JPH11314231A - 光学部品製造方法及びその装置 - Google Patents

光学部品製造方法及びその装置

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JPH11314231A
JPH11314231A JP28942998A JP28942998A JPH11314231A JP H11314231 A JPH11314231 A JP H11314231A JP 28942998 A JP28942998 A JP 28942998A JP 28942998 A JP28942998 A JP 28942998A JP H11314231 A JPH11314231 A JP H11314231A
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mold
substrate
photocurable resin
optical component
component manufacturing
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Shigeru Sakuta
茂 佐久田
Masaomi Nakahata
政臣 中畑
Atsuo Inoue
篤郎 井上
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Original Assignee
Toshiba Corp
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    • B29L2011/0016Lenses

Abstract

(57)【要約】 【課題】本発明は、樹脂の厚み制御ができるとともに離
型時の形状を高精度に維持できる。 【解決手段】金型4に各位置検出器10,11,12を
内蔵させるとともに各歪みゲージ13,14,15を設
け、金型4をUV硬化樹脂3を載せた基板2に対して押
し付けるときに金型4と基板2との間隔を各位置検出器
10,11,12検出するとともに押し付け力により発
生する歪みを各歪みゲージ13,14,15により検出
し、制御装置17を通して各圧電アクチュエータ18,
19,20を駆動して、UV硬化樹脂3の厚さを制御
し、かつ離型時に金型4に加わる力に応じて発生する歪
みを検出して金型4の離型方向を制御する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば回折格子な
どの光学部品を2P法(photopolymerization method)
を用いて製造する光学部品製造方法及びその装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】図17は光学部品製造装置の構成図であ
る。基板保持機構1には、透光性の基板(例えばガラス
基板)2が載置されている。この基板2上には、光硬化
樹脂として例えば粘性流体状の紫外線硬化樹脂(以下、
UV硬化樹脂と称する)3がポッティングされる。
【0003】一方、基板2の上方には、金型4が配置さ
れている。この金型4には、例えば回折格子などの光学
部品を作製するための型5が形成されている。又、基板
2の下方には、UV光を放射するUV光源6が配置され
ている。
【0004】このような構成であれば、基板2上に載せ
られたUV硬化樹脂3を金型4で押し付けながらUV光
源6からUV光を放射してUV硬化樹脂3に照射し、こ
のUV硬化樹脂3を硬化して金型4をUV硬化樹脂3に
転写する。この後、金型4を離型することによって例え
ば回折格子などの光学部品を製造する。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記装
置では、製造される光学部品の厚み(樹脂の厚み)に対
する制御や離型時の金型の姿勢の制御などを行って、光
学部品の厚みなどを定量的に抑えることは行わず、ただ
単に基板2に対する金型4の押し付け、金型4の離型を
行っているだけであった。
【0006】このため、製造された光学部品の厚さ精度
が低く、又離型時にUV硬化樹脂3に転写された金型4
の形状がその離型方向によって損なわれる恐れがある。
そこで本発明は、樹脂の厚み制御ができる光学部品製造
方法及びその装置を提供することを目的とする。又、本
発明は、離型時の形状を高精度に維持できる光学部品製
造方法及びその装置を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】請求項1によれば、基板
上に載せられた光硬化樹脂を金型で押し付けながら光硬
化樹脂に対して光を照射して金型を光硬化樹脂に転写す
る光学部品製造方法において、金型と基板との距離を検
出して光硬化樹脂の厚さを制御する光学部品製造方法で
ある。
【0008】請求項2によれば、基板上に載せられた光
硬化樹脂を金型で押し付けながら光硬化樹脂に対して光
を照射して金型を光硬化樹脂に転写する光学部品製造方
法において、基板から金型の離型方向を検出し、この離
型方向に基づいて金型の姿勢を制御する光学部品製造方
法である。
【0009】請求項3によれば、基板上に載せられた光
硬化樹脂を金型で押し付けながら光硬化樹脂に対して光
を照射して金型を光硬化樹脂に転写する光学部品製造方
法において、金型を基板に押し付けるときに金型と基板
との距離を検出して光硬化樹脂の厚さを制御し、かつ基
板から金型を離型するときに金型の離型方向を検出し、
この離型方向に基づいて金型の姿勢を制御する光学部品
製造方法である。
【0010】請求項4によれば、請求項1、2又は3記
載の光学部品製造方法において、光硬化樹脂を基板上に
載せた後、基板を回転させて光硬化樹脂を基板上に被着
させる工程を有する。
【0011】請求項5によれば、基板上に載せられた光
硬化樹脂を金型で押し付けながら光硬化樹脂に対して光
を照射して金型を光硬化樹脂に転写する光学部品製造装
置において、金型と基板との距離を検出する位置検出手
段と、この位置検出手段により検出された金型と基板と
の距離に基づいて金型と基板との間隔を調整して光硬化
樹脂の厚さを制御する厚さ制御手段とを備えた光学部品
製造装置である。
【0012】請求項6によれば、基板上に載せられた光
硬化樹脂を金型で押し付けながら光硬化樹脂に対して光
を照射して金型を光硬化樹脂に転写する光学部品製造装
置において、基板から金型の離型方向を検出する離型方
向検出手段と、この離型方向検出手段により検出された
離型方向に基づいて金型の姿勢を制御する姿勢制御手段
とを備えた光学部品製造装置である。
【0013】請求項7によれば、基板上に載せられた光
硬化樹脂を金型で押し付けながら光硬化樹脂に対して光
を照射して金型を光硬化樹脂に転写する光学部品製造装
置において、金型と基板との距離を検出する位置検出手
段と、この位置検出手段により検出された金型と基板と
の距離に基づいて金型と基板との間隔を調整して光硬化
樹脂の厚さを制御する厚さ制御手段と、基板から金型の
離型方向を検出する離型方向検出手段と、この離型方向
検出手段により検出された離型方向に基づいて金型の姿
勢を制御する姿勢制御手段とを備えた光学部品製造装置
である。
【0014】請求項8によれば、基板上に載せられた光
硬化樹脂を金型で押し付けながら光硬化樹脂に対して光
を照射して金型を光硬化樹脂に転写する光学部品製造装
置において、基板に対する金型の押し付け力を検出し、
かつ基板から金型が離型するときに加わる力を検出する
金型に設けられた複数の歪みゲージと、これら歪みゲー
ジにより検出された押し付け力に基づいて金型と基板と
の間隔を調整して光硬化樹脂の厚さを制御し、かつ各歪
みゲージにより検出された離型するときに加わる力に基
づいて金型の姿勢を制御する複数のアクチュエータとを
備えた光学部品製造装置である。
【0015】請求項9によれば、請求項5、6、7又は
8記載の光学部品製造装置において、基板を保持する基
板保持手段と、光硬化樹脂を前記基板上に載せた後に、
基板保持手段を回転させて光硬化樹脂を基板上に被着さ
せるコーティング手段と、を備えた。
【0016】請求項10によれば、請求項5、6、7又
は8記載の光学部品製造装置において、金型には、光硬
化樹脂の逃げ用の溝が形成されている。請求項11によ
れば、請求項10記載の光学部品製造装置において、逃
げ用の溝は、格子状に設けられ、光学素子の型を溝で囲
むように形成されている。
【0017】請求項12によれば、請求項10記載の光
学部品製造装置において、逃げ用の溝は、互いに直交す
る所定幅で所定深さの第1の溝と、互いに直交して第1
の溝の幅よりも狭くかつ第1の溝の深さよりも浅い第2
の溝とから成り、これら第1及び第2の溝を光学素子の
型を囲んで形成した。
【0018】請求項13によれば、請求項12記載の光
学部品製造装置において、これら第1及び第2の溝は、
光学素子の型から遠くなるほど深くするとともに近くな
るほど浅く形成されている。
【0019】請求項14によれば、請求項12又は13
記載の光学部品製造装置における金型を、第1及び第2
の溝の形成された間隔毎に基板上に載せられた光硬化樹
脂に押し付け、この後、金型の第1の溝に逃げて光の照
射により硬化された光硬化樹脂を基板の切断しろとして
用いる。
【0020】
【発明の実施の形態】(1) 以下、本発明の第1の実施の
形態について図面を参照して説明する。なお、図17と
同一部分には同一符号を付してその詳しい説明は省略す
る。図1は光学部品製造装置の構成図である。
【0021】金型4には、3つの位置検出器10,1
1,12が例えば角度120°の等間隔で内蔵されてい
る。これら位置検出器10,11,12は、金型4と基
板2との間隔を検出してその間隔検出信号を出力するも
ので、例えば静電容量変位計又はレーザ変位計などが用
いられている。
【0022】又、金型4の外周側面には、3つの歪みゲ
ージ13,14,15が例えば角度120°の等間隔で
設けられている。これら歪みゲージ13,14,15
は、金型4に生じる歪みを検出するもので、具体的には
基板2から金型4が離型するときに加わる力に応じて発
生する歪みを検出してその歪み検出信号を発生し、かつ
基板2に対する金型4の押し付け力に応じて発生する歪
みを検出してその歪み検出信号を発生するという、離型
方向検出用と厚み制御用との兼用となっている。
【0023】これら歪みゲージ13,14,15で発生
した各歪み検出信号は、歪みゲージアンプ16を通して
制御装置17に送られている。さらに、金型4の上部に
は、3つの圧電アクチュエータ18,19,20が例え
ば角度120°の等間隔で設けられている。これら圧電
アクチュエータ18,19,20は、伸縮動作により金
型4を基板2に対して押し付け、かつ金型4を基板2か
ら離型する作用を有している。
【0024】上記制御装置17は、作製される光学部品
の厚さの制御する機能と離型時における金型4の姿勢を
制御する機能とを有するもので、3つの圧電アクチュエ
ータ18,19,20への各制御信号をドライバ21を
通して送出する機能を有している。
【0025】具体的に説明すると、制御装置17は、3
つの位置検出器10,11,12からそれぞれ出力され
た各間隔検出信号を入力し、金型4と基板2との3か所
における各間隔に応じて各圧電アクチュエータ18,1
9,20を伸縮動作させて金型4と基板2との間隔を調
整し、UV硬化樹脂3の厚さをフィードバック制御する
厚さ制御手段22の機能を有している。
【0026】又、制御装置17は、図2に示すような実
験により得られた押付け力(歪み)に対する樹脂厚みの
相関関係を予め記憶し、かつ3つの歪みゲージ13,1
4,15でそれぞれ発生した各歪み検出信号を入力して
UV硬化樹脂3の厚みを上記押付け力に対する樹脂厚み
の相関関係から求め、この樹脂厚みが光学部品を作製す
るに最適な樹脂厚みになるように各圧電アクチュエータ
18,19,20を伸縮動作させて金型4と基板2との
間隔を調整し、UV硬化樹脂3の厚さをフィードバック
制御する厚さ制御手段23の機能を有している。
【0027】又、制御装置17は、離型時に、3つの歪
みゲージ13,14,15でそれぞれ発生した各歪み検
出信号を入力し、これら歪み検出信号から金型4の姿勢
すなわち位置、角度を推測し、この金型4の姿勢が基板
2から鉛直方向に離型するように各圧電アクチュエータ
18,19,20を伸縮動作して姿勢制御する姿勢制御
手段24の機能を有している。
【0028】次に上記の如く構成された装置の作用につ
いて図3に示す製造アルゴリズムに従って説明する。先
ず、基板2がステップ#1において基板保持機構1上に
セッティングされ、続いてステップ#2において基板2
上にUV硬化樹脂3がポッティングされる。
【0029】次に、金型4がステップ#3において基板
2上に載せられたUV硬化樹脂3に対して押し付けら
れ、続いてステップ#4においてUV光源6が点灯され
てUV光が基板2を透過してUV硬化樹脂3に照射され
る。
【0030】このとき、3つの位置検出器10,11,
12は、それぞれ図4に示すように金型4と基板2との
間隔(すなわちUV硬化樹脂3の厚み)ΔXを検出して
その間隔検出信号を出力する。
【0031】制御装置17の厚さ制御手段22は、これ
ら位置検出器10,11,12からそれぞれ出力された
各間隔検出信号を入力し、金型4と基板2との3か所に
おける各間隔ΔXに応じて各圧電アクチュエータ18,
19,20を伸縮動作させて金型4と基板2との間隔が
所定の間隔になるように調整し、これによりUV硬化樹
脂3の厚さを制御する。一方、各圧電アクチュエータ1
8,19,20を用いたUV硬化樹脂3の厚さ制御に限
らず、各歪みゲージ13,14,15を用いてもUV硬
化樹脂3の厚さ制御ができる。すなわち、図5に示すよ
うに3つの歪みゲージ13,14,15は、基板2に対
する金型4の押し付け力に応じて発生する歪みを検出し
てその歪み検出信号を発生する。これら歪みゲージ1
3,14,15で発生した各歪み検出信号は、歪みゲー
ジアンプ16を通して制御装置17に送られる。
【0032】制御装置17は、各歪みゲージ13,1
4,15でそれぞれ発生した各歪み検出信号を入力し、
これら歪み信号から上記図2に示す押付け力に対する樹
脂厚みの相関関係に基づいてUV硬化樹脂3の厚みを求
め、この樹脂厚みが光学部品を作製するに最適な樹脂厚
みになるように各圧電アクチュエータ18,19,20
を伸縮動作させて金型4と基板2との間隔を調整し、U
V硬化樹脂3の厚さを制御する。
【0033】このように金型4と基板2との間隔を調整
してUV硬化樹脂3の厚さを制御し、基板2上に載せら
れたUV硬化樹脂3を金型4で押し付けながらUV光源
6からUV光をUV硬化樹脂3に照射し、このUV硬化
樹脂3を硬化して金型4をUV硬化樹脂3に転写する。
【0034】この後、金型4をステップ#5において離
型することによって例えば回折格子などの光学部品を製
造する。この離型のとき、3つの歪みゲージ13,1
4,15は、それぞれ基板2から金型4が離型するとき
に加わる力に応じて発生する歪みを検出してその歪み検
出信号を発生し、これら歪み検出信号を制御装置17に
送出する。
【0035】この制御装置17の姿勢制御手段24は、
これら歪みゲージ13,14,15で発生した各歪み検
出信号を入力し、これら歪み検出信号から金型4の姿勢
すなわち位置、角度を推測し、この金型4の姿勢が基板
2から鉛直方向に離型するように各圧電アクチュエータ
18,19,20を伸縮動作して姿勢制御する。
【0036】例えば、これら歪みゲージ13,14,1
5により検出された各歪み検出値をそれぞれS1 ,S
2 ,S3 とした場合、これら検出値S1 ,S2 ,S3
大きさ関係が、 S1 ≒S2 ≒S3 であれば、金型4の離型の方向が図5に示すz方向にな
るように姿勢制御手段24は、各圧電アクチュエータ1
8,19,20を同時に縮めの動作をさせて、金型4を
z方向に離型する。
【0037】又、例えば各検出値S1 ,S2 ,S3 の大
きさ関係が、 S3 <S1 ≒S2 であれば、金型4の離型の方向が図5に示すF方向にな
るように姿勢制御手段24は、図6に示すようにy方向
にある圧電アクチュエータ15を伸ばす。これにより、
各歪みゲージ13,14,15の各歪み検出値S1 ,S
2 ,S3 の大きさ関係がS1 ≒S2 ≒S3 となる。
【0038】この後に姿勢制御手段24は、各圧電アク
チュエータ18,19,20を同時に縮めの動作を行っ
て、金型4をz方向に離型する。このように金型4を離
型することによって例えば回折格子などの光学部品が製
造される。
【0039】このように上記第1の実施の形態において
は、金型4に各位置検出器10,11,12を内蔵させ
るとともに各歪みゲージ13,14,15を設け、金型
4をUV硬化樹脂3を載せた基板2に対して押し付ける
ときに金型4と基板2との間隔を各位置検出器10,1
1,12検出するとともに押し付け力により発生する歪
みを各歪みゲージ13,14,15により検出してUV
硬化樹脂3の厚さを制御し、かつ離型時に金型4に加わ
る力に応じて発生する歪みを検出して金型4の離型方向
を制御するようにしたので、製造される光学部品の厚み
すなわちUV硬化樹脂3の厚みを精度高く制御できると
ともに、離型時に例えばミクロの基板2の変形、金型4
の運動誤差も考慮して基板2に対して鉛直方向に離型で
き、UV硬化樹脂3に転写された金型4の形状がその離
型方向によって損なわれることがなくなる。
【0040】具体的に説明すると、各圧電アクチュエー
タ18,19,20及び各位置検出器10,11,12
として静電容量変位計の各分解能は、それぞれnmオー
ダが可能であり、光学部品の厚さをサブμmオーダに制
御できる。
【0041】各歪みゲージ13,14,15を用いるこ
とによって例えばゲージ率が200の半導体ゲージを用
いてブリッジを組んだ場合、10-9オーダの歪み検出が
可能であり、押し付け面積をφ5mm、金型材料の銅の
ヤング率を13×1010N/m2 とすると、金型4の基
板2への押し付け力は、サブgf単位で検出可能であ
り、高い厚み分解能が期待できる。
【0042】又、離型方向に関しては、例えば3つの歪
みゲージ13,14,15の出力値が等しくなるように
フィードバックを掛けながら3つの圧電アクチュエータ
18,19,20を制御することによって基板2及びU
V硬化樹脂3に対して鉛直方向に離型ができる。 (2) 次に本発明の第2の実施の形態について説明する。
なお、図1と同一部分には同一符号を付してその詳しい
説明は省略する。
【0043】図7は光学素子製造装置の構成図である。
基板保持機構1は、モータ30の回転軸に連結されてい
る。このモータ30は、ドライバ31を介して制御装置
32により駆動制御されるものとなっている。この制御
装置32は、基板保持機構1上に基板2が載置され、次
にこの基板2上にUV硬化樹脂3が載せられた後に、基
板保持機構1を所定の回転速度で回転させてUV硬化樹
脂3を基板2上にスピンコーティングするコーティング
手段としての機能を有している。
【0044】又、基板保持機構1上には、金型保持具案
内部品33が設けられる。この金型保持具案内部品33
は、円筒状に形成され、複数の金型34を基板2上のU
V硬化樹脂3に押し付けるとき及び金型34を基板2か
ら離型するときに、それぞれ金型保持具35の昇降を案
内するものである。この案内は、例えばすきまばめ又は
空気軸受けにより行う構成となっている。
【0045】金型保持具35は、複数の上記金型34を
保持するもので、これら金型34を所定の半径の円周上
に配置している。図8は金型34の保持構造を示す図で
あって、保持用孔36内に金型43が移動自在に挿入さ
れ、かつこの金型43に引っ張りばね37が取り付けら
れるとともに厚み制御用押しねじ38によってUV硬化
樹脂3への押し付け力を予め設定できるようになってい
る。なお、厚み制御用押しねじ38の先端と金型34と
の間には、ころ39が介在している。そして、金型保持
具35の中央部には、離型用押しねじ40が設けられて
いる。
【0046】又、基板保持機構1の下方には、金型保持
具35に保持されている複数の金型34の配置に応じて
各UV光源6−1、6−2が配置されている。次に上記
の如く構成された装置の作用について図9に示す製造ア
ルゴリズムに従って説明する。
【0047】先ず、基板2がステップ#1において基板
保持機構1上にセッティングされ、続いてステップ#2
において基板2上にUV硬化樹脂3がポッティングされ
る。次に、制御装置32は、ステップ#10において、
上記の如く基板2上にUV硬化樹脂3がポッティングさ
れた後、基板保持機構1を所定の回転速度で回転させる
制御信号をドライバ31に送出する。これにより、基板
保持機構1は、基板2を載せた状態で所定の回転速度で
回転するので、基板2上のUV硬化樹脂3はその遠心力
で基板2上に広がりスピンコーティングされる。
【0048】次に、基板保持機構1上に金型保持具案内
部品33が載せられるとともに、ステップ#3におい
て、この金型保持具案内部品33に沿って金型保持具3
5が基板2上に押し付けられる、つまり各金型34が基
板2上のUV硬化樹脂3に押し付けられる。
【0049】このとき、最終的に製造される光学部品の
厚みは、図8に示すように予め制御用押しねじ38を調
整し、この制御用押しねじ38及び引っ張りねじ37に
より各金型34をZ方向に位置決めすることにより制御
される。
【0050】この金型34の押し付けに続いてステップ
#4において各UV光源6−1、6−1が点灯されてU
V光が基板2を透過してUV硬化樹脂3に照射される。
これにより、UV硬化樹脂3は、硬化して各金型34の
型が転写される。
【0051】この後、ステップ#5において金型保持具
35が離型用押しねじ40の押し操作によって金型保持
具案内部品33に沿って押し上げられ、これにより各金
型34が離型され、この結果、例えば回折格子などの光
学部品が製造される。
【0052】このように上記第2の実施の形態において
は、基板2上にUV硬化樹脂3をポッティングした後、
基板保持機構1を所定の回転速度で回転させて基板2上
にUV硬化樹脂3をスピンコーティングするので、UV
硬化樹脂3の充填時間を短縮して光学部品の生産性を向
上できるとともに、UV硬化樹脂3の気泡レス化を図る
ことができる。又、UV硬化樹脂3のスピンコーティン
グによってUV硬化樹脂3の厚みは、基板2の全面に亙
って光学部品の厚み仕様値以上にUV硬化樹脂3が行き
渡るように基板2の中心付近へのUV硬化樹脂3の充填
量を予め定めておけば、光学部品の厚み仕様値に形成で
きる。
【0053】従って、UV硬化樹脂3の厚みは、UV硬
化樹脂3の粘性によっては基板2上に不均一に分布し、
部分的又は全面に亙ってUV硬化樹脂3の厚みが仕様値
以上になる慮があるがそれも防げる。さらに、金型34
の型を保護するための保護部材が自動的に生成すること
ができる。 (3) 次に本発明の第3の実施の形態について説明する。
なお、図1と同一部分には同一符号を付してその詳しい
説明は省略する。
【0054】図10は光学素子製造装置の構成図であ
る。この製造装置は、上記第1の実施の形態で説明した
装置に、モータ30及びドライバ31を追加し、制御装
置17によって、基板保持機構1上に基板2が載置さ
れ、この基板2上にUV硬化樹脂3が載せられた後に、
基板保持機構1を所定の回転速度で回転させてUV硬化
樹脂3を基板2上にスピンコーティングさせる構成とし
たものである。
【0055】次に上記の如く構成された装置の作用につ
いて図9に示す製造アルゴリズムに従って説明する。先
ず、基板2がステップ#1において基板保持機構1上に
セッティングされ、続いてステップ#2において基板2
上にUV硬化樹脂3がポッティングされる。
【0056】次に、基板保持機構1をモータ30に連結
し、これに続いて制御装置17は、ステップ#10にお
いて、基板保持機構1を所定の回転速度で回転させる制
御信号をドライバ31に送出する。これにより、基板保
持機構1は、基板2を載せた状態で所定の回転速度で回
転するので、基板2上のUV硬化樹脂3はその遠心力で
基板2上に広がりスピンコーティングされる。
【0057】次に、金型4がステップ#3において基板
2上に載せられたUV硬化樹脂3に対して押し付けら
れ、続いてステップ#4においてUV光源6が点灯され
てUV光が基板2を透過してUV硬化樹脂3に照射され
る。
【0058】このとき、上記第1の実施の形態で説明し
たのと同様に、制御装置17の厚さ制御手段22は、各
位置検出器10,11,12からそれぞれ出力された各
間隔検出信号を入力し、金型4と基板2との3か所にお
ける各間隔ΔXに応じて各圧電アクチュエータ18,1
9,20を伸縮動作させて金型4と基板2との間隔が所
定の間隔になるように調整し、これによりUV硬化樹脂
3の厚さを制御する。
【0059】又、制御装置17は、各歪みゲージ13,
14,15でそれぞれ発生した各歪み検出信号を入力
し、これら歪み信号からUV硬化樹脂3の厚みを求め、
この樹脂厚みが光学部品を作製するに最適な樹脂厚みに
なるように各圧電アクチュエータ18,19,20を伸
縮動作させて金型4と基板2との間隔を調整し、UV硬
化樹脂3の厚さを制御する。
【0060】この後、金型4をステップ#5において離
型することによって例えば回折格子などの光学部品を製
造する。この離型のとき、制御装置17の姿勢制御手段
24は、各歪みゲージ13,14,15で発生した各歪
み検出信号を入力し、これら歪み検出信号から金型4の
姿勢すなわち位置、角度を推測し、この金型4の姿勢が
基板2から鉛直方向に離型するように各圧電アクチュエ
ータ18,19,20を伸縮動作して姿勢制御する。
【0061】このように上記第3の実施の形態において
は、上記第1の実施の形態の効果に加えて、上記第2の
実施の形態の効果すなわちUV硬化樹脂3の充填時間を
短縮できるとともにUV硬化樹脂3の気泡レス化を図る
ことができ、かつ光学部品の厚み仕様値に形成できる。 (4) 次に本発明の第4の実施の形態について説明する。
なお、図1と同一部分には同一符号を付してその詳しい
説明は省略する。
【0062】図11は光学素子製造装置の構成図であ
る。基板保持機構1には、基板2が保持されている。こ
の基板保持機構1は、基板移動機構50の駆動によっ
て、1個の光学部品を製造するための金型51の押し付
け・露光処理ごとに、後述するように金型51に形成さ
れた第1の溝53と第2の溝54との間隔Pに対応した
距離だけxy平面内を移動するものとなっている。
【0063】この基板保持機構1の上方には、金型51
が配置されている。この金型51は、金型押し付け機構
52の駆動によってz方向に昇降し、基板2上にポッテ
ィングされたUV硬化樹脂3に対して金型51を一定の
押し付け力により押し付けられ、この後に基板2から離
型されるものとなっている。
【0064】金型51には、金型51を基板2に押し付
けたときのUV硬化樹脂3の逃げ用の第1の溝53と第
2の溝54とが形成されている。図12は金型51に形
成された第1の溝53と第2の溝54の構成図であっ
て、同図(a) は正面図、同図(b) は底面から見た図、同
図(c) はA−A’断面図である。これら第1及び第2の
溝53、54は、光学素子の型51aを囲んで格子状に
形成されており、第1の溝53は、互いに直交する2本
の溝53−1、53−2から成り、その幅はW1 に形成
され、かつ金型51の両側面側になるほど深く形成され
るとともに中央部ほど浅く形成され、例えば最も浅いと
ころで深さH1 に形成されている。
【0065】又、第2の溝54、互いに直交する2本の
溝54−1、54−2から成り、これら溝54−1、5
4−2はそれぞれ第1の溝53の溝53−1、53−2
に対して直交し、間隔Pを開けて形成されている。これ
ら溝54−1、54−2は、第1の溝53の幅W1 より
も狭い幅W2 に形成され、かつ金型51の両側面側にな
るほど深く形成されるとともに中央部ほど浅く形成さ
れ、例えば最も浅いところで第1の溝53の深さH1
りも浅い深さH2 に形成されている。
【0066】又、基板保持機構1の上方には、樹脂吐き
出し機構55が配置されている。この樹脂吐き出し機構
55は、ポッティング制御機構56の駆動によって金型
51の下方に配置され、所定量のUV硬化樹脂3を基板
2上にポッティングする機能を有している。
【0067】次に上記の如く構成された装置の作用につ
いて説明する。先ず、基板2が基板保持機構1上にセッ
ティングされる。次に、樹脂吐出機構55がポッティン
グ制御機構56の駆動によって基板2上の光学部品を製
造すべき位置のほぼ上方に配置され、この樹脂吐出機構
55によって所定量のUV硬化樹脂3が基板2上にポッ
ティングされる。
【0068】次に、金型51が金型押し付け機構52の
駆動によって下降し、図13(a) に示すように金型51
が基板2上のUV硬化樹脂3に一定の押し付け力で押し
付けられる。この金型51の基板2への押し付けによ
り、UV硬化樹脂3は金型51と基板2との間に充填さ
れる。
【0069】このとき、余分なUV硬化樹脂3は、金型
51に形成されている第1の溝53−1,53−2及び
第2の溝54−1,54−2に逃げて溜まり、金型51
外にはみ出ることはない。
【0070】この金型51の押し付けに続いてUV光源
6が点灯し、そのUV光が基板2を透過してUV硬化樹
脂3に照射される。これにより、UV硬化樹脂3は、硬
化して金型51の型が転写される。
【0071】この後、金型51は、金型押し付け機構5
2の駆動によって押し上げられ、これにより金型51が
離型され、この結果、例えば1個目の回折格子などの光
学部品が製造される。
【0072】これと共に光学部品の周りには、図13
(a) に示すように金型51の第1の溝53−1,53−
2及び第2の溝54−1,54−2にそれぞれ溜ったU
V硬化樹脂3が硬化した各リブ57a、57bが形成さ
れている。
【0073】なお、離型のとき、図14に示すように金
型51の第1の溝53−1,53−2及び第2の溝54
−1,54−2中のUV硬化樹脂3の表面と接する部分
a、bは、例えば図15に示す同部分aの拡大図に示す
ように硬化樹脂3の表面と鋭角に接している。これによ
り、金型51を離型するとき、これら溝53−1,53
−2,54−1,54−2中のUV硬化樹脂3の表面と
接する部分a、bは、小さな離型力で剥がれ、この剥が
れが順次伝播することにより、離型に要する力による負
荷が減少するものとなる。
【0074】以上により1個の光学部品を製造する1サ
イクルが終了する。次に、基板保持機構1は、基板移動
機構50の駆動によって、金型51に形成された第1の
溝53と第2の溝54との間隔Pに対応した距離だけ移
動する。
【0075】次に、樹脂吐出機構55がポッティング制
御機構56の駆動によって基板2上の光学部品を製造す
べき位置のほぼ上方に配置され、この樹脂吐出機構55
によって所定量のUV硬化樹脂3が基板2上にポッティ
ングされる。
【0076】次に、金型51が金型押し付け機構52の
駆動によって下降し、図13(b) に示すように金型51
が基板2上のUV硬化樹脂3に押し付けられる。このと
き、金型51は、第1の溝53が、前回のサイクルで第
2の溝54により形成されたリブ57bに位置決めされ
て押し付けられる。この金型51の基板2への押し付け
により、UV硬化樹脂3は金型51と基板2との間に充
填される。
【0077】このときも上記同様に、余分なUV硬化樹
脂3は、金型51に形成されている第1の溝53−1,
53−2及び第2の溝54−1,54−2に逃げて溜ま
り、金型51外にはみ出ることはない。
【0078】この金型51の押し付けに続いてUV光源
6が点灯し、UV光が基板2を透過してUV硬化樹脂3
に照射される。これにより、UV硬化樹脂3は、硬化し
て金型51の型が転写される。
【0079】この後、金型51は、金型押し付け機構5
2の駆動によって押し上げられ、これにより金型51が
離型され、この結果、2個目の回折格子などの光学部品
が製造される。これとともに光学部品の周りには、上記
同様に金型51の第1の溝53−1,53−2及び第2
の溝54−1,54−2に溜り、硬化したリブ57a、
57bが形成される。なお、金型51の第1の溝53−
1,53−2により形成されたリブは、以下、57aと
して表す。
【0080】これ以降、上記光学部品を製造するサイク
ルが繰り返されて複数の光学部品が製造されるが、この
うち金型51が基板2上のUV硬化樹脂3に押し付けら
れる場合、金型51は、図13(c) に示すように金型5
1の第1の溝53が、前回のサイクル、例えば現在がn
回目のサイクルであれば、前回(n−1)のサイクルに
おいて金型51の第1の溝53−1、53−1により形
成されたリブ57aに位置決めされて押し付けられる。
【0081】次に、基板2上における全ての光学部品の
製造が終了すると、各光学部品ごとに基板2が切断され
る。この切断は、図16に示すように各リブ57aを切
断しろに設定し、これらリブ57aにおいて基板2を切
断する。すなわち、余ったUV硬化樹脂3により形成さ
れたリブ57aを除去しながら各光学部品の切り出しが
できる。
【0082】このように上記第4の実施の形態において
は、金型51にUV硬化樹脂3の逃げ用の第1の溝53
及び第2の溝54を形成したので、UV硬化樹脂3のポ
ッティング量を高精度に制御しなくても、金型51の基
板2への押し付けのときにUV硬化樹脂3が逃げ用の第
1の溝53及び第2の溝54に逃げて溜まってUV硬化
樹脂3の金型51の外へのはみ出しが防止でき、基板2
上により多くの光学部品を製造できる。これにより、基
板2の材料歩留まりが向上し、製造コストを低減でき
る。
【0083】又、金型51の第1の溝53−1,53−
2及び第2の溝54−1,54−2は、金型51の両側
面側になるほど深く形成し、中央部ほど浅く形成してい
るので、これら溝53−1,53−2,54−1,54
−2中のUV硬化樹脂3の表面と接する部分a、bが鋭
角となり、金型51を離型するとき、小さな離型力で剥
がれ、この剥がれが順次伝播することにより、離型力が
減少する。
【0084】さらに、各溝53−1,53−2,54−
1,54−2で形成された各リブを切断しろにするの
で、余ったUV硬化樹脂3を有効に利用して各光学部品
の切り出しができる。
【0085】なお、上記第4の実施の形態は、次の通り
変形してもよい。例えば、上記第1の実施の形態で使用
した3つの位置検出器10,11,12や3つの歪みゲ
ージ13,14,15、3つの圧電アクチュエータ1
8,19,20を用い、金型51をUV硬化樹脂3を載
せた基板2に対して押し付けるときに金型4と基板2と
の間隔を各位置検出器10,11,12検出するととも
に押し付け力により発生する歪みを各歪みゲージ13,
14,15により検出してUV硬化樹脂3の厚さを制御
し、かつ離型時に金型4に加わる力に応じて発生する歪
みを検出して金型4の離型方向を制御するようにしても
よい。
【0086】又、上記第4の実施の形態では、基板保持
機構1をxy平面上に移動させているが、これに限らず
金型51とUV光源6とを一体的に、金型51の第1の
溝53と第2の溝54との間隔Pに対応した距離だけ移
動させるようにしてもよい。
【0087】
【発明の効果】以上詳記したように本発明によれば、樹
脂の厚み制御ができる光学部品製造方法及びその装置を
提供できる。又、本発明によれば、離型時の形状を高精
度に維持できる光学部品製造方法及びその装置を提供で
きる。
【0088】又、本発明によれば、光硬化樹脂の充填時
間を短縮して生産性を向上できる光学部品製造方法及び
その装置を提供できる。又、本発明によれば、光硬化樹
脂の金型の外へのはみ出しを防止でき、基板上により多
くの光学部品を製造できて基板の材料歩留まりを向上
し、製造コストを低減できる光学部品製造方法及びその
装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係わる光学部品製造装置の第1の実施
の形態を示す構成図。
【図2】同装置における押付け力(歪み)に対する樹脂
厚みの相関関係を示す図。
【図3】同装置における製造アルゴリズムを示す図。
【図4】圧電アクチュエータを用いたUV硬化樹脂の厚
さ制御を説明するための図。
【図5】歪みゲージを用いたUV硬化樹脂の厚さ制御を
説明するための図。
【図6】離型時の圧電アクチュエータの動作を説明する
ための図。
【図7】本発明に係わる光学部品製造装置の第2の実施
の形態を示す構成図。
【図8】同装置における金型保持具の金型の保持構造を
示す図。
【図9】同装置における製造アルゴリズムを示す図。
【図10】本発明に係わる光学部品製造装置の第3の実
施の形態を示す構成図。
【図11】本発明に係わる光学部品製造装置の第4の実
施の形態を示す構成図。
【図12】同装置における金型に形成された第1及び第
2の溝の構成図。
【図13】同装置による光学部品製造での金型の押し付
け位置を示す図。
【図14】金型に形成された各溝中のUV硬化樹脂の表
面と接する部分を示す図。
【図15】同各溝中のUV硬化樹脂の表面と接する部分
の拡大図。
【図16】リブを切断しろとした各光学部品の切り出し
を示す図。
【図17】従来の光学部品製造装置の構成図。
【符号の説明】
1:基板保持機構、 2:基板、 3:紫外線硬化樹脂(UV硬化樹脂)、 4:金型、 6,6−1,6−2:UV光源、 10,11,12:位置検出器、 13,14,15:歪みゲージ、 17:制御装置、 18,19,20:圧電アクチュエータ、 22,23:厚さ制御手段、 24:姿勢制御手段、 30:モータ、 32:制御装置、 33:金型保持具案内部品、 34:金型、 35:金型保持具、 50:基板移動機構、 51:金型、 53:第1の溝、 54:第2の溝、 52:金型押し付け機構、 53−1,53−2,54−1,54−2:溝、 55:樹脂吐き出し機構、 56:ポッティング制御機構。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI // B29K 105:24 B29L 11:00

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板上に載せられた光硬化樹脂を金型で
    押し付けながら前記光硬化樹脂に対して光を照射して前
    記金型を前記光硬化樹脂に転写する光学部品製造方法に
    おいて、 前記金型と前記基板との距離を検出して前記光硬化樹脂
    の厚さを制御することを特徴とする光学部品製造方法。
  2. 【請求項2】 基板上に載せられた光硬化樹脂を金型で
    押し付けながら前記光硬化樹脂に対して光を照射して前
    記金型を前記光硬化樹脂に転写する光学部品 製造方法において、前記基板から前記金型の離型方向を
    検出し、この離型方向に基づいて前記金型の姿勢を制御
    することを特徴とする光学部品製造方法。
  3. 【請求項3】 基板上に載せられた光硬化樹脂を金型で
    押し付けながら前記光硬化樹脂に対して光を照射して前
    記金型を前記光硬化樹脂に転写する光学部品製造方法に
    おいて、 前記金型を前記基板に押し付けるときに前記金型と前記
    基板との距離を検出して前記光硬化樹脂の厚さを制御
    し、かつ前記基板から前記金型を離型するときに前記金
    型の離型方向を検出し、この離型方向に基づいて前記金
    型の姿勢を制御することを特徴とする光学部品製造方
    法。
  4. 【請求項4】 前記光硬化樹脂を前記基板上に載せた
    後、前記基板を回転させて前記光硬化樹脂を前記基板上
    に被着させる工程を有することを特徴とする請求項1、
    2又は3記載の光学部品製造方法。
  5. 【請求項5】 基板上に載せられた光硬化樹脂を金型で
    押し付けながら前記光硬化樹脂に対して光を照射して前
    記金型を前記光硬化樹脂に転写する光学部品製造装置に
    おいて、 前記金型と前記基板との距離を検出する位置検出手段
    と、 この位置検出手段により検出された前記金型と前記基板
    との距離に基づいて前記金型と前記基板との間隔を調整
    して前記光硬化樹脂の厚さを制御する厚さ制御手段と、
    を具備したことを特徴とする光学部品製造装置。
  6. 【請求項6】 基板上に載せられた光硬化樹脂を金型で
    押し付けながら前記光硬化樹脂に対して光を照射して前
    記金型を前記光硬化樹脂に転写する光学部品製造装置に
    おいて、 前記基板から前記金型の離型方向を検出する離型方向検
    出手段と、 この離型方向検出手段により検出された離型方向に基づ
    いて前記金型の姿勢を制御する姿勢制御手段と、を具備
    したことを特徴とする光学部品製造装置。
  7. 【請求項7】 基板上に載せられた光硬化樹脂を金型で
    押し付けながら前記光硬化樹脂に対して光を照射して前
    記金型を前記光硬化樹脂に転写する光学部品製造装置に
    おいて、 前記金型と前記基板との距離を検出する位置検出手段
    と、 この位置検出手段により検出された前記金型と前記基板
    との距離に基づいて前記金型と前記基板との間隔を調整
    して前記光硬化樹脂の厚さを制御する厚さ制御手段と、 前記基板から前記金型の離型方向を検出する離型方向検
    出手段と、 この離型方向検出手段により検出された離型方向に基づ
    いて前記金型の姿勢を制御する姿勢制御手段と、を具備
    したことを特徴とする光学部品製造装置。
  8. 【請求項8】 基板上に載せられた光硬化樹脂を金型で
    押し付けながら前記光硬化樹脂に対して光を照射して前
    記金型を前記光硬化樹脂に転写する光学部品製造装置に
    おいて、 前記基板に対する前記金型の押し付け力を検出し、かつ
    前記基板から前記金型が離型するときに加わる力を検出
    する前記金型に設けられた複数の歪みゲージと、 これら歪みゲージにより検出された押し付け力に基づい
    て前記金型と前記基板との間隔を調整して前記光硬化樹
    脂の厚さを制御し、かつ前記各歪みゲージにより検出さ
    れた離型するときに加わる力に基づいて前記金型の姿勢
    を制御する複数のアクチュエータと、を具備したことを
    特徴とする光学部品製造装置。
  9. 【請求項9】 前記基板を保持する基板保持手段と、 前記光硬化樹脂を前記基板上に載せた後に、前記基板保
    持手段を回転させて前記光硬化樹脂を前記基板上に被着
    させるコーティング手段と、を備えたことを特徴とする
    請求項5、6、7又は8記載の光学部品製造装置。
  10. 【請求項10】 前記金型には、前記光硬化樹脂の逃げ
    用の溝が形成されたことを特徴とする請求項5、6、7
    又は8記載の光学部品製造装置。
  11. 【請求項11】 前記逃げ用の溝は、格子状に設けら
    れ、前記光学素子の型を溝で囲むように形成されたこと
    を特徴とする請求項10記載の光学部品製造装置。
  12. 【請求項12】 前記逃げ用の溝は、互いに直交する所
    定幅で所定深さの第1の溝と、互いに直交して前記第1
    の溝の幅よりも狭くかつ前記第1の溝の深さよりも浅い
    第2の溝とから成り、これら第1及び第2の溝を前記光
    学素子の型を囲んで形成したことを特徴とする請求項1
    0記載の光学部品製造装置。
  13. 【請求項13】 これら第1及び第2の溝は、前記光学
    素子の型から遠くなるほど深くするとともに近くなるほ
    ど浅く形成されたことを特徴とする請求項12記載の光
    学部品製造装置。
  14. 【請求項14】 請求項12又は13記載の光学部品製
    造装置における前記金型を、前記第1及び第2の溝の形
    成された間隔毎に前記基板上に載せられた前記光硬化樹
    脂に押し付け、この後、前記金型の前記第1の溝に逃げ
    て光の照射により硬化された前記光硬化樹脂を前記基板
    の切断しろとして用いることを特徴とする光学部品製造
    方法。
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