JP2006303156A - 静電チャック装置および露光装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 本発明は、ウエハ等の基板を吸着するための静電チャック装置およびこの静電チャック装置を備えた露光装置に関し、テーブルへの静電チャックの着脱を容易,確実に行うことを目的とする。
【解決手段】 基板を吸着する静電気を発生させる静電気発生手段を備えた静電チャックと、前記静電チャックをテーブルに着脱自在に固定する固定手段と、前記テーブル側から前記静電気発生手段に非接触で給電する給電手段とを有することを特徴とする。
【選択図】 図1
【解決手段】 基板を吸着する静電気を発生させる静電気発生手段を備えた静電チャックと、前記静電チャックをテーブルに着脱自在に固定する固定手段と、前記テーブル側から前記静電気発生手段に非接触で給電する給電手段とを有することを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
本発明は、ウエハ等の基板を吸着するための静電チャック装置およびこの静電チャック装置を備えた露光装置に関する。
一般に、露光装置では、ウエハステージのテーブルに、ウエハを吸着する静電チャックが配置されている。このような静電チャックでは、ウエハの吸着面に付着物(パーティクル)が付着すると露光精度の低下に繋がる。特に、EUV露光装置では、焦点深度が浅く、面内変形精度が厳しいため、付着物の付着を極力防止する必要がある。
そして、従来、静電チャックに付着した付着物の除去は、テーブルに固定される静電チャックを所定の布等により手で拭き取ることにより行われている。
特開2004−165198号公報
そして、従来、静電チャックに付着した付着物の除去は、テーブルに固定される静電チャックを所定の布等により手で拭き取ることにより行われている。
しかしながら、上述したように、テーブルに固定される静電チャックを所定の布等により手で拭き取る方法を、真空雰囲気で使用されるEUV露光装置等に適用する場合には、真空環境を破る必要があり、装置の復帰に多大な時間が必要になるという問題があった。
一方、テーブルから静電チャックを離脱した状態で、静電チャックを所定の位置に搬送し静電チャックの付着物を除去することが可能になれば、真空環境を破る必要がなくなり、平均故障間隔(MTBF)を長くすることができる。そして、そのためには、テーブルへの静電チャックの着脱を容易,確実に行うことが必要になる。
一方、テーブルから静電チャックを離脱した状態で、静電チャックを所定の位置に搬送し静電チャックの付着物を除去することが可能になれば、真空環境を破る必要がなくなり、平均故障間隔(MTBF)を長くすることができる。そして、そのためには、テーブルへの静電チャックの着脱を容易,確実に行うことが必要になる。
本発明は、かかる従来の問題を解決するためになされたもので、テーブルへの静電チャックの着脱を容易,確実に行うことができる静電チャック装置、およびこの静電チャック装置を備えた露光装置を提供することを目的とする。
第1の発明の静電チャック装置は、基板を吸着する静電気を発生させる静電気発生手段を備えた静電チャックと、前記静電チャックをテーブルに着脱自在に固定する固定手段と、前記テーブル側から前記静電気発生手段に非接触で給電する給電手段とを有することを特徴とする。
第2の発明の静電チャック装置は、第1の発明の静電チャック装置において、前記固定手段は、磁力により前記静電チャックをテーブルに着脱自在に固定することを特徴とする。
第2の発明の静電チャック装置は、第1の発明の静電チャック装置において、前記固定手段は、磁力により前記静電チャックをテーブルに着脱自在に固定することを特徴とする。
第3の発明の静電チャック装置は、第1の発明または第2の発明の静電チャック装置において、前記給電手段は、電磁誘導により前記テーブル側から前記静電気発生手段に非接触で給電することを特徴とする。
第4の発明の静電チャック装置は、第2の発明または第3の発明の静電チャック装置において、前記固定手段は、前記テーブルに固定され永久磁石が配置されるテーブル側連結部と、前記静電チャックに固定され前記永久磁石を吸着する磁性体が配置されるチャック側連結部とを有することを特徴とする。
第4の発明の静電チャック装置は、第2の発明または第3の発明の静電チャック装置において、前記固定手段は、前記テーブルに固定され永久磁石が配置されるテーブル側連結部と、前記静電チャックに固定され前記永久磁石を吸着する磁性体が配置されるチャック側連結部とを有することを特徴とする。
第5の発明の静電チャック装置は、第4の発明の静電チャック装置において、前記給電手段は、前記テーブル側連結部に配置される1次コイルと、前記チャック側連結部に配置される2次コイルと、前記1次コイルへの交流電圧の印加により前記2次コイルに電磁誘導された交流を直流に変換する変換手段とを有することを特徴とする。
第6の発明の静電チャック装置は、第1の発明ないし第5の発明のいずれか1の発明の静電チャック装置において、前記静電気発生手段は、前記静電チャック内に配置され電圧の印加により静電気を発生させる電極を有し、前記静電チャックからの前記基板の離脱時に前記電極に前記電圧と逆の電圧を印加することを特徴とする。
第6の発明の静電チャック装置は、第1の発明ないし第5の発明のいずれか1の発明の静電チャック装置において、前記静電気発生手段は、前記静電チャック内に配置され電圧の印加により静電気を発生させる電極を有し、前記静電チャックからの前記基板の離脱時に前記電極に前記電圧と逆の電圧を印加することを特徴とする。
第7の発明の露光装置は、第1の発明ないし第6の発明のいずれか1の発明の静電チャック装置を有することを特徴とする。
第8の発明の露光装置は、第7の発明の露光装置において、前記静電チャックから付着物を除去する除去手段を備えた浄化部と、前記テーブルから離脱された前記静電チャックを前記浄化部に搬送する搬送手段とを有することを特徴とする。
第8の発明の露光装置は、第7の発明の露光装置において、前記静電チャックから付着物を除去する除去手段を備えた浄化部と、前記テーブルから離脱された前記静電チャックを前記浄化部に搬送する搬送手段とを有することを特徴とする。
本発明の静電チャック装置では、固定手段により静電チャックがテーブルに着脱自在に固定される。そして、給電手段によりテーブル側から静電気発生手段に非接触で給電することにより、静電チャックの静電気発生手段への給電が行われる。従って、テーブルへの静電チャックの着脱を容易,確実に行うことができる。
本発明の露光装置では、本発明の静電チャック装置を用いているため、テーブルから静電チャックを離脱した状態で静電チャックの付着物を除去することができる。
本発明の露光装置では、本発明の静電チャック装置を用いているため、テーブルから静電チャックを離脱した状態で静電チャックの付着物を除去することができる。
以下、本発明の実施形態を図面を用いて詳細に説明する。
(静電チャック装置の実施形態)
図1および図2は本発明の静電チャック装置の一実施形態を示している。
この実施形態では、静電チャック装置11がEUV露光装置のウエハステージ13に配置されている。
(静電チャック装置の実施形態)
図1および図2は本発明の静電チャック装置の一実施形態を示している。
この実施形態では、静電チャック装置11がEUV露光装置のウエハステージ13に配置されている。
ウエハステージ13は、テーブル15を有している。このテーブル15は、図2のX方向およびY方向にnmレベルの位置決め精度で移動可能とされている。テーブル15には、X方向の位置をレーザ干渉計(不図示)により測定するためのX座標測定用移動鏡17およびY方向の位置をレーザ干渉計(不図示)により測定するためのY座標測定用移動鏡19が直交して固定されている。
テーブル15には、ウエハ21を吸着する静電チャック装置11が配置されている。静電チャック装置11は円形状の静電チャック23を有している。この静電チャック23はテーブル15の略中心に位置されている。静電チャック23の上面には、ウエハ21を吸着する吸着面23aが形成されている。吸着面23aの内側には電極23bが配置されている。この電極23bに電圧を印加することにより吸着面23aに静電気が発生しウエハ21が吸着される。
静電チャック装置11は、静電チャック23をテーブル15に着脱自在に固定するテーブル側連結部25およびチャック側連結部27を有している。
テーブル側連結部25は、テーブル15の上面に形成される円形状の凹部15aに固定されている。そして、図3に示すように、凹部15aの中心から120度の角度を置いて3個配置されている。
テーブル側連結部25は、テーブル15の上面に形成される円形状の凹部15aに固定されている。そして、図3に示すように、凹部15aの中心から120度の角度を置いて3個配置されている。
図4の(a)および(b)はテーブル側連結部25の詳細を示している。テーブル側連結部25は取付部材29およびコア(鉄心)部材31を有している。取付部材29は矩形環状をしており長手方向の外側には取付穴29aが形成されている。この取付穴29aにボルト(不図示)を挿入して取付部材29がテーブル15の凹部15aの底面に固定される。取付部材29には支持部材33を介してコア部材31が固定されている。コア部材31は3個の突出部31aを有している。中央の突出部31aの先端には永久磁石35が固定されている。そして、この中央の突出部31aに1次コイル37が巻回されている。この1次コイル37には電源供給部39(図1に示す)からの電圧が印加される。
チャック側連結部27は、静電チャック23の下面(吸着面23aと反対側)に固定されている。そして、図5に示すように、静電チャック23の中心から120度の角度を置いて3個配置されている。このチャック側連結部27の位置はテーブル側連結部25の位置に対応する位置とされている。
図6の(a)および(b)はチャック側連結部27の詳細を示している。チャック側連結部27はコア(鉄心)部材41を有している。コア部材41は取付部材(不図示)により静電チャック23の下面に固定されている。コア部材41は3個の突出部41aを有している。中央の突出部41aには2次コイル45が巻回されている。
図6の(a)および(b)はチャック側連結部27の詳細を示している。チャック側連結部27はコア(鉄心)部材41を有している。コア部材41は取付部材(不図示)により静電チャック23の下面に固定されている。コア部材41は3個の突出部41aを有している。中央の突出部41aには2次コイル45が巻回されている。
静電チャック23の下面の中央には、図5に示したように、集電変圧部47が配置されている。この集電変圧部47は静電チャック23内に配置される電極23bに配線23c(図1に示す)を介して接続されている。また、集電変圧部47にはチャック側連結部27に配置される2次コイル45が配線45aを介して接続されている。集電変圧部47は1次コイル37への交流電圧の印加により2次コイル45に電磁誘導された交流を直流に変換するAC/DC変換手段を有している。すなわち、テーブル側連結部25の1次コイル37に電源供給部39から交流電圧を印加すると、電磁誘導によりチャック側連結部27の2次コイル45に交流が発生するが、この交流が直流に変換される。この直流は集電変圧部47において所定の電圧に変圧され電極23bに印加される。
また、集電変圧部47は、静電チャック23からのウエハ21の離脱時に、ウエハ21の吸着時に電極23bに印加される電圧と逆の逆電圧を電極23bに印加する。この逆電圧の印加は電源供給部39から1次コイル37への交流電圧の印加が停止したこと、すなわち、2次コイル45に交流が発生していないことを検出して行われる。この逆電圧の印加により静電チャック23からウエハ21を確実に離脱することが可能になる。
上述した静電チャック装置11では、テーブル15への静電チャック23の固定が以下述べるようにして行われる。先ず、図7に示すように、静電チャック23を搬送アーム49により把持した状態でテーブル15の上方に位置させる。そして、搬送アーム49により静電チャック23を下降させて、図1に示したように、テーブル15に固定されるテーブル側連結部25に、静電チャック23のチャック側連結部27を載置する。
この時には、テーブル側連結部25の1次コイル37に電源供給部39から直流電圧が印加されており、テーブル側連結部25のコア部材31に配置される永久磁石35が消磁されている。すなわち、1次コイル37に、1次コイル37に発生する磁束が永久磁石35の磁束と反対で同一になるように直流電圧が印加され、永久磁石35の磁束が消去されている。従って、この時には、静電チャック23を自由に移動することが可能であり、搬送アーム49により静電チャック23が位置決めされ、テーブル側連結部25の所定の位置に静電チャック23のチャック側連結部27が載置される。
そして、この状態から、1次コイル37への直流電圧の印加をオフすることにより、テーブル側連結部25のコア部材31の永久磁石35の消磁が解除される。これにより、チャック側連結部27のコア部材41の中央の突出部41aが、テーブル側連結部25のコア部材31の中央の永久磁石35に吸着され固定される。
そして、この状態から静電チャック23の吸着面23aにウエハ21を載置し、テーブル側連結部25の1次コイル37に電源供給部39から交流電圧を印加すると、静電チャック23の吸着面23aにウエハ21が吸着される。すなわち、テーブル側連結部25の1次コイル37に電源供給部39から交流電圧を印加すると、電磁誘導によりチャック側連結部27の2次コイル45に交流が発生する。そして、2次コイル45に発生した交流が集電変圧部47により直流に変換される。この直流は集電変圧部47において所定の電圧に変圧され電極23bに印加される。この電極23bへの電圧の印加により吸着面23aに静電気が発生しウエハ21が吸着面23aに吸着される。
そして、この状態から静電チャック23の吸着面23aにウエハ21を載置し、テーブル側連結部25の1次コイル37に電源供給部39から交流電圧を印加すると、静電チャック23の吸着面23aにウエハ21が吸着される。すなわち、テーブル側連結部25の1次コイル37に電源供給部39から交流電圧を印加すると、電磁誘導によりチャック側連結部27の2次コイル45に交流が発生する。そして、2次コイル45に発生した交流が集電変圧部47により直流に変換される。この直流は集電変圧部47において所定の電圧に変圧され電極23bに印加される。この電極23bへの電圧の印加により吸着面23aに静電気が発生しウエハ21が吸着面23aに吸着される。
一方、静電チャック23へのウエハ21の吸着の解除は、電源供給部39からの1次コイル37への交流電圧の印加をオフにすることにより行われる。すなわち、1次コイル37への交流電圧の印加をオフにすると、電磁誘導による2次コイル45の交流の発生が停止する。集電変圧部47はこの停止を検出し電極23bへの直流電圧の印加を停止する。これにより吸着面23aへの静電気の発生が無くなりウエハ21の吸着面23aへの吸着が解除される。この実施形態では、電極23bへの直流電圧の印加の停止時に、集電変圧部47により、ウエハ21の吸着時に電極23bに印加される電圧と逆の逆電圧を印加する。この逆電圧の印加により吸着面23aに残留していた静電気が除去され、吸着面23aからウエハ21を確実に離脱することが可能になる。なお、逆電圧の印加はコンデンサ、蓄電池等に貯蔵された電気を用いて行われる。
また、テーブル15からの静電チャック23の離脱は、テーブル側連結部25の1次コイル37に電源供給部39から直流電圧を印加することにより行われる。すなわち、1次コイル37に、1次コイル37に発生する磁束が永久磁石35の磁束と反対で同一になるように直流電圧が印加され、永久磁石35の磁束が消去される。そして、この状態から、搬送アーム49により静電チャック23を上昇させて、図7に示したように、テーブル15から静電チャック23が離脱される。
上述した静電チャック装置11では、テーブル15に固定されるテーブル側連結部25に静電チャック23に固定されるチャック側連結部27を磁力により固定するようにしたので、静電チャック23をテーブル15に着脱自在に固定することができる。そして、テーブル側連結部25の1次コイル37に交流電圧を印加し、チャック側連結部27の2次コイル45に電磁誘導により交流電圧を発生させるようにしたので、テーブル15側から静電チャック23側に非接触で給電することが可能になる。従って、テーブル15への静電チャック23の着脱を容易,確実に行うことができる。
(露光装置の実施形態)
図8は、上述した静電チャック装置11が配置されるEUV露光装置の一部を示している。
(露光装置の実施形態)
図8は、上述した静電チャック装置11が配置されるEUV露光装置の一部を示している。
なお、この実施形態において上述した静電チャック装置11の実施形態と同一の部材には、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
この実施形態の露光装置は、露光チャンバ51、ロボットチャンバ53、ウエハ収容チャンバ55、浄化チャンバ57およびロードロックチャンバ59を備えている。そして、各チャンバ51,53,55,57,59は真空雰囲気とされている。
この実施形態の露光装置は、露光チャンバ51、ロボットチャンバ53、ウエハ収容チャンバ55、浄化チャンバ57およびロードロックチャンバ59を備えている。そして、各チャンバ51,53,55,57,59は真空雰囲気とされている。
露光チャンバ51にはウエハステージ13が配置されている。ウエハステージ13のテーブル15には上述した静電チャック装置11が配置されている。
ロボットチャンバ53は露光チャンバ51に隣接して設けられている。ロボットチャンバ53には、真空ロボット61が配置されている。真空ロボット61は搬送アーム49を備えている。
ロボットチャンバ53は露光チャンバ51に隣接して設けられている。ロボットチャンバ53には、真空ロボット61が配置されている。真空ロボット61は搬送アーム49を備えている。
ウエハ収容チャンバ55にはウエハ21が収容されている。
浄化チャンバ57の入り口にはゲートバルブ63が設けられている。また、浄化チャンバ57の内部には静電チャック23から付着物を除去する除去装置65が設けられている。
ロードロックチャンバ59のロボットチャンバ53側および大気側にはゲートバルブ67,69が配置されている。また、大気側には大気ロボット71が配置されている。
浄化チャンバ57の入り口にはゲートバルブ63が設けられている。また、浄化チャンバ57の内部には静電チャック23から付着物を除去する除去装置65が設けられている。
ロードロックチャンバ59のロボットチャンバ53側および大気側にはゲートバルブ67,69が配置されている。また、大気側には大気ロボット71が配置されている。
この露光装置では、静電チャック23の浄化が以下述べるようにして行われる。
先ず、ウエハステージ13のテーブル15から静電チャック装置11の静電チャック23が離脱される。離脱された静電チャック23は真空ロボット61の搬送アーム49により浄化チャンバ57内に搬入される。この搬入時には、ゲートバルブ63が開かれ、搬入後にゲートバルブ63が閉じられる。そして、ゲートバルブ63を閉じた状態で、除去装置65により静電チャック23から付着物が除去される。この除去は、静電チャック23に空気等のガスを噴出すること、あるいは、静電チャック23に粘着フィルムを押圧することにより行われる。そして、除去後に浄化チャンバ57内の浄化が行われ、ゲートバルブ63が開かれ、静電チャック23が搬送アーム49によりウエハステージ13のテーブル15上に固定される。
先ず、ウエハステージ13のテーブル15から静電チャック装置11の静電チャック23が離脱される。離脱された静電チャック23は真空ロボット61の搬送アーム49により浄化チャンバ57内に搬入される。この搬入時には、ゲートバルブ63が開かれ、搬入後にゲートバルブ63が閉じられる。そして、ゲートバルブ63を閉じた状態で、除去装置65により静電チャック23から付着物が除去される。この除去は、静電チャック23に空気等のガスを噴出すること、あるいは、静電チャック23に粘着フィルムを押圧することにより行われる。そして、除去後に浄化チャンバ57内の浄化が行われ、ゲートバルブ63が開かれ、静電チャック23が搬送アーム49によりウエハステージ13のテーブル15上に固定される。
この実施形態の露光装置では、静電チャック23を搬送アーム49により浄化チャンバ57内に搬送し、浄化チャンバ57内において静電チャック23の付着物を除去するようにしたので、露光装置の真空環境を破る必要がなくなり、平均故障間隔(MTBF)を長くすることができる。
(露光装置の実施形態)
図9は、上述した静電チャック装置11が配置されるEUV露光装置を模式化して示している。なお、この実施形態において第1の実施形態と同一の部材には、同一の符号を付している。
(露光装置の実施形態)
図9は、上述した静電チャック装置11が配置されるEUV露光装置を模式化して示している。なお、この実施形態において第1の実施形態と同一の部材には、同一の符号を付している。
この実施形態では、露光の照明光としてEUV光が用いられる。EUV光は0.1〜400nmの間の波長を持つもので、この実施形態では特に1〜50nm程度の波長が好ましい。投影系は像光学系システム101を用いたもので、ウエハ21上にレチクル103によるパターンの縮小像を形成するものである。
ウエハ21上に照射されるパターンは、レチクルステージ102の下側に静電チャック104を介して配置されている反射型のレチクル103により決められる。この反射型のレチクル103は、真空ロボットによって搬入および搬出される(真空ロボットの図示は省略する)。また、ウエハ21はウエハステージ13のテーブル15上に静電チャック装置11を介して配置されている。典型的には、露光はステップ・スキャンによりなされる。
ウエハ21上に照射されるパターンは、レチクルステージ102の下側に静電チャック104を介して配置されている反射型のレチクル103により決められる。この反射型のレチクル103は、真空ロボットによって搬入および搬出される(真空ロボットの図示は省略する)。また、ウエハ21はウエハステージ13のテーブル15上に静電チャック装置11を介して配置されている。典型的には、露光はステップ・スキャンによりなされる。
露光時の照明光として使用するEUV光は大気に対する透過性が低いので、EUV光が通過する光経路は、適当な真空ポンプ107を用いて真空に保たれた真空チャンバ106に囲まれている。またEUV光はレーザプラズマX線源によって生成される。レーザプラズマX線源はレーザ源108(励起光源として作用)とキセノンガス供給装置109からなっている。レーザプラズマX線源は真空チャンバ110によって取り囲まれている。レーザプラズマX線源によって生成されたEUV光は真空チャンバ110の窓111を通過する。
放物面ミラー113は、キセノンガス放出部の近傍に配置されている。放物面ミラー113はプラズマによって生成されたEUV光を集光する。放物面ミラー113は集光光学系を構成し、ノズル112からのキセノンガスが放出される位置の近傍に焦点位置がくるように配置されている。EUV光は放物面ミラー113の多層膜で反射し、真空チャンバ110の窓111を通じて集光ミラー114へと達する。集光ミラー114は反射型のレチクル103へとEUV光を集光、反射させる。EUV光は集光ミラー114で反射され、レチクル103の所定の部分を照明する。すなわち、放物面ミラー113と集光ミラー114はこの装置の照明システムを構成する。
レチクル103は、EUV光を反射する多層膜とパターンを形成するための吸収体パターン層を持っている。レチクル103でEUV光が反射されることによりEUV光は「パターン化」される。パターン化されたEUV光は像光学システム101を通じてウエハ21に達する。
この実施形態の像光学システム101は、凹面第1ミラー115a、凸面第2ミラー115b、凸面第3ミラー115c、凹面第4ミラー115dの4つの反射ミラーからなっている。各ミラー115a〜115dにはEUV光を反射する多層膜が備えられている。
この実施形態の像光学システム101は、凹面第1ミラー115a、凸面第2ミラー115b、凸面第3ミラー115c、凹面第4ミラー115dの4つの反射ミラーからなっている。各ミラー115a〜115dにはEUV光を反射する多層膜が備えられている。
レチクル103により反射されたEUV光は第1ミラー115aから第4ミラー115dまで順次反射されて、レチクル103パターンの縮小(例えば、1/4、1/5、1/6)された像を形成する。像光学系システム101は、像の側(ウエハ21の側)でテレセントリックになるようになっている。
レチクル103は可動のレチクルステージ102によって少なくともX−Y平面内で支持されている。ウエハ21は、好ましくはX,Y,Z方向に可動なウエハステージ13によって支持されている。ウエハ21上のダイを露光するときには、EUV光が照明システムによりレチクル103の所定の領域に照射され、レチクル103とウエハ21は像光学系システム101に対して像光学システム101の縮小率に従った所定の速度で動く。このようにして、レチクルパターンはウエハ21上の所定の露光範囲(ダイに対して)に露光される。
レチクル103は可動のレチクルステージ102によって少なくともX−Y平面内で支持されている。ウエハ21は、好ましくはX,Y,Z方向に可動なウエハステージ13によって支持されている。ウエハ21上のダイを露光するときには、EUV光が照明システムによりレチクル103の所定の領域に照射され、レチクル103とウエハ21は像光学系システム101に対して像光学システム101の縮小率に従った所定の速度で動く。このようにして、レチクルパターンはウエハ21上の所定の露光範囲(ダイに対して)に露光される。
露光の際には、ウエハ21上のレジストから生じるガスが像光学システム101のミラー115a〜115dに影響を与えないように、ウエハ21はパーティション116の後ろに配置されることが望ましい。パーティション116は開口116aを持っており、それを通じてEUV光がミラー115dからウエハ21へと照射される。パーティション116内の空間は真空ポンプ117により真空排気されている。このように、レジストに照射することにより生じるガス状のゴミがミラー115a〜115dあるいはレチクル103に付着するのを防ぐ。それゆえ、これらの光学性能の悪化を防いでいる。
この実施形態の露光装置では、上述した第1の実施形態の静電チャック装置11を用いているため、テーブル15から静電チャック23を離脱した状態で静電チャック23の付着物を除去することが可能になる。従って、露光装置の真空環境を破る必要がなくなり、平均故障間隔(MTBF)を長くすることができる。
(実施形態の補足事項)
以上、本発明を上述した実施形態によって説明してきたが、本発明の技術的範囲は上述した実施形態に限定されるものではなく、例えば、以下のような形態でも良い。
(実施形態の補足事項)
以上、本発明を上述した実施形態によって説明してきたが、本発明の技術的範囲は上述した実施形態に限定されるものではなく、例えば、以下のような形態でも良い。
(1)上述した実施形態では、テーブル側連結部25の1次コイル37とチャック側連結部27の2次コイル45との電磁誘導により、テーブル15側から静電チャック23側に非接触で給電した例について説明したが、例えば、テーブル15側から光を供給し静電チャック23側で光電変換することによりテーブル15側から静電チャック23側に非接触で給電するようにしても良い。
(2)上述した実施形態では、テーブル15の上側に静電チャック装置11を配置した例について説明したが、テーブル15の下側に配置するようにしても良い。
(3)上述した実施形態では、静電チャック装置11にウエハ21を吸着した例について説明したが、レチクルを吸着するようにしても良い。
(4)上述した実施形態では、静電チャック23に冷媒配管等を設けることが困難になるため、静電チャック23の冷却が必要な場合には、例えば輻射冷却等の非接触冷却により静電チャック23を冷却するのが望ましい。
(3)上述した実施形態では、静電チャック装置11にウエハ21を吸着した例について説明したが、レチクルを吸着するようにしても良い。
(4)上述した実施形態では、静電チャック23に冷媒配管等を設けることが困難になるため、静電チャック23の冷却が必要な場合には、例えば輻射冷却等の非接触冷却により静電チャック23を冷却するのが望ましい。
(5)上述した実施形態では、EUV露光装置に本発明の静電チャック装置11を適用した例について説明したが、パターンを転写するエネルギ線は特に限定されず、光、紫外線、X線(軟X線等)、荷電粒子線(電子線、イオンビーム)等であっても良い。
11:静電チャック装置、13:ウエハステージ、15:テーブル、21:ウエハ、23:静電チャック、23a:吸着面、23b:電極、25:テーブル側連結部、27:チャック側連結部、35:永久磁石、37:1次コイル、39:電源供給部、45:2次コイル、47:集電変圧部、49:搬送アーム。
Claims (8)
- 基板を吸着する静電気を発生させる静電気発生手段を備えた静電チャックと、
前記静電チャックをテーブルに着脱自在に固定する固定手段と、
前記テーブル側から前記静電気発生手段に非接触で給電する給電手段と、
を有することを特徴とする静電チャック装置。 - 請求項1記載の静電チャック装置において、
前記固定手段は、磁力により前記静電チャックをテーブルに着脱自在に固定することを特徴とする静電チャック装置。 - 請求項1または請求項2記載の静電チャック装置において、
前記給電手段は、電磁誘導により前記テーブル側から前記静電気発生手段に非接触で給電することを特徴とする静電チャック装置。 - 請求項2または請求項3記載の静電チャック装置において、
前記固定手段は、
前記テーブルに固定され永久磁石が配置されるテーブル側連結部と、
前記静電チャックに固定され前記永久磁石を吸着する磁性体が配置されるチャック側連結部と、
を有することを特徴とする静電チャック装置。 - 請求項4記載の静電チャック装置において、
前記給電手段は、
前記テーブル側連結部に配置される1次コイルと、
前記チャック側連結部に配置される2次コイルと、
前記1次コイルへの交流電圧の印加により前記2次コイルに電磁誘導された交流を直流に変換する変換手段と、
を有することを特徴とする静電チャック装置。 - 請求項1ないし請求項5のいずれか1項記載の静電チャック装置において、
前記静電気発生手段は、前記静電チャック内に配置され電圧の印加により静電気を発生させる電極を有し、前記静電チャックからの前記基板の離脱時に前記電極に前記電圧と逆の電圧を印加することを特徴とする静電チャック装置。 - 請求項1ないし請求項6のいずれか1項記載の静電チャック装置を有することを特徴とする露光装置。
- 請求項7記載の露光装置において、
前記静電チャックから付着物を除去する除去手段を備えた浄化部と、
前記テーブルから離脱された前記静電チャックを前記浄化部に搬送する搬送手段と、
を有することを特徴とする露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005122158A JP2006303156A (ja) | 2005-04-20 | 2005-04-20 | 静電チャック装置および露光装置 |
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JP2006303156A true JP2006303156A (ja) | 2006-11-02 |
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ID=37471093
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JP2005122158A Pending JP2006303156A (ja) | 2005-04-20 | 2005-04-20 | 静電チャック装置および露光装置 |
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JP (1) | JP2006303156A (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0851137A (ja) * | 1994-08-08 | 1996-02-20 | Shinko Electric Co Ltd | 半導体製造装置における搬送装置 |
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JP2005093654A (ja) * | 2003-09-17 | 2005-04-07 | Canon Inc | ステージ装置、該ステージ装置を用いた露光装置および該露光装置を用いたデバイス製造方法 |
-
2005
- 2005-04-20 JP JP2005122158A patent/JP2006303156A/ja active Pending
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