:Kk | 薄膜、及び、薄膜の形成方法 |
KR101791111B1 (ko) * | 2010-11-23 | 2017-10-27 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치 및 그 제조 장비 |
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KR20140071109A (ko) * | 2012-12-03 | 2014-06-11 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착원, 이를 포함한 증착 장치 및 증착 방법 |
JP2017190513A (ja) * | 2016-04-15 | 2017-10-19 | 株式会社昭和真空 | 蒸着装置 |
WO2020013431A1 (ko) * | 2018-07-13 | 2020-01-16 | 주식회사 넵시스 | 공전, 자전, 틸트를 통한 다중기판 진공증착 장치 |
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