JP2006326992A - ジンバル機構を備えた転写装置 - Google Patents
ジンバル機構を備えた転写装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006326992A JP2006326992A JP2005153003A JP2005153003A JP2006326992A JP 2006326992 A JP2006326992 A JP 2006326992A JP 2005153003 A JP2005153003 A JP 2005153003A JP 2005153003 A JP2005153003 A JP 2005153003A JP 2006326992 A JP2006326992 A JP 2006326992A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gimbal
- gimbal mechanism
- mold
- transfer device
- movable body
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 title claims abstract description 86
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 21
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 7
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims description 6
- 239000012778 molding material Substances 0.000 claims description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 2
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 claims description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 claims 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 21
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 17
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 17
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 14
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 8
- 230000008859 change Effects 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 4
- 238000005339 levitation Methods 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000006870 function Effects 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 2
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 1
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000005394 sealing glass Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 230000003313 weakening effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/02—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81C—PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
- B81C99/00—Subject matter not provided for in other groups of this subclass
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
- Micromachines (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
Abstract
【解決手段】 ジンバル機構45を備えた転写装置において、被成形材料を搭載するテーブル11と、テーブル11面に対向して配置された型を固定保持する型保持体205と、型保持体205を保持すると共に凸球面部を形成してなるジンバル部材201と、前記凸球面部と対接する凹球面部を形成したジンバル部材203と、ジンバル部材203を保持し、テーブル11面に対し垂直方向に進退可能な可動体19と、UV発生装置42から与えられるUVを導くUV光路とを有する。
【選択図】図4
Description
(A)被成形層は、上記紫外線硬化樹脂、熱可塑性樹脂のほか、いずれのものでもよい。被成形層の材料に応じてその軟化及び/又は硬化手段を選定することができる。
3 本体フレーム
5 上部フレーム(支持フレーム)
7 下部フレーム(ベースフレーム)
9 タイバー
10 固定台
11 可動テーブル
13 被成形品
15 支持台
19 可動体
21 リニアガイド(案内手段)
23,24 スライダ(案内手段)
25 ボールネジ機構
26 ボールネジナット
27 ボールネジ軸
29 軸受
31 中空軸
33 サーボモータ
35 出力軸
41 型
42 紫外線光源
42A 光ファイバ
42B 反射ミラー
42C,43A 貫通穴
43 型支持プレート
45 ジンバル機構
46 ロードセル
47 旋回台
50 バランスシリンダ(バランス取り手段)
52 ピストンロッド
54 上カバー
56 下カバー
58 シリンダ
60 成形室
201 下側ジンバル部材
203 上側ジンバル部材
205 型保持体
207 断熱材
209 ヒータ
211 吸引用管路
213 浮上用管路
221,221A,221B ピエゾハンマー
235 回動部材
239 内側固定部材
241 プレート
253 レンズ系
255 紫外線強度調整装置および紫外線照射時間調整装置
261 ネジ部
Claims (19)
- UV導光路を内部に形成したジンバル機構を備えていると共に、以下の構成を有することを特徴とする転写装置。
(a)被成形材料を搭載するテーブル、
(b)前記テーブル面に対向して配置された転写用の型を固定保持するUV透過材質からなる型保持体、
(c)前記型保持体を一方の面側に保持すると共に他方の面側に凸球面部を形成してなる第1のジンバル部材、
(d)前記第1のジンバル部材の凸球面部と対接する凹球面部を形成した第2のジンバル部材、
(e)前記第2のジンバル部材を保持し、前記テーブル面に対し垂直方向に進退可能な可動体、
(f)前記可動体を前記垂直方向に進退駆動せしめるサーボモータを含む可動体駆動手段、
(g)前記第1のジンバル部材の姿勢を調整保持するための姿勢調整及び保持手段、
(h)UV発生装置、
(i)前記UV発生装置から与えられるUVを、UVが透過可能な材質で形成された前記転写用の型を通して、前記テーブルに搭載された前記被成形材料に照射するためのUV路。 - 請求項1に記載のジンバル機構を備えた転写装置において、
前記UV発生装置は、前記可動体の側部に設けられ前記可動体に保持されていることを特徴とするジンバル機構を備えた転写装置。 - 請求項1または請求項2に記載のジンバル機構を備えた転写装置において、
前記UV路は、前記可動体内に形成され前記UV発生装置から与えられるUVを水平方向に導く第1の導光路と、前記第1の導光路の端部側に設けられ前記第1の導光路を進行するUVを垂直方向である前記ジンバル機構の中心軸方向に偏向する反射ミラーと、前記反射ミラーで反射されたUVを前記型保持体に向けて導くよう前記第1および第2のジンバル部材に形成された貫通孔からなる第2の導光路とにより構成されていることを特徴とするジンバル機構を備えた転写装置。 - 請求項3に記載のジンバル機構を備えた転写装置において、
前記貫通孔の内周面には、前記UVの反射を抑制する反射抑制手段が形成されていることを特徴とするジンバル機構を備えた転写装置。 - 請求項4に記載のジンバル機構を備えた転写装置において、
前記反射抑制手段はネジ溝で構成されていることを特徴とするジンバル機構を備えた転写装置。 - 請求項4に記載のジンバル機構を備えた転写装置において、
前記反射抑制手段はUV吸収機能を有する材料を前記貫通孔の内周面に塗布またはコーティングして構成されていることを特徴とするジンバル機構を備えた転写装置。 - 請求項3〜請求項6のいずれか1項に記載のジンバル機構を備えた転写装置において、
前記UV発生装置が発生したUVを、光ファイバを用いて前記第1の導光路へ導くように構成してあることを特徴とするジンバル機構を備えた転写装置。 - 請求項1〜請求項7のいずれか1項に記載のジンバル機構を備えた転写装置において、
前記UV発生装置にはUV強度調整装置およびUV照射時間調整装置が設けられていることを特徴とするジンバル機構を備えた転写装置。 - 請求項1〜請求項8のいずれか1項に記載のジンバル機構を備えた転写装置において、
前記姿勢調整及び保持手投は、前記第1のジンバル部材を前記第2のジンバル部材に向けて真空引きするため前記第2のジンバル部材内部に形成され且つ前記凹球面部に開口された真空引き用の管路と同管路に接続された真空引き装置を有する構成であることを特徴とするジンバル機構を備えた転写装置。 - 請求項9に記載のジンバル機構を備えた転写装置において、
前記真空引き装置は、真空による吸引力を調整する調整手段を有することを特徴とするジンバル機構を備えた転写装置。 - 請求項10に記載のジンバル機構を備えた転写装置において、
前記真空による吸引力の調整手段は、前記管路に与えられる真空度を調整する構成であることを特徴とするジンバル機構を備えた転写装置。 - 請求項10または請求項11に記載のジンバル機構を備えた転写装置において、
前記真空による吸引カの調整手段は、前記真空引き用の管路を増減自在に備えたことにより真空度を調整する構成であることを特徴とするジンバル機構を備えた転写装置。 - 請求項1〜請求項12のいずれか1項に記載のジンバル機構を備えた転写装置において、
前記姿勢調整及び保持手段は、さらに、前記第2のジンバル部材から前記第1のジンバル部材向けてエアーを噴射するために、前記第2のジンバル部材内部に形成され且つ前記凹球面部に開口されたエアー噴出用の管路と同管路に接続されたエアー源を有する構成であることを特徴とするジンバル機構を備えた転写装置。 - 請求項1〜請求項13のいずれか1項に記載のジンバル機構を備えた転写装置において、
前記テーブルは水平面内のX、Y方向にそれぞれ移動可能な構成であることを特徴とするジンバル機構を備えた転写装置。 - 請求項1〜請求項14のいずれか1項に記載のジンバル機構を備えた転写装置において、
前記第1のジンバル部材は前記凸球面部に隣接して形成された張出し傾斜面を有しており、前記姿勢調整及び保持手投には、さらに、前記張出し傾斜面に圧縮気体を噴射供給する圧縮気体供給管路を前記第2のジンバル部材内部に形成してなる構成であることを特徴とするジンバル機構を備えた転写装置。 - 請求項1〜請求項15のいずれか1項に記載のジンバル機構を備えた転写装置において、
前記第2のジンバル部材と前記可動体との間に設けられ、前記可動体に対し前記第2のジンバル部材をその中心軸周りに回転せしめる回動手段を設けたことを特徴とするジンバル機構を備えた転写装置。 - 請求項1〜請求項16のいずれか1項に記載のジンバル機構を備えた転写装置において、
前記第1のジンバル部材に形成された凸球面部の球面中心位置は前記第1のジンバル部材の中心軸上であって且つ前記型保持体に固定保持された型の端面に位置している構成であることを特徴とするジンバル機構を備えた転写装置。 - 請求項1〜請求項17のいずれか1項に記載のジンバル機構を備えた転写装置において、
前記型の端部が前記テーブル上の前記被成形材料の上面近傍に接近したことを検知する検出手段を備え、前記検出手段からの信号に応答して前記可動体の速度を遅くする構成であることを特徴とするジンバル機構を備えた転写装置。 - 請求項1〜請求項18のいずれか1項に記載のジンバル機構を備えた転写装置において、
略L字型のフレームと、
このフレームの下部に一体的に設けられた下部フレームと、
この下部フレームに一端を固着され前記L字型の垂直部に互いに平行に伸びる複数のタイバーと、
これらのタイバーの他端に固着された上部フレームと、
前記下部フレームと上部フレームとの間にあって前記タイバーに沿って移動自在に配置された前記可動体と、
前記フレームから前記可動体の左右両側面のほぼ中央位置まで突出したフレーム突出部と、
この突出部と前記可動体の左右両側面のほぼ中央位置とを前記タイバーに沿って移動自在に係合接続する案内手段と、
前記上部フレームに取り付けられ、前記可動体を前記案内手段に沿って移動させるための前記サーボモータを含む可動体駆動手段とを有することを特徴とするジンバル機構を嘩えた転写装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005153003A JP4701008B2 (ja) | 2005-05-25 | 2005-05-25 | ジンバル機構を備えた転写装置 |
TW095118311A TWI307314B (en) | 2005-05-25 | 2006-05-23 | Transcript apparatus |
US11/439,291 US7448862B2 (en) | 2005-05-25 | 2006-05-24 | Transcript apparatus |
KR1020060046427A KR100764295B1 (ko) | 2005-05-25 | 2006-05-24 | 전사 장치 |
DE102006024390.0A DE102006024390B4 (de) | 2005-05-25 | 2006-05-24 | Übertragungsvorrichtung |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005153003A JP4701008B2 (ja) | 2005-05-25 | 2005-05-25 | ジンバル機構を備えた転写装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006326992A true JP2006326992A (ja) | 2006-12-07 |
JP2006326992A5 JP2006326992A5 (ja) | 2008-05-08 |
JP4701008B2 JP4701008B2 (ja) | 2011-06-15 |
Family
ID=37387904
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005153003A Active JP4701008B2 (ja) | 2005-05-25 | 2005-05-25 | ジンバル機構を備えた転写装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7448862B2 (ja) |
JP (1) | JP4701008B2 (ja) |
KR (1) | KR100764295B1 (ja) |
DE (1) | DE102006024390B4 (ja) |
TW (1) | TWI307314B (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7648354B2 (en) * | 2005-04-28 | 2010-01-19 | Toshiba Kikai Kabushiki Kaisha | Transfer apparatus having gimbal mechanism and transfer method using the transfer apparatus |
JP5517423B2 (ja) * | 2008-08-26 | 2014-06-11 | キヤノン株式会社 | インプリント装置及びインプリント方法 |
JP5267174B2 (ja) * | 2009-02-03 | 2013-08-21 | ソニー株式会社 | 光造形装置及び造形ベース |
JP4597254B1 (ja) | 2009-10-16 | 2010-12-15 | 株式会社ユアビジネス | 回動体の回動構造 |
CN109501225A (zh) * | 2018-12-31 | 2019-03-22 | 焦作飞鸿安全玻璃有限公司 | 一种注塑产品表面金属效果处理装置 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11314231A (ja) * | 1998-03-06 | 1999-11-16 | Toshiba Corp | 光学部品製造方法及びその装置 |
JP2001135634A (ja) * | 1999-11-10 | 2001-05-18 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 薄膜形成装置 |
JP2002251802A (ja) * | 2001-02-23 | 2002-09-06 | Sony Corp | ディスク状記録媒体の製造方法及び金型装置 |
JP2004291607A (ja) * | 2002-05-17 | 2004-10-21 | Konica Minolta Holdings Inc | 成形型ユニットの調整方法及び成形装置 |
JP2005052841A (ja) * | 2003-08-01 | 2005-03-03 | Meisho Kiko Kk | 高精度プレス機 |
JP2005533393A (ja) * | 2002-07-11 | 2005-11-04 | モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド | インプリント・リソグラフィ・プロセスおよびシステム |
Family Cites Families (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2151202A5 (ja) * | 1971-08-25 | 1973-04-13 | Lunetiers | |
US4316712A (en) | 1980-11-10 | 1982-02-23 | Medendorp Roger L | Press and actuator therefor |
US4878826A (en) | 1987-12-07 | 1989-11-07 | Wendt Michael L | Apparatus for thermoforming plastic materials |
EP0339616B1 (en) * | 1988-04-27 | 1997-01-08 | Dainippon Ink And Chemicals, Inc. | Apparatus for manufacturing optical information recording medium |
US4969812A (en) | 1989-05-30 | 1990-11-13 | Brown Gaylord W | Fluid pressure operated apparatus for mounting a differential pressure mold on a platen |
JP3230833B2 (ja) | 1992-03-27 | 2001-11-19 | 日立テクノエンジニアリング株式会社 | ホットプレス |
DE19819761C2 (de) | 1998-05-04 | 2000-05-31 | Jenoptik Jena Gmbh | Einrichtung zur Trennung eines geformten Substrates von einem Prägewerkzeug |
DE19925175C1 (de) | 1999-05-27 | 2000-05-25 | Jenoptik Jena Gmbh | Einrichtung und Verfahren zur Übertragung von Mikrostrukturen |
US6364648B1 (en) * | 1999-12-21 | 2002-04-02 | Johnson & Johnson Vision Care, Inc. | Four axis casting fixture |
US6808443B2 (en) * | 2000-07-01 | 2004-10-26 | Lam Research Corporation | Projected gimbal point drive |
JP3679767B2 (ja) * | 2002-02-26 | 2005-08-03 | キヤノン株式会社 | ステージ位置決め装置及びその制御方法、露光装置、半導体デバイスの製造方法 |
JP3472963B1 (ja) | 2002-05-30 | 2003-12-02 | ミカドテクノス株式会社 | 高温用真空プレス装置 |
JP2004034300A (ja) | 2002-06-28 | 2004-02-05 | Elionix Kk | 微小型押成形装置 |
US7070405B2 (en) * | 2002-08-01 | 2006-07-04 | Molecular Imprints, Inc. | Alignment systems for imprint lithography |
JP3783054B2 (ja) * | 2002-10-24 | 2006-06-07 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | アクティブダブルジョイント式加圧機構 |
JP4340086B2 (ja) | 2003-03-20 | 2009-10-07 | 株式会社日立製作所 | ナノプリント用スタンパ、及び微細構造転写方法 |
JP4220282B2 (ja) | 2003-03-20 | 2009-02-04 | 株式会社日立製作所 | ナノプリント装置、及び微細構造転写方法 |
TW568349U (en) | 2003-05-02 | 2003-12-21 | Ind Tech Res Inst | Parallelism adjusting device for nano-transferring |
JP2004358857A (ja) | 2003-06-06 | 2004-12-24 | Meiki Co Ltd | 微細な凹凸面を有する樹脂成形品の成形装置 |
US7150622B2 (en) | 2003-07-09 | 2006-12-19 | Molecular Imprints, Inc. | Systems for magnification and distortion correction for imprint lithography processes |
JP2005101201A (ja) * | 2003-09-24 | 2005-04-14 | Canon Inc | ナノインプリント装置 |
US7140861B2 (en) * | 2004-04-27 | 2006-11-28 | Molecular Imprints, Inc. | Compliant hard template for UV imprinting |
US7059198B2 (en) | 2004-08-17 | 2006-06-13 | Amitkumar N. Dharia | Apparatus to determine ability of plastic material to be shaped by thermoforming process |
JP4500183B2 (ja) | 2005-02-25 | 2010-07-14 | 東芝機械株式会社 | 転写装置 |
JP4700996B2 (ja) | 2005-04-19 | 2011-06-15 | 東芝機械株式会社 | 転写装置 |
-
2005
- 2005-05-25 JP JP2005153003A patent/JP4701008B2/ja active Active
-
2006
- 2006-05-23 TW TW095118311A patent/TWI307314B/zh active
- 2006-05-24 KR KR1020060046427A patent/KR100764295B1/ko active IP Right Grant
- 2006-05-24 US US11/439,291 patent/US7448862B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2006-05-24 DE DE102006024390.0A patent/DE102006024390B4/de active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11314231A (ja) * | 1998-03-06 | 1999-11-16 | Toshiba Corp | 光学部品製造方法及びその装置 |
JP2001135634A (ja) * | 1999-11-10 | 2001-05-18 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 薄膜形成装置 |
JP2002251802A (ja) * | 2001-02-23 | 2002-09-06 | Sony Corp | ディスク状記録媒体の製造方法及び金型装置 |
JP2004291607A (ja) * | 2002-05-17 | 2004-10-21 | Konica Minolta Holdings Inc | 成形型ユニットの調整方法及び成形装置 |
JP2005533393A (ja) * | 2002-07-11 | 2005-11-04 | モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド | インプリント・リソグラフィ・プロセスおよびシステム |
JP2005052841A (ja) * | 2003-08-01 | 2005-03-03 | Meisho Kiko Kk | 高精度プレス機 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200711852A (en) | 2007-04-01 |
DE102006024390A1 (de) | 2006-11-30 |
DE102006024390B4 (de) | 2016-12-29 |
US20060269645A1 (en) | 2006-11-30 |
KR20060121743A (ko) | 2006-11-29 |
TWI307314B (en) | 2009-03-11 |
US7448862B2 (en) | 2008-11-11 |
JP4701008B2 (ja) | 2011-06-15 |
KR100764295B1 (ko) | 2007-10-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8318074B2 (en) | Transfer apparatus having gimbal mechanism and transfer method using the transfer apparatus | |
US7448865B2 (en) | Transcript apparatus | |
US7465162B2 (en) | Transcript apparatus | |
JP4701008B2 (ja) | ジンバル機構を備えた転写装置 | |
JP2006326992A5 (ja) | ||
JP4732801B2 (ja) | ジンバル機構を備えた転写装置及び同装置を用いた転写方法 | |
JP5666082B2 (ja) | 転写装置およびプレス装置 | |
JP2006326991A5 (ja) | ||
JP4854313B2 (ja) | 転写装置における制御装置 | |
JP4856941B2 (ja) | ジンバル機構を備えた転写装置及び同装置を用いる転写方法 | |
JP4729337B2 (ja) | ジンバル機構を備えた転写装置及び同装置を用いる転写方法 | |
JP4732800B2 (ja) | ジンバル機構を備えた転写装置及び同装置を用いた転写方法 | |
JP5150309B2 (ja) | 転写装置および転写方法 | |
JP2007313708A (ja) | 転写装置、転写機構および転写方法 | |
JP5328869B2 (ja) | 転写用の型の製造方法 | |
JP2006305930A5 (ja) | ||
JP2006326980A5 (ja) | ||
JP6886259B2 (ja) | 形成装置、及び物品製造方法 | |
JP6761279B2 (ja) | 位置決め装置、リソグラフィー装置および物品製造方法 | |
JP7161309B2 (ja) | ステージ装置、リソグラフィ装置、および物品の製造方法 | |
JP5224930B2 (ja) | 転写装置 | |
JP2008000945A (ja) | 転写用の型 | |
JP2008049543A (ja) | ジンバル機構を備えた転写装置 | |
JP2021184441A (ja) | モールド、インプリント装置、および物品製造方法 | |
JP2012104845A (ja) | 転写装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080326 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080326 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110222 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110224 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110307 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4701008 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |