JP2006332519A - 静電チャック装置および露光装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 基板着脱状態を高い精度で検知できる静電チャック装置を提供する。
【解決手段】 吸着面に基板を静電吸着する静電チャックと、前記静電チャックに内蔵され、前記吸着面における基板着脱状態を前記基板に非接触で検知するセンサと、を有することを特徴とする。
【選択図】 図1
【解決手段】 吸着面に基板を静電吸着する静電チャックと、前記静電チャックに内蔵され、前記吸着面における基板着脱状態を前記基板に非接触で検知するセンサと、を有することを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
本発明は、電子ビーム投影露光装置やEUV露光装置等において、ウエハ等の基板を吸着保持する静電チャック装置に関する。
露光装置のステージ上でウエハ等の基板を保持する手段として特許文献1に示すような静電チャックが公知である。特に、真空雰囲気下では真空チャックを使用できないため、電子ビーム投影露光装置や極端紫外線を用いるEUV露光装置などでは静電チャックで基板を保持することが一般的である。
特開平9−153540号公報
しかし、静電チャックで基板を保持する場合には、静電チャックや基板の帯電によって電源切断時においても残留吸着力が生じるおそれがある。かかる場合には基板搬出時に搬送機構に過大な負荷が生じる。また、搬出時に基板が跳ね上がってしまうなどの不測の事態が生じるおそれもある。
一方、真空チャックでは吸着時の圧力によって基板の着脱状態を検知できるが、静電チャックでは基板着脱状態の検知が比較的困難であるため、基板の着脱状態等を確実に検知できる手段が要望されている。
一方、真空チャックでは吸着時の圧力によって基板の着脱状態を検知できるが、静電チャックでは基板着脱状態の検知が比較的困難であるため、基板の着脱状態等を確実に検知できる手段が要望されている。
本発明は上記従来技術の欠点を除くためにされたものであり、その目的は、基板着脱状態を高い精度で検知できる静電チャック装置を提供することである。
第1の発明に係る静電チャック装置は、吸着面に基板を静電吸着する静電チャックと、前記静電チャックに内蔵され、前記吸着面における基板着脱状態を前記基板に非接触で検知するセンサと、を有することを特徴とする。
第2の発明は、第1の発明において、前記センサが光電センサであることを特徴とする。
第2の発明は、第1の発明において、前記センサが光電センサであることを特徴とする。
第3の発明は、第2の発明において、前記光電センサの出力に基づいて前記吸着面と前記基板との距離を検出する測距部をさらに有することを特徴とする。
第4の発明は、第1から第3のいずれかの発明において、前記センサは前記吸着面に少なくとも3つ以上配置され、前記センサの出力に基づき基板の位置ずれを検知する位置ずれ検知部をさらに有することを特徴とする。
第4の発明は、第1から第3のいずれかの発明において、前記センサは前記吸着面に少なくとも3つ以上配置され、前記センサの出力に基づき基板の位置ずれを検知する位置ずれ検知部をさらに有することを特徴とする。
第5の発明に係る露光装置は、第1から第4の発明のいずれかの静電チャック装置を備えることを特徴とする。
本発明では、静電チャックに内蔵された非接触式のセンサによって基板着脱状態を高い精度で検知できる。
(静電チャック装置の実施形態)
図1から図4は本発明の静電チャック装置の一実施形態を示す図である。図1に示すように、本実施形態の静電チャック装置10はEUV露光装置内のウエハステージ11上に配置されている。この静電チャック装置10は、搬送ロボット12が搬送するウエハWをウエハステージ11上に吸着保持する。また、静電チャック装置10、ウエハステージ11および搬送ロボット12はいずれも制御部13に接続されている。
図1から図4は本発明の静電チャック装置の一実施形態を示す図である。図1に示すように、本実施形態の静電チャック装置10はEUV露光装置内のウエハステージ11上に配置されている。この静電チャック装置10は、搬送ロボット12が搬送するウエハWをウエハステージ11上に吸着保持する。また、静電チャック装置10、ウエハステージ11および搬送ロボット12はいずれも制御部13に接続されている。
ウエハステージ11は、粗動ステージ14と微動テーブル15とを有している。粗動ステージ14はY方向(図1の紙面垂直方向)に延長する案内柱16に沿ってY方向に移動可能となっている。また、粗動ステージ14は不図示の案内機構によってX方向(図1の紙面左右方向)に移動可能となっている。さらに、粗動ステージ14上には複数のZアクチュエータ17が配置されている。なお、粗動ステージ14のX−Y方向の位置決め精度はμmレベルの精度に設定されている。
一方、微動テーブル15は、粗動ステージ14の上側でZアクチュエータ17に支持されている。この微動テーブル15は、Zアクチュエータ17の駆動によって図1の紙面上下方向(Z方向)へ移動可能となっている。また、微動テーブル15はボイスコイルモータ等のXYアクチュエータ18によりX−Y方向に微動可能となっている。なお、微動テーブル15のX−Y方向の位置決め精度はnmレベルの精度に設定されている。
そして、静電チャック装置10は微動テーブル15の上側に配置されている。静電チャック装置10は微動テーブル15のほぼ中心に配置され、3箇所の固定部19で微動テーブル15に固定されている。この静電チャック装置10は、絶縁部20と、2つの電極21と、光電センサ22と、を有している。
静電チャック装置10の絶縁部20は上面側は水平な吸着面20aを構成する。吸着面20aの平面形状はウエハWとほぼ同じ大きさの円形に設定されている。なお、絶縁部20の材質としては、例えば、アルミナ(Al2O3)、PBN(パイロリティック・ボロン・ナイトライト)、窒化ケイ素(SiN)などが挙げられる。また、電極21は略半円板状に形成されており、それぞれ不図示の制御電源に接続されている。2つの電極21は、絶縁部20の内部または下部において吸着面と水平に並設されている。
静電チャック装置10の絶縁部20は上面側は水平な吸着面20aを構成する。吸着面20aの平面形状はウエハWとほぼ同じ大きさの円形に設定されている。なお、絶縁部20の材質としては、例えば、アルミナ(Al2O3)、PBN(パイロリティック・ボロン・ナイトライト)、窒化ケイ素(SiN)などが挙げられる。また、電極21は略半円板状に形成されており、それぞれ不図示の制御電源に接続されている。2つの電極21は、絶縁部20の内部または下部において吸着面と水平に並設されている。
光電センサ22は吸着面20aの外縁部に3つ配置されている。光電センサ22の位置関係は120度の角度をおいて回転対称をなし、吸着面20aの円周方向に光電センサ22が等間隔に配置されている。また、各光電センサ22は、ウエハWに光束を照射する投光部と、ウエハWの反射光束を受光する受光部とをそれぞれ有している。この光電センサ22の出力は制御部13に出力される。
搬送ロボット12は、下面側の静電チャック23によってウエハWを吊り下げ保持する搬送アーム24と、搬送アーム24を移動させる可動アーム25とを有している。この搬送ロボット12は、ウエハステージ11とウエハ搬送ライン(不図示)との間でウエハWの受け渡しを行う。
制御部13は、静電チャック装置10、ウエハステージ11および搬送ロボット12の動作を所定のプログラムに従ってそれぞれ制御する。また、制御部13は、各光電センサ22の出力に基づいて、センサ配置箇所におけるウエハWの有無と、吸着面20aからウエハWまでの距離Lとを検出する。
制御部13は、静電チャック装置10、ウエハステージ11および搬送ロボット12の動作を所定のプログラムに従ってそれぞれ制御する。また、制御部13は、各光電センサ22の出力に基づいて、センサ配置箇所におけるウエハWの有無と、吸着面20aからウエハWまでの距離Lとを検出する。
以下、本実施形態の静電チャック装置10の動作を説明する。搬入工程では、制御部13は搬送ロボット12を動作させて静電チャック装置10の吸着面20aの位置までウエハWを搬送する。次に、制御部13は微動テーブル15を上昇させる。これにより、ウエハWの下面と静電チャック装置10の吸着面20aとが接触する。次に、制御部13は搬送ロボット12にウエハWを解放させる一方で、静電チャック装置10の電極21に電圧を印加する。これにより、静電チャック装置10に静電気が発生してウエハWが吸着面20aに吸着される。そして、搬送アーム24から静電チャック装置10へウエハWが受け渡された後に、制御部13は微動テーブル15を下降させる。以上で搬入工程が終了する。
また、搬出工程では、搬送アーム24がウエハWの上方に位置決めされた状態で、制御部13は微動テーブル15を上昇させる。次に、制御部13は静電チャック装置10の電極21の電圧印加を解除する一方で、搬送ロボット12の搬送アーム24にウエハWを吸着させる。その後、制御部13は微動テーブル15を下降させる。これにより、ウエハWが静電チャック装置10の吸着面20aから離脱する。そして、制御部13は搬送ロボット12を動作させて露光後のウエハWを搬出する。以上で搬出工程が終了する。
ここで、上記の搬入工程または搬出工程では、制御部13は光電センサ22の出力に基づいて静電チャック装置10の吸着面20aとウエハWとの距離Lを常時監視する。したがって、制御部13は、搬入工程においてウエハWが静電チャック装置10に吸着されていない状態や、搬出工程において静電チャック装置10にウエハWが残留吸着力で吸着したままの状態などを検知できる。また、図4に示すように、ウエハWの位置が静電チャック装置10の吸着面20aと合致しない場合は3つの光電センサ22間において着脱状態の出力結果が異なるため、制御部13はかかるズレ状態も検知できる。そして、上記のような異常検出時には、制御部13はウエハWの搬入または搬送を停止するとともに外部に警報を出力する。
本実施形態では、静電チャック装置10におけるウエハWの搬送時の異常やウエハWの位置ズレを光電センサ22によって高い精度で検知できるので、露光装置内におけるウエハWの異常状態を迅速に解消できる。また、本実施形態では、静電チャック装置10の吸着面20aの外縁部に3つの光電センサを等間隔に配置することで、ウエハWの位置ズレを高精度かつ容易に検知できる。
(露光装置の実施形態)
図5は、上述した静電チャック装置が配置されるEUV露光装置100を模式化して示している。なお、この実施形態において上記実施形態と同一部材には同一の符号を付して説明を省略する。
この実施形態では、露光の照明光としてEUV光が用いられる。EUV光の波長は0.1〜400nmの範囲であるが、この実施形態では1〜50nm程度の波長のEUV光が用いられる。投影系は像光学システム101を用いたもので、ウエハW上にはレチクル103によるパターンの縮小像が形成されることとなる。
図5は、上述した静電チャック装置が配置されるEUV露光装置100を模式化して示している。なお、この実施形態において上記実施形態と同一部材には同一の符号を付して説明を省略する。
この実施形態では、露光の照明光としてEUV光が用いられる。EUV光の波長は0.1〜400nmの範囲であるが、この実施形態では1〜50nm程度の波長のEUV光が用いられる。投影系は像光学システム101を用いたもので、ウエハW上にはレチクル103によるパターンの縮小像が形成されることとなる。
ウエハW上に照射されるパターンは、レチクルステージ102の下側に静電チャック104を介して配置される反射型のレチクル103により決められる。このレチクル103は搬送ロボット(不図示)により搬入、搬出される。また、ウエハWはウエハステージ11上に静電チャック装置10を介して配置される。このウエハWは上記実施形態の搬送ロボット12により搬入、搬出される。典型的には、露光はステップ・スキャンによりなされる。
露光時の照明光に使用されるEUV光は大気に対する透過性が低いので、EUV光が通過する光経路は、真空ポンプ107で真空に保たれた真空チャンバ106に囲まれている。また、EUV光はレーザプラズマX線源によって生成される。レーザプラズマX線源はレーザ源108(励起光源として作用)とキセノンガス供給装置109からなっている。このレーザプラズマX線源は真空チャンバ110で取り囲まれており、レーザプラズマX線源で生成されたEUV光は真空チャンバ110の窓111を通過する。
放物面ミラー113は、キセノンガス放出部の近傍に配置されている。放物面ミラー113はプラズマによって生成されたEUV光を集光する集光光学系を構成する。この放物面ミラー113の焦点位置は、ノズル112からのキセノンガスが放出される位置の近傍にくるように調節されている。EUV光は放物面ミラー113の多層膜で反射し、真空チャンバ110内の窓111を通じて集光ミラー114へと達する。集光ミラー114はレチクル103へEUV光を集光、反射させる。EUV光は集光ミラー114で反射され、レチクル103の所定の部分を照明する。すなわち、放物面ミラー113と集光ミラー114はこの露光装置の照明システムを構成する。
レチクル103は、EUV光を反射する多層膜とパターンを形成するための吸収体パターン層を有している。レチクル103でEUV光が反射されることでEUV光は「パターン化」される。パターン化されたEUV光は像光学システム101を通じてウエハWに達する。
この実施形態での像光学システム101は、凹面第1ミラー115a、凸面第2ミラー115b、凸面第3ミラー115c、凹面第4ミラー115dの4つの反射ミラーからなっている。各ミラー115a〜115dはEUV光を反射する多層膜が備えられている。
この実施形態での像光学システム101は、凹面第1ミラー115a、凸面第2ミラー115b、凸面第3ミラー115c、凹面第4ミラー115dの4つの反射ミラーからなっている。各ミラー115a〜115dはEUV光を反射する多層膜が備えられている。
レチクル103で反射されたEUV光は第1ミラー115aから第4ミラー115dまで順次反射されて、レチクル103のパターンの縮小像(例えば、1/4、1/5、1/6の縮小率)を形成する。像光学システム101は、像の側(ウエハWの側)でテレセントリックになるように設定されている。
レチクル103は可動のレチクルステージ102によって少なくともX−Y平面内で支持されている。ウエハWは、好ましくはX,Y,Z方向に可動のウエハステージ11によって支持されている。ウエハW上のダイを露光するときには、照明システムによりEUV光がレチクル103の所定の領域に照射され、レチクル103とウエハWとは像光学システム101に対して上記の縮小率に従った所定の速度で動く。このようにして、レチクルパターンはウエハW上の所定の露光範囲(ダイに対して)に露光される。
レチクル103は可動のレチクルステージ102によって少なくともX−Y平面内で支持されている。ウエハWは、好ましくはX,Y,Z方向に可動のウエハステージ11によって支持されている。ウエハW上のダイを露光するときには、照明システムによりEUV光がレチクル103の所定の領域に照射され、レチクル103とウエハWとは像光学システム101に対して上記の縮小率に従った所定の速度で動く。このようにして、レチクルパターンはウエハW上の所定の露光範囲(ダイに対して)に露光される。
露光の際には、ウエハW上のレジストから生じるガスが像光学システム101のミラー115a〜115dに影響を与えないように、ウエハWはパーティション116の後ろに配置されることが好ましい。パーティション116は開口116aを有しており、開口116aを通じてEUV光がミラー115dからウエハWへと照射される。パーティション116内の空間は真空ポンプ117により真空排気されている。このようにして、露光時に生じるガス状のゴミがミラー115a〜115dあるいはレチクル103に付着するのを防ぎ、これらの光学性能の悪化を防止している。
上記の露光装置では、上述の静電チャック装置により露光装置内におけるウエハの異常状態を迅速に解消でき、露光装置の全体的なスループットを向上させることができる。
(実施形態の補足事項)
以上、本発明を上記の実施形態によって説明してきたが、本発明の技術的範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、例えば以下のような形態であってもよい。
(実施形態の補足事項)
以上、本発明を上記の実施形態によって説明してきたが、本発明の技術的範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、例えば以下のような形態であってもよい。
(1)本発明の静電チャック装置のセンサは光電センサに限定されることはなく、例えば、静電容量センサであってもよい。
(2)上記実施形態のセンサの配置はあくまで一例であって、例えば光電センサを静電チャックの吸着面に4つ以上配置するようにしてもよい。
(3)上記実施形態では静電チャック装置でウエハを吸着保持する例を示したが、本発明の静電チャック装置はレチクル等を保持する場合にも適用し得る。
(2)上記実施形態のセンサの配置はあくまで一例であって、例えば光電センサを静電チャックの吸着面に4つ以上配置するようにしてもよい。
(3)上記実施形態では静電チャック装置でウエハを吸着保持する例を示したが、本発明の静電チャック装置はレチクル等を保持する場合にも適用し得る。
(4)上記実施形態では搬送アームの下面にウエハを吸着して搬送する例を示したが、搬送アームの上面にウエハを載置して搬送するようにしてもよい。例えば、静電チャック装置の吸着面からウエハを持ち上げるリフトピンを設けたり、あるいは、静電チャック装置をウエハの外周よりも小さく設定すれば、搬送アームの上面に載置したウエハを静電チャック装置に受け渡すことが可能となる。
(5)上記実施形態ではEUV光を用いた露光装置の例を説明したが、その他、荷電粒子線、i線、g線、KrF、ArF、F2等を用いた露光装置にも広く適用することができる。
10…静電チャック装置、11…ウエハステージ、13…制御部、20a…吸着面、22…光電センサ、100…EUV露光装置、W…ウエハ
Claims (5)
- 吸着面に基板を静電吸着する静電チャックと、
前記静電チャックに内蔵され、前記吸着面における基板着脱状態を前記基板に非接触で検知するセンサと、
を有することを特徴とする静電チャック装置。 - 前記センサが光電センサであることを特徴とする請求項1に記載の静電チャック装置。
- 前記光電センサの出力に基づいて前記吸着面と前記基板との距離を検出する測距部をさらに有することを特徴とする請求項2に記載の静電チャック装置。
- 前記センサは前記吸着面に少なくとも3つ以上配置され、前記センサの出力に基づき基板の位置ずれを検知する位置ずれ検知部をさらに有することを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の静電チャック装置。
- 請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の静電チャック装置を備えることを特徴とする露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005157315A JP2006332519A (ja) | 2005-05-30 | 2005-05-30 | 静電チャック装置および露光装置 |
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-
2005
- 2005-05-30 JP JP2005157315A patent/JP2006332519A/ja not_active Withdrawn
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