JP2006319258A - パターン描画システム、荷電ビーム描画方法、及びフォトマスク製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 荷電ビーム照射機構230、グローバル被覆率と後方散乱係数の関係を近似する近似関数、及び製品パターンのグローバル被覆率に基づいて、製品パターンの後方散乱係数を算出する係数算出部343、及び製品パターンの後方散乱係数に基づいて製品パターンを荷電ビーム照射機構で描画する際に用いる製品照射量を算出する照射量算出部124を備える
【選択図】 図1
Description
(1)式においてC1、C2、及びC3のそれぞれは定数を表す。
(2)式において、C4は定数を表す。さらに照射量算出部124は製品照射量条件DMを荷電ビームの照射時間に換算する。
上記のように、本発明の実施の形態を記載したが、この開示の一部をなす論述及び図面はこの発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施の形態、実施例及び運用技術が明らかとなろう。例えば、図2に示した第1乃至第4検査パターン15〜45の形状は任意であり、格子パターンに限らず、回路パターンでもかまわない。また検査マスク基板112をシリコンウェハに変更することで、半導体装置の製造工程に図1に示すパターン描画システムは適用可能である。さらに照射量算出部124が製品照射量条件DMの算出に利用する照射量関数は(2)式に限定されず、パターン描画システムの個々の機種に依存して適当な関数が利用可能である。したがって、本発明の技術的範囲は上記の説明からは妥当な特許請求の範囲に係る発明特定事項によってのみ定められるものである。
230…荷電ビーム照射機構
343…係数算出部
Claims (5)
- 荷電ビーム照射機構と、
グローバル被覆率と後方散乱係数の関係を近似する近似関数、及び製品パターンの前記グローバル被覆率に基づいて、前記製品パターンの前記後方散乱係数を算出する係数算出部と、
前記製品パターンの前記後方散乱係数に基づいて前記製品パターンを前記荷電ビーム照射機構で描画する際に用いる製品照射量を算出する照射量算出部
とを備えることを特徴とするパターン描画システム。 - グローバル被覆率と後方散乱係数の関係を近似する近似関数、及び製品パターンの前記グローバル被覆率に基づいて、前記製品パターンの前記後方散乱係数を算出するステップと、
前記製品パターンの前記後方散乱係数に基づいて前記製品パターンの描画に用いる製品照射量条件を算出するステップと、
前記製品照射量条件を用いて前記製品パターンを描画するステップ
とを有することを特徴とする荷電ビーム描画方法。 - 前記グローバル被覆率が異なる複数の検査パターンを、複数の近接効果補正された検査照射量条件の下、荷電ビームで描画するステップと、
前記複数の検査パターンのそれぞれの寸法変動を抑制する最適照射量条件を前記複数の検査照射量条件から抽出するステップと、
前記最適照射量条件に基づいて、前記複数の検査パターンのそれぞれにおける前記近似関数を取得するステップ
とをさらに有することを特徴とする請求項2に記載の荷電ビーム描画方法。 - 前記製品照射量条件を算出するステップは、前記製品パターンにおける前記近接効果が及ぶ範囲のローカル被覆率を取得する手順を含むことを特徴とする請求項2又は3に記載の荷電ビーム描画方法。
- グローバル被覆率と後方散乱係数の関係を近似する近似関数、及び製品パターンの前記グローバル被覆率に基づいて、前記製品パターンの前記後方散乱係数を算出するステップと、
製品遮光膜で覆われた製品マスク基板の上に製品レジスト膜を塗布するステップと、
前記製品パターンの前記後方散乱係数に基づいて算出される製品照射量条件で前記製品レジスト膜を照射して製品レジストパターンを形成するステップと、
前記製品レジストパターンをエッチングマスクにして前記製品遮光膜を選択的に除去し、前記製品マスク基板上に前記製品パターンを形成するステップ
とを有することを特徴とするフォトマスク製造方法。
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