JP2008192982A - ウエハ離脱方法、ウエハ離脱装置および露光装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】静電チャックからウエハを確実に離脱するウエハ離脱方法、ウエハ離脱装置および露光装置を提供する。
【解決手段】ウエハWの外周部を搬送アーム43により所定距離Hだけ上昇させる。所定距離Hは、静電チャック27に残留している状態のウエハWが跳ね上がらない距離である。ウエハ検出センサ35によりウエハWが静電チャック27に残留吸着していることが検出された場合には、ウエハWの中央部を強制離脱手段29の駆動部33を駆動し、押圧部材31を上方に移動する。最大移動量は押圧部材31の上端が静電チャック27の吸着面27bから高さHだけ突出する移動量とされている。
【選択図】図7
【解決手段】ウエハWの外周部を搬送アーム43により所定距離Hだけ上昇させる。所定距離Hは、静電チャック27に残留している状態のウエハWが跳ね上がらない距離である。ウエハ検出センサ35によりウエハWが静電チャック27に残留吸着していることが検出された場合には、ウエハWの中央部を強制離脱手段29の駆動部33を駆動し、押圧部材31を上方に移動する。最大移動量は押圧部材31の上端が静電チャック27の吸着面27bから高さHだけ突出する移動量とされている。
【選択図】図7
Description
本発明は、静電チャックからウエハを離脱するためのウエハ離脱方法、ウエハ離脱装置および露光装置に関する。
真空雰囲気中において露光を行うEUV露光装置、電子線露光装置等の露光装置では、真空吸着チャックを使用できないため、通常、ウエハステージのチャックには静電チャックが用いられている。そして、搬送アームにより静電チャックへのウエハの搬送が行われる。
特開平10−50796号公報
しかしながら、露光を終えたウエハを搬送アームにより静電チャックから搬出する時に、静電チャックの残留吸着力によりチャックからウエハが容易に剥離しない場合があり、このような場合には、搬送アームの力によりウエハが跳ね上がりウエハまたは装置を損傷するおそれがある。
本発明は、かかる従来の問題を解決するためになされたもので、静電チャックからウエハを確実に離脱することができるウエハ離脱方法、ウエハ離脱装置および露光装置を提供することを目的とする。
本発明は、かかる従来の問題を解決するためになされたもので、静電チャックからウエハを確実に離脱することができるウエハ離脱方法、ウエハ離脱装置および露光装置を提供することを目的とする。
第1の発明のウエハ離脱方法は、静電チャックの上面に吸着されるウエハを、搬送アームにより前記静電チャックから離脱するウエハ離脱方法において、前記ウエハの外周部を前記搬送アームにより所定距離だけ上昇させた後、前記ウエハの中央部を強制離脱手段により上方に押圧することを特徴とする。
第2の発明のウエハ離脱方法は、第1の発明のウエハ離脱方法において、前記所定距離は、前記静電チャックに残留吸着している状態の前記ウエハが跳ね上がらない距離であることを特徴とする。
第2の発明のウエハ離脱方法は、第1の発明のウエハ離脱方法において、前記所定距離は、前記静電チャックに残留吸着している状態の前記ウエハが跳ね上がらない距離であることを特徴とする。
第3の発明のウエハ離脱装置は、静電チャックの上面に吸着されるウエハを、搬送アームにより前記静電チャックから離脱するウエハ離脱装置において、前記ウエハの外周部を前記搬送アームにより所定距離だけ上昇させた後、前記ウエハの中央部を上方に押圧する強制離脱手段を有することを特徴とする。
第4の発明のウエハ離脱装置は、第3の発明のウエハ離脱装置において、前記ウエハの外周部を前記搬送アームにより所定距離だけ上昇させた状態で前記ウエハが前記静電チャックに残留吸着しているか否かを検出する検出手段を有することを特徴とする。
第4の発明のウエハ離脱装置は、第3の発明のウエハ離脱装置において、前記ウエハの外周部を前記搬送アームにより所定距離だけ上昇させた状態で前記ウエハが前記静電チャックに残留吸着しているか否かを検出する検出手段を有することを特徴とする。
第5の発明のウエハ離脱装置は、第3または第4の発明のウエハ離脱装置において、前記所定距離は、前記静電チャックに残留吸着している状態の前記ウエハが跳ね上がらない距離であることを特徴とする。
第6の発明の露光装置は、ウエハを上面に吸着する静電チャックを備えたウエハステージと、前記ウエハを前記静電チャックに搬送する搬送アームと、前記ウエハの外周部を前記搬送アームにより所定距離だけ上昇させた後、前記ウエハの中央部を上方に押圧する強制離脱手段とを有することを特徴とする。
第6の発明の露光装置は、ウエハを上面に吸着する静電チャックを備えたウエハステージと、前記ウエハを前記静電チャックに搬送する搬送アームと、前記ウエハの外周部を前記搬送アームにより所定距離だけ上昇させた後、前記ウエハの中央部を上方に押圧する強制離脱手段とを有することを特徴とする。
第7の発明の露光装置は、第6の発明の露光装置において、前記ウエハステージに配置され、前記ウエハの外周部を前記搬送アームにより所定距離だけ上昇させた状態で前記ウエハが前記静電チャックに残留吸着しているか否かを検出する検出手段を有することを特徴とする。
第8の発明の露光装置は、第6または第7の発明の露光装置において、前記所定距離は、前記静電チャックに残留吸着している状態の前記ウエハが跳ね上がらない距離であることを特徴とする。
第8の発明の露光装置は、第6または第7の発明の露光装置において、前記所定距離は、前記静電チャックに残留吸着している状態の前記ウエハが跳ね上がらない距離であることを特徴とする。
第9の発明の露光装置は、第6ないし第8のいずれか1の発明の露光装置において、前記ウエハステージは、粗動ステージ上に配置される微動テーブルに前記静電チャックを配置してなり、前記粗動ステージに前記強制離脱手段を配置してなることを特徴とする。
第10の発明の露光装置は、第9の発明の露光装置において、前記強制離脱手段は、前記静電チャックの上下方向に形成される貫通穴に挿入される押圧部材と、前記粗動ステージに配置され前記押圧部材を上下方向に移動する駆動手段とを有することを特徴とする。
第10の発明の露光装置は、第9の発明の露光装置において、前記強制離脱手段は、前記静電チャックの上下方向に形成される貫通穴に挿入される押圧部材と、前記粗動ステージに配置され前記押圧部材を上下方向に移動する駆動手段とを有することを特徴とする。
第11の発明の露光装置は、第7ないし第10のいずれか1の発明の露光装置において、前記検出手段は、前記静電チャックに配置されていることを特徴とする。
本発明では、静電チャックからウエハを確実に離脱することができる。
以下、本発明の実施形態を図面を用いて詳細に説明する。
図1および図2は本発明の一実施形態を示している。この実施形態では本発明がEUV露光装置のウエハステージに適用される。
ウエハステージ11は、粗動ステージ13と微動テーブル15とを有している。
粗動ステージ13は、本体部17を案内柱19により案内され紙面に垂直な方向(X方向)に移動可能とされている。また、図示しない案内機構により紙面の左右方向(Y方向)に移動可能とされている。粗動ステージ13のX方向およびY方向への位置決め精度はμm程度の精度とされている。
図1および図2は本発明の一実施形態を示している。この実施形態では本発明がEUV露光装置のウエハステージに適用される。
ウエハステージ11は、粗動ステージ13と微動テーブル15とを有している。
粗動ステージ13は、本体部17を案内柱19により案内され紙面に垂直な方向(X方向)に移動可能とされている。また、図示しない案内機構により紙面の左右方向(Y方向)に移動可能とされている。粗動ステージ13のX方向およびY方向への位置決め精度はμm程度の精度とされている。
微動テーブル15は、粗動ステージ13の本体部17の上方に配置されている。微動テーブル15は、粗動ステージ13の本体部17の両側に配置されるZアクチュエータ21により支持されている。Zアクチュエータ21は、図2に示すように、三角状に3個(4個以上でも良い)配置されている。Zアクチュエータ21は、エンコーダを内蔵しており微動テーブル15を図の上下方向(Z方向)に微動可能とされている。
微動テーブル15は、XYアクチュエータ23によりX方向およびY方向に微動可能とされている。XYアクチュエータ23は、例えばボイスコイルモータからなり微動テーブル15と粗動ステージ13との間に3組以上配置されている。微動テーブル15はX軸、Y軸およびZ軸を中心にして回転可能とされている。すなわち、微動テーブル15は6自由度(X、Y、Z、θx、θy、θz)で駆動可能とされている。微動テーブル15の位置決め精度はnm程度の精度とされている。
微動テーブル15の外周には、微動テーブル15の位置をレーザ光LBにより測定するための移動鏡25が配置されている。
微動テーブル15の上面には静電チャック27が配置されている。静電チャック27は、ボルト(不図示)等により微動テーブル15に固定されている。静電チャック27の上面は、ウエハWを吸着するための吸着面27bとされている。吸着面27bの内側には電極(不図示)が埋設されており、電極に電圧を印加することにより吸着面27bに静電気が発生しウエハWが吸着される。
微動テーブル15の上面には静電チャック27が配置されている。静電チャック27は、ボルト(不図示)等により微動テーブル15に固定されている。静電チャック27の上面は、ウエハWを吸着するための吸着面27bとされている。吸着面27bの内側には電極(不図示)が埋設されており、電極に電圧を印加することにより吸着面27bに静電気が発生しウエハWが吸着される。
粗動ステージ13の本体部17の上面には強制離脱機構29が配置されている。強制離脱機構29は押圧部材31と駆動部33とを有している。
押圧部材31はピン状をしており、図2に示すように円形状の静電チャック27の中心を中心にして三角状に3本配置されている。静電チャック27には、押圧部材31に対応する位置に、3箇所の貫通穴27cが上下方向に形成されている。貫通穴27cには押圧部材31が挿入されている。貫通穴27cの内径は押圧部材31の外径より十分に大きくされ、微動テーブル15の微動により静電チャック27が押圧部材31に干渉することが防止されている。
押圧部材31はピン状をしており、図2に示すように円形状の静電チャック27の中心を中心にして三角状に3本配置されている。静電チャック27には、押圧部材31に対応する位置に、3箇所の貫通穴27cが上下方向に形成されている。貫通穴27cには押圧部材31が挿入されている。貫通穴27cの内径は押圧部材31の外径より十分に大きくされ、微動テーブル15の微動により静電チャック27が押圧部材31に干渉することが防止されている。
駆動部33は粗動ステージ13の本体部17の上面に固定されている。駆動部33は微動テーブル15の中央部に形成される貫通穴15a内に突出されている。駆動部33は押圧部材31を上下方向に移動する。駆動部33には押圧部材31を移動する例えばエアシリンダ(不図示)が配置されている。
静電チャックの貫通穴27cの外側には、貫通穴27dが上下方向に形成されている。貫通穴27dにはウエハ検出センサ35が配置されている。ウエハ検出センサ35は、静電チャック27の吸着面27bにウエハWが存在するか否かを検出する。なお、ウエハ検出センサ35に静電容量センサ等のセンサを用いても良い。
静電チャックの貫通穴27cの外側には、貫通穴27dが上下方向に形成されている。貫通穴27dにはウエハ検出センサ35が配置されている。ウエハ検出センサ35は、静電チャック27の吸着面27bにウエハWが存在するか否かを検出する。なお、ウエハ検出センサ35に静電容量センサ等のセンサを用いても良い。
図1において符号37は制御部を示している。制御部37は、ウエハステージ11の静電チャック27にウエハWを搬送する搬送アーム39の駆動を制御する。また、静電チャック27からのウエハWの離脱時に、ウエハ検出センサ35からの信号を入力し、静電チャック27の吸着面27bにウエハWが存在するか否かを検出する。そして、ウエハWが存在する場合には、強制離脱機構29を作動して押圧部材31によりウエハWの中央部を上方に押圧する。
図3は、搬送アーム39の要部を示している。搬送アーム39の先端には、ウエハWを載置するエンドエフェクタ41が形成されている。エンドエフェクタ41は、本体部41a、載置ピン43、脱落防止ピン45を有している。
本体部41aは、先端が開口される円弧状に形成されている。本体部41aの内径は、ウエハWの外径より大きくされている。本体部41aの中央および先端には、半円状の突出部41bが内側に突出して形成されている。突出部41bには、ウエハWを載置する載置ピン43が上方に向けて突出されている。載置ピン43の外側には、ウエハWが載置ピン43から脱落することを防止する脱落防止ピン45が上方に向けて突出されている。脱落防止ピン45の高さは、載置ピン43の高さより例えば1mm程度大きくされている。
本体部41aは、先端が開口される円弧状に形成されている。本体部41aの内径は、ウエハWの外径より大きくされている。本体部41aの中央および先端には、半円状の突出部41bが内側に突出して形成されている。突出部41bには、ウエハWを載置する載置ピン43が上方に向けて突出されている。載置ピン43の外側には、ウエハWが載置ピン43から脱落することを防止する脱落防止ピン45が上方に向けて突出されている。脱落防止ピン45の高さは、載置ピン43の高さより例えば1mm程度大きくされている。
一方、静電チャック27には、エンドエフェクタ41の突出部41bに対応する位置に、凹部27eが形成されている。凹部27eは、半円状をしており静電チャック27の高さ方向に形成されている。凹部27eの径は突出部41bより大径とされている。また、静電チャック27には、エンドエフェクタ41の矢印A方向への進入を許容する切欠部27fが形成されている。切欠部27fは静電チャック27の底面側に水平方向に沿って形成されている。
上述した露光装置では、静電チャック27へのウエハWの搬入が以下述べるようにして行われる。
先ず、図4の(a)に示すように、ウエハWの載置されたエンドエフェクタ41を静電チャック27の上方に沿って進入させ、静電チャック27の所定の位置にウエハWを位置させる。次に、(b)に示すようにエンドエフェクタ41を切欠部27fまで下降することにより、ウエハWを静電チャック27の吸着面27bに載置する。そして、静電チャック27をオンして吸着面27bにウエハWを吸着する。また、同時に、(c)に示すようにエンドエフェクタ41を切欠部27fに沿って退避する。
先ず、図4の(a)に示すように、ウエハWの載置されたエンドエフェクタ41を静電チャック27の上方に沿って進入させ、静電チャック27の所定の位置にウエハWを位置させる。次に、(b)に示すようにエンドエフェクタ41を切欠部27fまで下降することにより、ウエハWを静電チャック27の吸着面27bに載置する。そして、静電チャック27をオンして吸着面27bにウエハWを吸着する。また、同時に、(c)に示すようにエンドエフェクタ41を切欠部27fに沿って退避する。
一方、静電チャック27からのウエハWの搬出が以下述べるようにして行われる。
図5は、制御部37によるウエハWの搬出動作を示すフローチャートである。
ステップS1:エンドエフェクタ41を進入させる。図6の(a)に示すようにエンドエフェクタ41を、静電チャック27の切欠部27fに沿って所定の位置まで進入させる。この状態では、静電チャック27はオフとされている。
図5は、制御部37によるウエハWの搬出動作を示すフローチャートである。
ステップS1:エンドエフェクタ41を進入させる。図6の(a)に示すようにエンドエフェクタ41を、静電チャック27の切欠部27fに沿って所定の位置まで進入させる。この状態では、静電チャック27はオフとされている。
ステップS2:エンドエフェクタ41を所定位置まで上昇する。この所定位置は、静電チャック27に残留吸着している状態のウエハWが跳ね上がらない位置とされている。図7に示すように、静電チャック27の残留吸着力によりウエハWが静電チャック27の吸着面27bに吸着している場合には、ウエハWの外周部を載置ピン43上に載置してエンドエフェクタ41を上昇するとウエハWの外周部が弾性変形する。そして、そのまま上昇すると、エンドエフェクタ41の上昇力が静電チャック27の残留吸着力を上回った位置でウエハWが静電チャック27から急激に離脱しウエハWが跳ね上がる現象が生じる。そこで、この所定位置は、静電チャック27に残留吸着している状態のウエハWが跳ね上がらない位置とされている。すなわち、図7に示すように、載置ピン43の上面が静電チャック27の吸着面27bから高さHだけ突出するような位置とされている。この高さHは、予め実験により求められており、この位置ではウエハWの跳ね上がり現象は生じない。
ステップS3:ウエハ検出センサ35からの信号を読み込む。この実施形態でウエハ検出センサ35として使用される光電センサは、発光部(不図示)と受光部(不図示)とを備えている。そして、発光部からウエハWに光を照射しウエハWで反射してきた光を受光部で受光し、その受光量を信号として出力する。
ステップS4:ウエハWが静電チャック27に残留吸着しているか否かを判断する。図7に示すように、ウエハWが静電チャック27に残留吸着している場合には、ウエハWとウエハ検出センサ35との距離が小さくなり、光電センサからの信号が所定値より大きくなる。一方、図8に示すように、ウエハWが静電チャック27に残留吸着していない場合には、ウエハWとウエハ検出センサ35との距離が大きくなり、光電センサからの信号が所定値より小さくなる。従って、ウエハ検出センサ35からの信号が予め定められた所定値より大きいか否かによりウエハWが静電チャック27に残留吸着しているか否かを判断することができる。
ステップS4:ウエハWが静電チャック27に残留吸着しているか否かを判断する。図7に示すように、ウエハWが静電チャック27に残留吸着している場合には、ウエハWとウエハ検出センサ35との距離が小さくなり、光電センサからの信号が所定値より大きくなる。一方、図8に示すように、ウエハWが静電チャック27に残留吸着していない場合には、ウエハWとウエハ検出センサ35との距離が大きくなり、光電センサからの信号が所定値より小さくなる。従って、ウエハ検出センサ35からの信号が予め定められた所定値より大きいか否かによりウエハWが静電チャック27に残留吸着しているか否かを判断することができる。
ステップS5:ステップS4においてウエハWが静電チャック27に残留吸着している場合には、強制離脱機構29を作動する。図7に示す状態から強制離脱機構29の駆動部33を駆動し、押圧部材31を上方に移動する。押圧部材31の上方への最大移動量は、ウエハWを強制離脱可能な移動量とされている。例えば、押圧部材31の上端が静電チャック27の吸着面27bから高さHだけ突出するような移動量とされている。
駆動部33による押圧部材31の押圧力は、微動テーブル15に過剰な負荷が作用しないような所定値に設定されている。すなわち、高精度の位置決め機構を有する微動テーブル15は除振機構(不図示)により除振率を高められている。また、微動テーブル15は、自重キャンセル機構(不図示)によりその重量をキャンセルするように支持されている。従って、微動テーブル15に過剰な負荷が作用するとこれらの機構が損傷するおそれがある。そこで、押圧部材31の押圧力を微動テーブル15に過剰な負荷が作用しないような所定値に設定している。
強制離脱機構29の駆動部33を駆動し、押圧部材31を上方に移動すると、静電チャック27へのウエハWの残留吸着力が押圧部材31の押圧力より小さい場合には、図9に示すように、押圧部材31の上方への移動によりウエハWが静電チャック27の吸着面27bから完全に離脱する。一方、ウエハWの残留吸着力が押圧部材31の押圧力より大きい場合には、ウエハWは静電チャック27の吸着面27bに吸着された状態を維持する。
ステップS6:強制離脱機構29の押圧部材31を下方に移動して元の位置に戻す。
ステップS7:ウエハWが静電チャック27に残留吸着しているか否かを判断する。すなわち、ステップS5における強制離脱機構29の作動後、所定時間経過後に、ウエハWが静電チャック27に残留吸着しているか否かを判断する。
ステップS8:ステップS7においてウエハWが静電チャック27に残留吸着していると判断した場合には、搬送アーム39の駆動を停止する。ステップS5における強制離脱機構29の作動により、通常であれば、図9に示すようにウエハWが静電チャック27の吸着面27bから完全に離脱する。また、強制離脱機構29の作動後、所定時間経過しているため、残留吸着力の低下によりウエハWが静電チャック27から離脱することが多い。従って、この時点でウエハWが静電チャック27に残留吸着している場合には、異常事態として搬送アーム39の駆動を停止する。そして、主制御部(不図示)にエラーメッセージを出力する。これにより、微動テーブル15に無理な負荷が作用することを確実に防止することができる。
ステップS7:ウエハWが静電チャック27に残留吸着しているか否かを判断する。すなわち、ステップS5における強制離脱機構29の作動後、所定時間経過後に、ウエハWが静電チャック27に残留吸着しているか否かを判断する。
ステップS8:ステップS7においてウエハWが静電チャック27に残留吸着していると判断した場合には、搬送アーム39の駆動を停止する。ステップS5における強制離脱機構29の作動により、通常であれば、図9に示すようにウエハWが静電チャック27の吸着面27bから完全に離脱する。また、強制離脱機構29の作動後、所定時間経過しているため、残留吸着力の低下によりウエハWが静電チャック27から離脱することが多い。従って、この時点でウエハWが静電チャック27に残留吸着している場合には、異常事態として搬送アーム39の駆動を停止する。そして、主制御部(不図示)にエラーメッセージを出力する。これにより、微動テーブル15に無理な負荷が作用することを確実に防止することができる。
ステップS9:ステップS7においてウエハWが静電チャック27に残留吸着していないと判断した場合には、エンドエフェクタ41を、図6の(b)に示すように上昇する。この上昇位置は、エンドエフェクタ41を水平に移動しても静電チャック27に干渉しない位置である。
ステップS10:エンドエフェクタ41を、図6の(c)に示すように水平方向に移動して退避させる。
ステップS10:エンドエフェクタ41を、図6の(c)に示すように水平方向に移動して退避させる。
上述したステップS4において、ウエハWが静電チャック27に残留吸着していない場合には、強制離脱機構29を作動することなく、ステップS9の処理に移る。
上述した露光装置では、ウエハWの外周部を搬送アーム39により所定距離だけ上昇させた状態でウエハWが静電チャック27に残留吸着しているか否かをウエハ検出センサ35により検出し、残留吸着している場合に、ウエハWの中央部を強制離脱機構29により上方に押圧するようにしたので、静電チャック27からウエハWを確実に離脱することができる。
上述した露光装置では、ウエハWの外周部を搬送アーム39により所定距離だけ上昇させた状態でウエハWが静電チャック27に残留吸着しているか否かをウエハ検出センサ35により検出し、残留吸着している場合に、ウエハWの中央部を強制離脱機構29により上方に押圧するようにしたので、静電チャック27からウエハWを確実に離脱することができる。
また、強制離脱機構29の押圧部材31の押圧力を、微動テーブル15に過剰な負荷が作用しないような所定値に設定したので、微動テーブル15の除振機構、自重キャンセル機構等が損傷するおそれを低減することができる。
(露光装置の実施形態)
図10は、上述したEUV露光装置の全体を模式化して示している。なお、この実施形態において上述した実施形態と同一の要素には、同一の符号を付している。
(露光装置の実施形態)
図10は、上述したEUV露光装置の全体を模式化して示している。なお、この実施形態において上述した実施形態と同一の要素には、同一の符号を付している。
この実施形態では、露光の照明光としてEUV光が用いられる。EUV光は0.1〜400nmの間の波長を持つもので、この実施形態では特に1〜50nm程度の波長が好ましい。投影系は像光学系システム101を用いたもので、ウエハW上にレチクル103によるパターンの縮小像を形成するものである。
ウエハW上に照射されるパターンは、レチクルステージ102の下側に静電チャック装置104を介して配置されている反射型のレチクル103により決められる。この反射型のレチクル103は、真空ロボットによって搬入および搬出される(真空ロボットの図示は省略する)。また、ウエハWはウエハステージ11の微動テーブル15上に静電チャック27を介して配置されている。典型的には、露光はステップ・スキャンによりなされる。
ウエハW上に照射されるパターンは、レチクルステージ102の下側に静電チャック装置104を介して配置されている反射型のレチクル103により決められる。この反射型のレチクル103は、真空ロボットによって搬入および搬出される(真空ロボットの図示は省略する)。また、ウエハWはウエハステージ11の微動テーブル15上に静電チャック27を介して配置されている。典型的には、露光はステップ・スキャンによりなされる。
露光時の照明光として使用するEUV光は大気に対する透過性が低いので、EUV光が通過する光経路は、適当な真空ポンプ107を用いて真空に保たれた真空チャンバ106に囲まれている。またEUV光はレーザプラズマX線源によって生成される。レーザプラズマX線源はレーザ源108(励起光源として作用)とキセノンガス供給装置109からなっている。レーザプラズマX線源は真空チャンバ110によって取り囲まれている。レーザプラズマX線源によって生成されたEUV光は真空チャンバ110の窓111を通過する。
放物面ミラー113は、キセノンガス放出部の近傍に配置されている。放物面ミラー113はプラズマによって生成されたEUV光を集光する。放物面ミラー113は集光光学系を構成し、ノズル112からのキセノンガスが放出される位置の近傍に焦点位置がくるように配置されている。EUV光は放物面ミラー113の多層膜で反射し、真空チャンバ110の窓111を通じて集光ミラー114へと達する。集光ミラー114は反射型のレチクル103へとEUV光を集光、反射させる。EUV光は集光ミラー114で反射され、レチクル103の所定の部分を照明する。すなわち、放物面ミラー113と集光ミラー114はこの装置の照明システムを構成する。
レチクル103は、EUV光を反射する多層膜とパターンを形成するための吸収体パターン層を持っている。レチクル103でEUV光が反射されることによりEUV光は「パターン化」される。パターン化されたEUV光は像光学システム101を通じてウエハWに達する。
この実施形態の像光学システム101は、凹面第1ミラー115a、凸面第2ミラー115b、凸面第3ミラー115c、凹面第4ミラー115dの4つの反射ミラーからなっている。各ミラー115a〜115dにはEUV光を反射する多層膜が備えられている。
この実施形態の像光学システム101は、凹面第1ミラー115a、凸面第2ミラー115b、凸面第3ミラー115c、凹面第4ミラー115dの4つの反射ミラーからなっている。各ミラー115a〜115dにはEUV光を反射する多層膜が備えられている。
レチクル103により反射されたEUV光は第1ミラー115aから第4ミラー115dまで順次反射されて、レチクル103のパターンの縮小(例えば、1/4、1/5、1/6)された像を形成する。像光学系システム101は、像の側(ウエハWの側)でテレセントリックになるようになっている。
レチクル103は可動のレチクルステージ102によって少なくともX−Y平面内で支持されている。ウエハWは、好ましくはX,Y,Z方向に可動なウエハステージ11によって支持されている。ウエハW上のダイを露光するときには、EUV光が照明システムによりレチクル103の所定の領域に照射され、レチクル103とウエハWは像光学系システム101に対して像光学システム101の縮小率に従った所定の速度で動く。このようにして、レチクル103のパターンはウエハW上の所定の露光範囲(ダイに対して)に露光される。
レチクル103は可動のレチクルステージ102によって少なくともX−Y平面内で支持されている。ウエハWは、好ましくはX,Y,Z方向に可動なウエハステージ11によって支持されている。ウエハW上のダイを露光するときには、EUV光が照明システムによりレチクル103の所定の領域に照射され、レチクル103とウエハWは像光学系システム101に対して像光学システム101の縮小率に従った所定の速度で動く。このようにして、レチクル103のパターンはウエハW上の所定の露光範囲(ダイに対して)に露光される。
露光の際には、ウエハW上のレジストから生じるガスが像光学システム101のミラー115a〜115dに影響を与えないように、ウエハWはパーティション116の後ろに配置されることが望ましい。パーティション116は開口116aを持っており、それを通じてEUV光がミラー115dからウエハWへと照射される。パーティション116内の空間は真空ポンプ117により真空排気されている。このように、レジストに照射することにより生じるガス状のゴミがミラー115a〜115dあるいはレチクル103に付着するのを防ぐ。それゆえ、これらの光学性能の悪化を防いでいる。
この実施形態の露光装置では、静電チャック27からウエハWを確実に離脱することができるため、ウエハの跳ね上がり現象によりウエハWおよび機器等が損傷することを有効に防止することができる。
(実施形態の補足事項)
以上、本発明を上述した実施形態によって説明してきたが、本発明の技術的範囲は上述した実施形態に限定されるものではなく、例えば、以下のような形態でも良い。
(実施形態の補足事項)
以上、本発明を上述した実施形態によって説明してきたが、本発明の技術的範囲は上述した実施形態に限定されるものではなく、例えば、以下のような形態でも良い。
(1)上述した実施形態では、強制離脱機構29の押圧部材31の押圧力を、微動テーブル15に過剰な負荷が作用しないような所定値に設定した例について説明したが、例えば、押圧部材に力センサを設けて、この力センサからの信号により押圧力を測定して強制離脱機構を制御するようにしても良い。
(2)上述した実施形態では、押圧部材31の外側にウエハ検出センサ35を配置した例について説明したが、例えば、押圧部材の内側にウエハ検出センサを配置しても良い。
(2)上述した実施形態では、押圧部材31の外側にウエハ検出センサ35を配置した例について説明したが、例えば、押圧部材の内側にウエハ検出センサを配置しても良い。
(3)上述した実施形態では、EUV露光装置に本発明を適用した例について説明したが、ウエハ検査装置等にも広く適用することができる。
(4)上述した実施形態では、EUV露光装置に本発明を適用した例について説明したが、ウエハステージに静電チャックを有する装置全般に広く適用することができる。
(4)上述した実施形態では、EUV露光装置に本発明を適用した例について説明したが、ウエハステージに静電チャックを有する装置全般に広く適用することができる。
11…ウエハステージ、13…粗動ステージ、15…微動テーブル、27…静電チャック、27c…貫通穴、29…強制離脱機構、31…押圧部材、33…駆動部、35…ウエハ検出センサ、37…制御部、39…搬送アーム、W…ウエハ。
Claims (11)
- 静電チャックの上面に吸着されるウエハを、搬送アームにより前記静電チャックから離脱するウエハ離脱方法において、
前記ウエハの外周部を前記搬送アームにより所定距離だけ上昇させた後、前記ウエハの中央部を強制離脱手段により上方に押圧することを特徴とするウエハ離脱方法。 - 請求項1記載のウエハ離脱方法において、
前記所定距離は、前記静電チャックに残留吸着している状態の前記ウエハが跳ね上がらない距離であることを特徴とするウエハ離脱方法。 - 静電チャックの上面に吸着されるウエハを、搬送アームにより前記静電チャックから離脱するウエハ離脱装置において、
前記ウエハの外周部を前記搬送アームにより所定距離だけ上昇させた後、前記ウエハの中央部を上方に押圧する強制離脱手段を有することを特徴とするウエハ離脱装置。 - 請求項3記載のウエハ離脱装置において、
前記ウエハの外周部を前記搬送アームにより所定距離だけ上昇させた状態で前記ウエハが前記静電チャックに残留吸着しているか否かを検出する検出手段を有することを特徴とするウエハ離脱装置。 - 請求項3または請求項4記載のウエハ離脱装置において、
前記所定距離は、前記静電チャックに残留吸着している状態の前記ウエハが跳ね上がらない距離であることを特徴とするウエハ離脱装置。 - ウエハを上面に吸着する静電チャックを備えたウエハステージと、
前記ウエハを前記静電チャックに搬送する搬送アームと、
前記ウエハの外周部を前記搬送アームにより所定距離だけ上昇させた後、前記ウエハの中央部を上方に押圧する強制離脱手段と、
を有することを特徴とする露光装置。 - 請求項6記載の露光装置において、
前記ウエハステージに配置され、前記ウエハの外周部を前記搬送アームにより所定距離だけ上昇させた状態で前記ウエハが前記静電チャックに残留吸着しているか否かを検出する検出手段を有することを特徴とする露光装置。 - 請求項6または請求項7記載の露光装置において、
前記所定距離は、前記静電チャックに残留吸着している状態の前記ウエハが跳ね上がらない距離であることを特徴とする露光装置。 - 請求項6ないし請求項8のいずれか1項記載の露光装置において、
前記ウエハステージは、粗動ステージ上に配置される微動テーブルに前記静電チャックを配置してなり、前記粗動ステージに前記強制離脱手段を配置してなることを特徴とする露光装置。 - 請求項9記載の露光装置において、
前記強制離脱手段は、
前記静電チャックの上下方向に形成される貫通穴に挿入される押圧部材と、
前記粗動ステージに配置され前記押圧部材を上下方向に移動する駆動手段と、
を有することを特徴とする露光装置。 - 請求項7ないし請求項10のいずれか1項記載の露光装置において、
前記検出手段は、前記静電チャックに配置されていることを特徴とする露光装置。
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JP2007028217A JP2008192982A (ja) | 2007-02-07 | 2007-02-07 | ウエハ離脱方法、ウエハ離脱装置および露光装置 |
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JP2007028217A Withdrawn JP2008192982A (ja) | 2007-02-07 | 2007-02-07 | ウエハ離脱方法、ウエハ離脱装置および露光装置 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010121703A1 (de) * | 2009-04-21 | 2010-10-28 | Ev Group Gmbh | Vorrichtung und verfahren zum trennen eines substrats von einem trägersubstrat |
JP2021099410A (ja) * | 2019-12-20 | 2021-07-01 | キヤノン株式会社 | 保持装置、リソグラフィ装置、および物品製造方法 |
-
2007
- 2007-02-07 JP JP2007028217A patent/JP2008192982A/ja not_active Withdrawn
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