JP2006299269A - フタロシアニン共結晶を調製するための方法 - Google Patents

Abstract

【課題】優れた感光性を有するフタロシアニン顔料調製のための製造プロセスの提供。
【解決手段】金属フタロシアニンおよび無金属フタロシアニンを、少なくとも１種の溶媒と接触させる工程と、前記フタロシアニン物質を共結晶として回収する工程と、を含む方法である。また、前記金属フタロシアニンが、チタニルフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニンおよびジルコニルフタロシアニンからなる群より選択される。
【選択図】なし

Description

本発明の開示は、感光体において使用するためのフタロシアニン顔料に関し、さらに詳しくは、金属フタロシアニン類、たとえばチタニルフタロシアニンと、無金属フタロシアニン類との共結晶（co-crystal）に関する。

フタロシアニン顔料は現在多くの感光体に使用されている。使用されている２種の顔料として、チタニルフタロシアニン（ＴｉＯＰＣ）とヒドロキシガリウムフタロシアニン（ＨＯＧａＰＣ）を挙げることができる。いずれのものも、それらのモルホロジーとそれらを製造する際に用いられる方法に依存するが、感度が比較的に高い。非常に感度の高いＴｉＯＰＣが約８５％の量子効率を有するのに対して、最も感度の高いＨＯＧａＰＣは約６０％〜約７０％の量子効率を有する。

そのような顔料の製造方法および使用方法は公知である。

米国特許第４，８９８，７９９号明細書 米国特許第５，１５３，３１３号明細書

優れた感光性（photosensitivity）を有する顔料、それらの調製のためのプロセス、および感光体を形成させるためのそれらの使用が、依然として望まれている。

本発明の開示は、フタロシアニン共結晶を調製するための方法を提供する。その方法には、金属フタロシアニンと無金属フタロシアニンとを溶媒に加えて共結晶溶液を形成させること、およびそのフタロシアニン共結晶を回収することが含まれる。いくつかの実施態様においては、フタロシアニン共結晶を沈殿させることを可能とする非溶媒にその共結晶溶液を添加することができる。いくつかの実施態様においては、共結晶とは、たとえば、金属フタロシアニンと無金属フタロシアニンの結晶性複合体（crystal complex）を指し、金属フタロシアニンの無金属フタロシアニンに対する重量比が約９９：１から約１０：９０まで、いくつかの実施態様においては約９５：５から約５０：５０までのものを指す。

好適な金属フタロシアニン類としては、チタニルフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニンおよびジルコニルフタロシアニンを挙げることができる。いくつかの実施態様においては、フタロシアニン共結晶を芳香族溶媒、たとえば、芳香族炭化水素類、芳香族ニトロ化合物、芳香族ハロゲン化合物、およびフェノール類に添加することによって、フタロシアニン共結晶を感光性顔料に転化させることができる。

それらの方法によって製造されたフタロシアニン共結晶も提供される。

以下において、図面を参照しながら、本発明に開示の各種の実施態様を本明細書において記述する。

本発明の開示は、金属フタロシアニンと無金属フタロシアニン（Ｈ_２ＰＣ）との共結晶化により調製した顔料を提供する。本発明に開示の方法には、金属フタロシアニンとＨ_２ＰＣの粗原料顔料を溶解させ、次いで、一連のクエンチと洗浄工程を経てフタロシアニン共結晶を製造することが含まれる。いくつかの実施態様においては、共結晶（co-crystal）とは、たとえば、本明細書に開示の方法により製造した、金属フタロシアニンと無金属フタロシアニンの共結晶複合体（co-crystalline complex）であって、金属フタロシアニンの無金属フタロシアニンに対する重量比が約９９：１から約１０：９０まで、いくつかの実施態様においては約９５：５から約５０：５０までのものを指す。それらのフタロシアニン共結晶顔料を使用した光応答性画像形成部材もまた提供される。

本発明に開示の共結晶顔料を形成させるために使用するのに好適な金属フタロシアニン類としては、たとえば、チタニルフタロシアニン（ＴｉＯＰＣ）、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニンおよび／またはジルコニルフタロシアニンなどを挙げることができる。金属フタロシアニン類としては、チタニルフタロシアニンが好ましい。また、金属フタロシアニン類としては、ヒドロキシガリウムフタロシアニンが好ましい。本発明に開示の共結晶顔料を形成させるために使用できるチタニルフタロシアニンとしては、たとえば、有機溶媒中で、ジイミノイソインドリンとチタンアルコキシド（たとえばチタンテトラブトキシド）とを、またはフタロシアニンと四塩化チタンとを反応させることによって得られる、チタニルフタロシアニンを挙げることができる。いくつかの実施態様においては、好適なチタニルフタロシアニンは、チタンテトラ（プロポキシド）と、フタロニトリルおよびジイミノイソインドレンの混合物とをＮ−メチルピロリジノン溶媒中で反応させて合成することができ、それによって、Ｘ線粉末回折（ＸＲＰＤ）で測定してタイプＩまたはβタイプのチタニルフタロシアニンが得られる。いくつかの実施態様においては、チタニルフタロシアニンはＹ型、タイプＩ、αタイプあるいはβタイプであってもよい。

金属フタロシアニンとして使用することが可能な、ヒドロキシガリウムフタロシアニン類（ＨＯＧａＰｃ）は公知である。米国特許第５，５２１，３０６号明細書および米国特許第５，４７３，０６４号明細書には、ＨＯＧａＰｃおよび、タイプＶのヒドロキシガリウムフタロシアニンを製造するためのプロセスが記載されている。

使用可能なクロロガリウムフタロシアニン類としては、たとえば、米国特許第６，４９２，０８０号明細書に開示されている、タイプＩＩのクロロガリウムフタロシアニン類が挙げられる。

その金属フタロシアニンは、約１５０ｎｍ〜約３５０ｎｍ、いくつかの実施態様においては約２００ｎｍ〜約３００ｎｍの範囲の粒径を有している。

本発明に開示の共結晶顔料を形成させるために使用できる無金属フタロシアニン類は、各種の方法、たとえば、２−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエタノール中でアンモニアガスと共にフタロニトリルを還流させる方法、あるいはヒドロキノン溶媒中でフタロニトリルを縮合させる方法などによって得ることができる。

無金属フタロシアニン類を製造するためのその他の方法としては、米国特許第６，４７６，２１９号明細書に開示されている方法が含まれる。いくつかの実施態様においては、無金属フタロシアニンは、アルカリ金属フタロシアニン、たとえば、ジリチウム、ジナトリウム、ジカリウム、ベリリウム、マグネシウム、またはカルシウムフタロシアニンを、水性またはアルコール性希酸を用いて処理することにより調製することができる。好適な酸の例を挙げれば（これらに限定される訳ではない）、塩酸、リン酸、硫酸、硝酸、およびスルホン酸類、たとえば、アルキルスルホン酸、アリールスルホン酸、アリールアルキルスルホン酸、およびアルキルアリールスルホン酸などがあるが、ここで、それらのアルキル部分は、直鎖状であっても分岐状であってもよく、一つの実施態様においては約１〜約１８個の炭素原子を有するが、炭素原子の数がこの範囲から外れていてもよく、そしてここで、それらのアリール部分は、一つの実施態様においては約６〜約１２個の炭素原子を有するが、炭素原子の数がこの範囲から外れていてもよい。使用可能なその他の酸としては、カルボン酸類、たとえばアルキルカルボン酸、アリールカルボン酸、アリールアルキルカルボン酸、およびアルキルアリールカルボン酸などが挙げられるが、ここで、それらのアルキル部分は、直鎖状であっても分岐状であってもよく、そしてここで、そのカルボン酸は、一つの実施態様においては、約１〜約２４個の炭素原子を有するが、炭素原子の数は、たとえば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸および安息香酸などの場合にはこの範囲から外れていてもよく、さらにはそれらの混合物も含まれる。

酸は、水溶液中またはアルコール溶液中に、各種所望の、あるいは有効な濃度で存在させる。使用可能な好適なアルコール類の例としては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、エチレングリコールなど、さらにはそれらの混合物が挙げられるが、これらに限定される訳ではない。一つの実施態様においては、酸は溶液中に、約１重量パーセントの酸から約１０重量パーセントの酸までの範囲の量、いくつかの実施態様においては約２重量パーセントの酸から約５重量パーセントの酸までの範囲で存在させることができるが、酸の濃度がこれらの範囲から外れていてもよい。

別な方法として、無金属フタロシアニンを、ジアルキルモノアルカノールアミン溶媒中の４−（３−ペンタデシル）フェノキシフタロニトリルの濃厚溶液を加熱することによっても調製することが可能であるが、ここでそのアルキル基（それらは、一級、二級または三級の炭素原子を介して窒素原子に結合していてもよい）は、一つの実施態様においては約１〜約６個の炭素原子を、また別な実施態様においては約１〜約３個の炭素原子を有するが、炭素原子の数がそれらの範囲から外れていてもよい。ジアルキルモノアルカノールアミン溶媒中のアルキル基として好適なものとしては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピルなどが挙げられるが、これらに限定される訳ではない。アルカノール基は、一級、二級、または三級アルカノールであってよく、また、一級、二級、または三級の炭素原子を介して窒素原子に結合されていてもよく、一つの実施態様においては約２〜約６個の炭素原子、また別な実施態様においては約２〜約３個の炭素原子を有するが、炭素原子の数がそれらの範囲から外れていてもよい。好適なアルカノール基としては、２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシプロピル、３−ヒドロキシプロピルなどが挙げられるが、これらに限定される訳ではない。好適なジアルキルモノアルカノールアミン溶媒の具体例としては、２−ジメチルアミノエタノール、２−ジエチルアミノエタノール、２−ジメチルアミノ−１−プロパノールなど、さらにはそれらの混合物を挙げることができる。

いくつかの実施態様においては、その無金属フタロシアニンが、無金属フタロシアニンのＸ型であってもよい。その無金属フタロシアニンは、約１００ｎｍ〜約３００ｎｍ、いくつかの実施態様においては約１５０ｎｍ〜約２５０ｎｍの範囲の粒径を有している。

金属フタロシアニンと無金属フタロシアニンとを溶媒の中で組み合わせると、本発明に開示の共結晶顔料が生成する。金属フタロシアニンの無金属フタロシアニンに対する比率は、重量で約９９：１から約１０：９０まで、いくつかの実施態様においては重量で約９５：５から約５０：５０までの範囲とすることができる。使用可能な溶媒としては、たとえば、プロトン酸類、芳香族溶媒、エーテル類、ピロリジノン類、アルキルハライド類、アルキレンハライド類、およびそれらの混合物などが挙げられる。使用可能な具体的な溶媒としては、たとえば、トリフルオロ酢酸、トルエン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、Ｎ−メチルピロリジノン、クロロホルム、塩化メチレン、またはその他のアルキルモノおよびポリハライド類で、炭素鎖の長さが、たとえば、約１〜約２０個の炭素原子、いくつかの実施態様においては約２〜約１０個の炭素原子のものが挙げられる。いくつかの実施態様においては、溶媒混合物を使用してもよい。好適な溶媒混合物を挙げれば、トリフルオロ酢酸とアルキレンハライド、たとえば塩化メチレンまたはその他上述のようなアルキルモノまたはポリハライドなどがある。溶媒混合物を使用する場合、トリフルオロ酢酸の第二の溶媒に対する比率は、約１：１０容量部から約１０：１容量部まで、いくつかの実施態様においては約４：６容量部から約８：２容量部までの範囲とすることができる。いくつかの実施態様においては、トリフルオロ酢酸の第二の溶媒に対する比率を容量部で約１：４とすることができる。

得られたフタロシアニン溶液を、適当な温度、たとえば約−２５℃〜約１００℃、いくつかの実施態様においては約−１０℃〜約５０℃、いくつかの実施態様においては約４０℃〜約４５℃の範囲で、適当な時間、たとえば約１０分〜約２４時間、いくつかの実施態様においては約３０分〜約１２時間、いくつかの実施態様においては約２時間維持して、本発明に開示の共結晶顔料が生成してくるようにする。

本発明に開示の共結晶顔料は、チタニルフタロシアニンと無金属フタロシアニンを可溶化させている間に生成するが、チタニルフタロシアニンの結晶格子の中に無金属フタロシアニンが置換できるようになって、本発明に開示の共結晶が形成される。いかなる理論にも捕らわれることなく言えば、チタニルフタロシアニンの結晶格子の中に無金属フタロシアニンを導入することにより形成される共結晶が、その得られた共結晶を安定化させている、と考えられる。

チタニルフタロシアニンと無金属フタロシアニンを可溶化させてから、そのフタロシアニン溶液を濾過するか、または目的のフタロシアニン共結晶顔料を沈殿させる非溶媒に添加する。共結晶顔料を加える非溶媒としては、アルコール、たとえばメタノール、エタノール、またはイソプロパノール；水；アルキレンハライド、たとえば塩化メチレン；ケトン類、たとえばアセトン；１，１−ジクロロエタン、またはそれらの組合せを挙げることができる。いくつかの具体的で有用な実施態様においては、メタノールと塩化メチレンの混合物を共結晶顔料を沈殿させるための非溶媒として使用することができ、メタノールの塩化メチレンに対する比は、容量部で、約９５：５から約５：９５まで、いくつかの実施態様においては約７０：３０から約３０：７０までの範囲とすることができる。

溶媒の非溶媒に対する比は、容量で、約１０：９０から約９０：１０まで、いくつかの実施態様においては容量で、約２５：７５から約７５：２５までの範囲とすることができる。

次いでその沈殿物を、残存している非溶媒すべてから、適切な手段、たとえば吸引濾過などの濾過で分離し、次いで得られた共結晶顔料をたとえば、水、メタノール、またはアセトンを用いて洗浄し、続けてさらにメタノール、脱イオン水などを用いて洗浄する。いくつかの実施態様においては、共結晶顔料をまず、熱脱イオン水を用いて数回、たとえば約１〜約５回、いくつかの実施態様においては約２〜約４回洗浄し、それに続けて、熱メタノールを用いて数回、いくつかの実施態様においては約１〜約３回洗浄することができる。

場合によっては、その共結晶顔料をさらなる濾過工程、たとえば吸引濾過にかけ、次いで、転化工程にかけて、沈殿物からのフタロシアニン共結晶を転化させて新しい多型（polymorph）とすることもできる。その転化工程においては、共結晶顔料を芳香族溶媒に加える。転化工程において使用可能な好適な芳香族溶媒の例としては、芳香族炭化水素類、たとえばベンゼン、トルエン、およびキシレン；芳香族ニトロ化合物、たとえばニトロベンゼン；芳香族ハロゲン化合物、たとえばモノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼンおよびクロロナフテン；およびフェノールなどを挙げることができる。転化プロセスにおいて使用する溶媒の量は、処理すべきフタロシアニン共結晶の重量の約１倍〜約１００倍、いくつかの実施態様においては、処理すべきフタロシアニン共結晶の重量の約５倍〜約５０倍である。

いくつかの実施態様においては、その芳香族溶媒をアルコール溶媒と組み合わせることができる。好適なアルコール溶媒の例としては、約８個までの炭素原子を有するもの、たとえばメタノールやエタノールを挙げることができる。混合溶媒を使用する場合には、芳香族溶媒／アルコール溶媒の容量比は、約９９：１から１：９９まで、いくつかの実施態様においては約９０：１０から約３０：７０までとすることができる。

転化工程を起こさせるのに必要な時間は各種あって、たとえば約１時間〜約７時間、いくつかの実施態様においては約２時間〜約６時間、いくつかの実施態様においては約３時間〜約５時間である。

転化処理をした後、フタロシアニン共結晶を濾過により集め、先に述べたように、たとえば脱イオン水またはアセトンを用いた洗浄工程にかけ、真空乾燥させると、目的のフタロシアニン共結晶を得ることができる。

得られたフタロシアニン共結晶をさらなる乾燥工程にかけて、たとえば効果的な温度、たとえば約５０℃〜約９０℃、いくつかの実施態様においては約６０℃〜約８０℃に加熱して、フタロシアニン共結晶顔料を得る。

得られるフタロシアニン共結晶の中における金属フタロシアニンの無金属フタロシアニンに対する重量比は、約９９：１から約１０：９０まで、いくつかの実施態様においては約９５：５から約５０：５０までである。たとえば、フタロシアニン共結晶の中におけるチタニルフタロシアニンの無金属フタロシアニンに対する重量比は、約９９：１から約１０：９０まで、いくつかの実施態様においては約９５：５から約５０：５０までである。

一つの実施態様においては、金属フタロシアニンと無金属フタロシアニン（Ｈ_２ＰＣ）との共結晶の調製に含まれるプロセスには、金属フタロシアニンおよび無金属フタロシアニンを、トリフルオロ酢酸と塩化メチレンとの混合物中に可溶化させる工程；目的のフタロシアニン共結晶を沈殿させるか、またはたとえば濾過により分離させる工程、場合によっては、生成混合物を洗浄にかける工程；続いて、芳香族溶媒、たとえばモノクロロベンゼン中で転化させる工程；そして、それに続けての、フタロシアニン共結晶をさらなる任意の濾過および洗浄にかける工程が含まれる。いくつかの実施態様においては、金属フタロシアニンがチタニルフタロシアニン、たとえばαチタニルフタロシアニンであり、無金属フタロシアニンがＸ型の無金属フタロシアニンであってもよい。

本発明に開示の方法により得られるフタロシアニン共結晶は、各種公知の手段により同定することができるが、そのような手段としてはたとえば、市販の装置、たとえばジーメンス（Ｓｉｅｍｅｎｓ）Ｄ５０００Ｘ線回折計を用いたＸ線粉末回折法（ＸＲＰＤ）を挙げることができる。金属／無金属フタロシアニン共結晶によるピークは、Ｘ線回折スペクトルにおいて２Θ（２シータ±０．２度）７．６度、９．５度、１６．４度、２３．５度、および２７．４度に見出すことができる。チタニル／無金属フタロシアニン（９５％／５％）のピークは、Ｘ線回折スペクトルにおいて２Θ（２テータ±０．２度）７．６度、９．５度、９．８度、１１．８度、１３．４度、１４．３度、１４．９度、１６．４度、１８．２度、２２．５度、２３．５度、２４．２度、２５．４度、２７．４度、２８．７度に見出すことができる。

一旦得られさえすれば、本発明に開示のフタロシアニン共結晶は、バインダ樹脂と組み合わせて、感光体の電荷発生層の形成に適した分散体を形成させることができる。電荷発生層を形成させるのに使用される分散体を形成させるためのバインダ樹脂としては、いかなる成膜性ポリマあるいは成膜性ポリマの組合せを用いてもよい。分散体を調製するのに使用する好適なバインダ樹脂の例を挙げれば、熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂で、たとえばポリカーボネート類、塩化ビニルと酢酸ビニルのコポリマ類、ポリエステル類（ポリエチレンテレフタレートを含む）などがある。これらのポリマは、ブロックコポリマ、ランダムコポリマ、あるいは交互コポリマなどであってもよい。

電荷発生層を形成させるのに使用される分散体を形成させるために使用することが可能な、好適なポリカーボネート類の例を挙げれば（これらに限定される訳ではない）、ポリ（４，４’−イソプロピリデンジフェニルカーボネート）（別称ビスフェノールＡポリカーボネート）、ポリ（４，４’−ジフェニル−１，１’−シクロヘキサンカーボネート）（別称、ビスフェノールＺポリカーボネート、ポリカーボネートＺ、またはＰＣＺ）、ポリ（４，４’−スルホニルジフェニルカーボネート）（別称、ビスフェノールＳポリカーボネート）、ポリ（４，４’−エチリデンジフェニルカーボネート）（別称、ビスフェノールＥポリカーボネート）、ポリ（４，４’−メチリデンジフェニルカーボネート）（別称、ビスフェノールＦポリカーボネート）、ポリ（４，４’−（１，３−フェニレンジイソプロピリデン）ジフェニルカーボネート）（別称、ビスフェノールＭポリカーボネート）、ポリ（４，４’−（１，４−フェニレンジイソプロピリデン）ジフェニルカーボネート）（別称、ビスフェノールＰポリカーボネート）、およびポリ（４，４’−ヘキサフルオロイソプロピリデンジフェニルカーボネート）などがある。

電荷発生層を形成させるのに使用される分散体を形成させるために使用することが可能な、好適な塩化ビニル類および酢酸ビニル類の例を挙げれば（これらに限定される訳ではない）、カルボキシル変性塩化ビニル／酢酸ビニルコポリマ、たとえばＶＭＣＨ（ダウ・ケミカル（Ｄｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌ）から入手可能）、およびヒドロキシル変性塩化ビニル／酢酸ビニルコポリマ、たとえばＶＡＧＦ（ダウ・ケミカル（Ｄｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌ）から入手可能）などがある。

電荷発生層を形成させるのに使用されるバインダ樹脂の分子量は、約１０００〜約１００００、いくつかの実施態様においては約３０００〜約９０００の範囲がよい。

バインダ樹脂を本発明に開示の共結晶顔料と組み合わせて、電荷発生層を形成させるのに使用される分散体を形成させる。いくつかの実施態様においては、単一のバインダ樹脂を、本発明に開示の分散体を形成させるために使用することができる。また別な実施態様においては、上述のバインダ樹脂の２種以上の混合物を、本発明に開示の分散体を形成させるために使用することができる。２種以上のバインダ樹脂を使用する場合、バインダ樹脂の数は、約２〜約５、いくつかの実施態様においては約２〜約３の範囲である。

電荷発生層を形成させるのに使用される分散体中に存在させることができるバインダ樹脂は、分散体の約２０重量パーセント〜約９５重量パーセント、一つの実施態様においては、分散体の約２５重量パーセント〜約７５重量パーセントの範囲の量であるが、ただし、それらの相対量がこれらの範囲から外れていてもよい。

分散体の中に共結晶顔料は、各種好適な、または所望の量で存在させることができ、それから調製される電荷発生層に所望のレベルの顔料が含まれるようにする。いくつかの実施態様においては、分散体中、したがって電荷発生層中に共結晶顔料が、たとえば、分散体の約５重量パーセント〜約８０重量パーセント、一つの実施態様においては、分散体の約２５重量パーセント〜約７５重量パーセントの範囲の量で存在させることができる。

電荷発生層を形成させるのに使用される分散体を調製する際には、溶媒を使用するのが望ましい。バインダ樹脂を溶媒に添加して溶液を形成させ、次いで共結晶顔料をその溶液に添加する。使用する溶媒は、その感光体の上に予め付着させてある他の層（もし存在すれば）を乱したり悪影響を与えたりすることが実質的にないものとするべきであり、また、本発明に開示のフタロシアニン共結晶顔料を乱すことがあってもならない。電荷発生層を調製するのに使用することが可能な溶媒の例を挙げれば、ケトン類、アルコール類、芳香族炭化水素類、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、エーテル類、アミン類、アミド類、エステル類、それらの混合物などがある。具体的な例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、ブタノール、アミルアルコール、トルエン、キシレン、モノクロロベンゼン、四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレン、トリクロロエチレン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、酢酸ブチル、酢酸エチル、酢酸メトキシエチル、それらの混合物などが挙げられる。

単一または複数のバインダ樹脂の中に、フタロシアニン共結晶を分散させるためには、各種好適な方法を用いることができる。フタロシアニン共結晶を含む分散体は、たとえば、アトリター（attritor）、ボールミル、ダイノミル（Dynomill）、ペイントシェーカー、ホモジナイザー、マイクロフルイダイザー、機械的撹拌器、インラインミキサーまたはその他適切な混練り方法を使用して、形成させることができる。

一つの実施態様においては、使用可能な分散方法としては、たとえば、ボールミル分散、ロールミル分散、垂直または水平アトリターでの分散、サンドミル分散などが挙げられる。分散される混合物の固形分含量は、広い範囲の濃度から選択することができる。ボールロールミルを用いた場合の分散時間は通常、約４日から約６日とすることができる。所望により、バインダ樹脂の存在下または非存在下で、溶媒の無い状態でフタロシアニン共結晶を分散させてから、最終的なコーティング分散体を形成させることも可能である。

一つの実施態様においては、本発明に開示の分散体を調製した後に、その中の顔料の重量％を調節するために、その分散体に溶媒を添加することができる。電荷発生層を形成させる際に所望の顔料量とするために、前もって形成された分散体（本明細書ではミルベース（millbase）と呼ぶことがある）を希釈するプロセスは、本明細書においては、時に「レットダウン（let down）」と呼ぶことがある。一つの実施態様においては、上述の溶媒を使用して、ミルベースをレットダウンさせ、顔料がバインダ樹脂に対して所望の比率になるようにすることができる。

本発明に開示の分散体を塗布して、感光体の他の層の上に電荷発生層を形成させるためには、各種好適および従来からの方法を使用することができる。典型的な塗布方法としては、浸漬塗布、ロール塗布、スプレー塗布、ロータリーアトマイザなどがある。この塗布方法では、広い範囲の固形分濃度のものが使用できる。固形分含量は、分散体の全重量を基準にして約２重量パーセント〜約５０重量パーセント、いくつかの実施態様においては分散体の全重量を基準にして約３．５重量パーセント〜約７重量パーセントの範囲とすることができる。「固形分（solid）」という表現は、コーティング分散体の顔料粒子とバインダ成分とを指す。これらの固形分濃度は、浸漬コーティング、ロールコーティング、押出しコーティング、スプレーコーティングなどの場合に有用である。一般的には、ロールコーティングの場合には、より濃度の高いコーティング分散体を使用することができる。

本発明に開示の共結晶顔料と樹脂バインダ材料とを含む電荷発生層の厚みは、約０．０５μｍ〜約５μｍの範囲、いくつかの実施態様においては約０．１μｍ〜約１μｍの範囲とするが、厚みがこれらの範囲から外れていてもよい。電荷発生層の厚みは、共結晶顔料とバインダの相対量に関係し、共結晶顔料は多くの場合、約５〜約８０重量パーセントの範囲、いくつかの実施態様においては約４５〜約７０重量パーセントの範囲の量として存在している。バインダ含量が高い組成物ほど一般に、光発生層を厚くする必要がある。一般的に、この層は、像様または印刷露光工程において、それに当てられた入射光の約９０パーセント以上を吸収するのに充分な厚みとするのが望ましい。この層の最大厚みは、たとえば、機械的な配慮、他の層の厚み、およびフレキシブルな光導電画像形成部材が望ましいかどうかなどの因子によって決まってくる。

本発明に開示の分散体は、単層または多層感光体を含めて、感光体のための各種公知の構成に関連して、電荷発生層を形成させるのに使用することができる。多層感光体の例としては、下記の特許、米国特許第６，８００，４１１号明細書、米国特許第６，８２４，９４０号明細書、米国特許第６，８１８，３６６号明細書、米国特許第６，７９０，５７３号明細書、および米国特許出願公開第２００４０１１５５４６号明細書に記載されているものを挙げることができる。感光体には、電荷発生層（ＣＧＬ）（本明細書においては光発生層と呼ぶこともある）と、電荷輸送層（ＣＴＬ）とが含まれていてよい。その他の層、たとえば基材、導電層、電荷阻止層または正孔阻止層、接着層、および／またはオーバーコート層などが、感光体の中に存在していてもよい。

感光体を形成させるのに使用できる、好適な基材は、不透明であっても実質的に透明であってもよく、基材として使用するのに必要な機械的性質を有する各種適切な有機材料または無機材料であればよい。基材は可撓性でも、継ぎ目なしでも、剛直でもよく、また、各種の形態、たとえば、平板状、円筒状、ドラム状、巻物状、エンドレスベルト状などであってよい。

基材の厚みは、機械的性能や経済性など、各種の因子によって変わってくる。硬質の基材の場合では、その基材の厚みは、約３ミリメートル〜約１０ミリメートル、いくつかの実施態様においては約４ミリメートル〜約８ミリメートルの範囲とすることができる。可撓性の基材の場合では、その基材の厚みは、小直径のロール、たとえば、１９ミリメートルの直径の周りに巻いたときに、最適な可撓性と最小の延びとするためには、約６５〜約１５０マイクロメートル、いくつかの実施態様においては約７５〜約１００マイクロメートルの範囲とすることができる。基材全体を導電性材料とすることもできるし、あるいは導電性材料をポリマ基材の上にコーティングすることもできる。

その基材が不透明であっても実質的に透明であってもよいが、本発明に開示の画像形成部材のために選択される基材層としては、絶縁材料の層、たとえば無機材料または有機ポリマ材料、たとえばマイラー（ＭＹＬＡＲ，登録商標）（デュポン（ＤｕＰｏｎｔ）から市販されているポリマ）、チタン含有マイラー（ＭＹＬＡＲ，登録商標）、半導体表面層、たとえばインジウムスズ酸化物またはその上にアレンジしたアルミニウムを有する有機または無機材料の層、または導電性材料、たとえばアルミニウム、クロム、ニッケル、黄銅などが挙げられる。

基材と共に、各種好適な導電性材料を使用することができる。好適な導電性材料の例を挙げれば、銅、黄銅、ニッケル、亜鉛、クロム、ステンレス鋼、導電性プラスチックおよびゴム、アルミニウム、半透明性アルミニウム、鋼、カドミウム、銀、金、ジルコニウム、ニオブ、タンタル、バナジウム、ハフニウム、チタン、ニッケル、クロム、タングステン、モリブデン、適切な物質を内包させるか、またはその物質を導電性にするのに充分な水分含量を存在させるような高湿雰囲気でコンディショニングすることで導電性とした紙、インジウム、スズ、金属酸化物、たとえば酸化スズおよびインジウムスズ酸化物などがある。

導電性表面を形成させてから、場合によっては正孔阻止層をその基板層に塗布することができる。正孔阻止層の中の成分の例を挙げると、金属酸化物、たとえば酸化チタンまたは酸化亜鉛、金属アルキルオキシド、たとえば金属プロポキシド、たとえばチタンイソプロキシド（ＴＩＰ）、ジルコニウムイソプロキシド、チタンメトキシド、チタンブトキシド、ジルコニウムブトキシド、チタンエトキシドなど、シラン、たとえばアルキルアルコキシシラン、たとえば３−アミノプロピルトリメトキシシラン（ＡＰＳ）、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルジイソプロピルエトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジエトキシシランまたは３−アミノプロピルペンタメチルジシロキサンなど、たとえばアミノフェニルトリメトキシシラン；熱硬化性樹脂のフェノール樹脂、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）、およびそれらの混合物のポリマ；ポリビニルアルコール、ポリ（メタクリル酸ヒドロキシエチル）、ポリ（アクリル酸ヒドロキシプロピル）およびポリ（ビニルピロリドン）；ビニルハライドのようなコポリマ、特に塩化ビニルコポリマ、たとえばポリ（塩化ビニル−コ−酢酸ビニル）、ポリ（塩化ビニル−コ−酢酸ビニル−コ−ビニルアルコール）、ポリ（塩化ビニリデン−コ−アクリル酸メチル）またはポリ（塩化ビニル−コ−イソブチルビニルエーテル）などが挙げられ、そしてここで、コーティング溶液のために選択される溶媒は、適切な有機溶媒、たとえば、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、トルエン、アルコール、たとえば１−プロパノール、エタノール、１−ブタノール、およびアセトンである。いくつかの実施態様においては、最終組成物中に存在させる成分の量は、たとえば、金属アルキルオキシド、たとえばチタンイソプロポキシドが、約５パーセント〜約９５パーセント、より具体的には約２０パーセント〜約８０パーセント；シラン、たとえば３−アミノプロピルトリメトキシシランが、約９５パーセント〜約５パーセント、いくつかの実施態様においては、約８０パーセント〜約２０パーセント；バインダポリマ、たとえばＰＶＢが、約１パーセント〜約９９パーセント、いくつかの実施態様においては、約５パーセント〜約７０パーセント；溶媒がたとえば、約５〜約９５重量パーセント、いくつかの実施態様においては、約１５〜約８０パーセントとすることができる。

その阻止層は連続であってよく、その厚みは約０．０１マイクロメートル〜約３０マイクロメートル、いくつかの実施態様においては約０．１マイクロメートル〜約８マイクロメートルとする。

任意層である接着層を正孔阻止層に塗布することができる。いかなる好適な接着層を使用してもよいが、たとえばポリエステル類、ポリアミド類、ポリ（ビニルブチラール）、ポリビニルアルコール、ポリウレタンおよびポリアクリロニトリルなどが挙げられる。接着層を存在させる場合には、その厚みはたとえば、約０．００１マイクロメートル〜約１マイクロメートルとする。場合によっては、その接着層に適切な量、たとえば約１重量パーセント〜約１０重量パーセントの導電性および非導電性粒子、たとえば酸化亜鉛、二酸化チタン、窒化ケイ素、カーボンブラックなどを含ませて、さらに望ましい電気的および光学的性質を本発明に開示の感光体に与えることができる。接着層コーティング混合物を正孔阻止層に塗布するための、従来からの方法としては、スプレー法、ディップコーティング法、ロールコーティング法、巻線ロッドコーティング法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法などが挙げられる。付着させたコーティングの乾燥は、各種好適な従来からの方法で実施できるが、そのような方法としてはたとえば、オーブン乾燥法、赤外線照射乾燥法、空気乾燥法などが挙げられる。

いくつかの実施態様においては、感光体にはさらに電荷発生層に貼り付けた電荷輸送層が含まれる。その電荷輸送層には、不活性なポリマ材料の中に分散させた電荷輸送または正孔輸送分子（ＨＴＭ）が含まれていてもよい。それらの化合物は、そうでなければ、電荷発生層からの光発生された正孔の注入を支持することが不可能でありまた自体がそれらの正孔を通過させることが不可能な、ポリマ材料に添加することができる。それらのＨＴＭを添加することにより、電気的に不活性なポリマ材料を、電荷発生層からの光発生された正孔の方向を支持することが可能で、表面電荷を電荷輸送層の上に放電させるための、電荷輸送層を通過させてそれらの正孔の輸送を可能とする材料へと転換させる。

電荷輸送層を形成させるのに使用する好適なポリマとしては、電荷発生層を形成するために使用したポリマが挙げられる。いくつかの実施態様においては、電荷輸送層の形成に使用するための樹脂材料は、電気的に不活性な樹脂、たとえばポリカーボネート樹脂で、その重量平均分子量が約２０，０００〜約１５０，０００、いくつかの実施態様においては約５０，０００〜約１２０，０００であるものである。電荷輸送層に使用することが可能な、電気的に不活性な樹脂材料としては、ポリ（４，４’−ジプロピリデン−ジフェニレンカーボネート）で、その重量平均分子量が約３５，０００〜約４０，０００である、ゼネラル・エレクトリック・カンパニー（Ｇｅｎｅｒａｌ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｃｏｍｐａｎｙ）からレキサン（ＬＥＸＡＮ，登録商標）１４５として入手可能なもの；ポリ（４，４’−プロピリデン−ジフェニレンカーボネート）で、その重量平均分子量が約４０，０００〜約４５，０００である、ゼネラル・エレクトリック・カンパニー（Ｇｅｎｅｒａｌ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｃｏｍｐａｎｙ）からレキサン（ＬＥＸＡＮ，登録商標）１４１として入手可能なもの；ポリカーボネート樹脂で、その重量平均分子量が約５０，０００〜約１００，０００である、ファルベン・ファブリケン・バイエル・Ａ．Ｇ．（Ｆａｒｂｅｎｆａｂｒｉｃｋｅｎ Ｂａｙｅｒ Ａ．Ｇ．）からマクロロン（ＭＡＫＲＯＬＯＮ，登録商標）として入手可能なもの；およびポリカーボネート樹脂で、その重量平均分子量が約２０，０００〜約５０，０００である、モーベイ・ケミカル・カンパニー（Ｍｏｂａｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ）からメルロン（ＭＥＲＬＯＮ，登録商標）として入手可能なもの、などが挙げられる。電荷輸送層コーティング混合物を形成させるには、塩化メチレン溶媒を使用することができる。

当業者に公知の各種の適切な電荷輸送分子または電気的に活性な分子を、感光体上に電荷輸送層を形成させる際のＨＴＭとして用いることができる。好適な電荷輸送分子としては、たとえば、米国特許第４，２６５，９９０号明細書に記載されているようなアリールアミンが挙げられる。いくつかの実施態様においては、アリールアミン電荷正孔輸送成分は次式で表すことが可能である。

ここで、Ｘは、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、またはそれらの混合物からなる群より選択される。典型的には、ハロゲンはクロリドである。アルキル基には、たとえば約１〜約１０個の炭素原子、いくつかの実施態様においては約１〜約５個の炭素原子を含んでいてよい。好適なアリールアミンの例を挙げれば（これらに限定される訳ではない）、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（アルキルフェニル）−１，１−ビフェニル−４，４’−ジアミン（ここでそのアルキルはメチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシルなどであってよい）およびＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（ハロフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン（ここで、そのハロは、クロロ、ブロモ、フルオロなどの置換基であってよい）がある。

電荷輸送層中のＨＴＭとして使用可能なその他好適なアリールアミンの例を挙げれば（これらに限定される訳ではない）、トリトリルアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，４−ジメチルフェニル）−Ｎ”（１−ビフェニル）アミン、２−ビス（（４’−メチルフェニル）アミノ−ｐ−フェニル）−１，１−ジフェニルエチレン、１−ビスフェニル−ジフェニルアミノ−１−プロペン、トリフェニルメタン、ビス（４−ジエチルアミン−２−メチルフェニル）フェニルメタン、４’−４”−ビス（ジエチルアミノ）−２’，２”−ジメチルトリフェニルメタン、Ｎ，Ｎ’−ビス（アルキルフェニル）−〔１，１’−ビフェニル〕−４，４’−ジアミン（ここで、そのアルキルは、たとえば、メチル、エチル、プロピル、ｎ−ブチルなどである）、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３”−メチルフェニル）−（１，１’−ビフェニル）−４，４’−ジアミンなどがある。

得られた電荷輸送層中におけるポリマバインダの電荷輸送分子に対する重量比は、たとえば、約８０／２０から約３０／７０までの範囲とすることができる。いくつかの実施態様においては、ポリマバインダの電荷輸送分子に対する重量比は約４０／６０から約７５／２５まで、いくつかの実施態様においては約５０／５０から約６０／４０までの範囲とすることができる。

ポリマバインダを正孔輸送材料と組み合わせて混合したり、そのものを電荷輸送層として感光体に塗布するためには、各種好適な、通常の方法を使用することができる。いくつかの実施態様においては、ポリマバインダおよび正孔輸送材料を溶媒に加えることによって、電荷輸送層の形成とそれの感光体への塗布を容易とするのが有利であろう。使用可能な溶媒の例を挙げれば、芳香族炭化水素類、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、アミド類など、またはそれらの混合物がある。いくつかの実施態様においては、溶媒、たとえば、シクロヘキサノン、シクロヘキサン、クロロベンゼン、四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレン、トリクロロエチレン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどを、各種の量、たとえば約５０ミリリットル〜約１，０００ミリリットルの量で使用することができる。電荷輸送層を塗布するための典型的な方法としては、スプレーコーティング法、ディップコーティング法、ロールコーティング法、巻線ロッドコーティングなどが挙げられる。付着させたコーティングの乾燥は、各種好適な従来からの方法で実施できるが、そのような方法としてはたとえば、オーブン乾燥法、赤外線照射乾燥法、空気乾燥法などが挙げられる。

一般的に、電荷輸送層の厚みは、約２〜約５０マイクロメートル、いくつかの実施態様においては約１５〜約３５マイクロメートルの範囲とすることができるが、厚みがこの範囲から外れているものも使用できる。電荷輸送層は、電荷輸送層の上に置かれた静電荷が、光をあてない場合には、伝導されない程度の絶縁材とすべきであって、その程度は、その上に静電潜像が生成、保持されるのを防止するのに充分なものとする。通常、電荷輸送層の電荷発生層（もし存在すれば）に対する厚みの比は、約２：１から２００：１まで、場合によっては４００：１もの大きさであってもよい。

電荷発生層が多層構成感光体の一部である場合には、得られた分散体を、接着層、適切な導電層、または電荷輸送層に塗布することができる。電荷輸送層と組み合わせて使用する場合には、その電荷発生層を、導電性表面と電荷輸送層との間に挟み込んでもよいし、あるいは、電荷輸送層を、導電性表面と電荷発生層との間に挟み込んでもよい。

感光体の中に存在させる場合、電荷発生層、電荷輸送層、およびその他の層は、正、負いずれかに荷電させる感光体を製造するために、各種適切な順序で塗布することができる。たとえば、米国特許第４，２６５，９９０号明細書に記載があるように、電荷発生層を電荷輸送層より先に塗布することもできるし、あるいは米国特許第４，３４６，１５８号明細書に記載があるように、電荷輸送層を電荷発生層より先に塗布することもできる。

場合によっては、オーバーコート層を感光体の表面に塗布して、摩耗に対する抵抗性を改良することができる。いくつかの場合では、カール防止バックコーティングを、基材の感光体活性層（すなわち、ＣＧＬおよびＣＴＬ）とは反対側に塗布して、ウェブ構成の感光体を製作する際の平坦性および／または耐摩耗性を与えることもできる。それらのオーバーコーティング層およびカール防止バックコーティング層は周知であって、電気的に絶縁性であるかまたはわずかに半導性である、熱可塑性有機ポリマまたは無機ポリマを含んでいてよい。オーバーコーティングは連続層であってよく、その厚みは、約０．５〜約１０マイクロメートル、いくつかの実施態様においては約１〜約３マイクロメートルとする。カール防止バッキング層の一例は、米国特許第４，６５４，２８４号明細書に記載されている。いくつかの実施態様においては、たとえば、バイエル・マテリアル・サイエンス（Ｂａｙｅｒ Ｍａｔｅｒｉａｌ Ｓｃｉｅｎｃｅ）からマクロロン（ＭＡＫＲＯＬＯＮ，登録商標）として市販されているポリカーボネート材料のようなカール防止層を用いて、基材の裏面をコーティングするのが望ましい。カール防止バッキング層の厚みは、支持基板層の反対側にある単一または複数の層にかかる全部の力と実質的にバランスするのに充分なものとするべきである。カール防止バッキング層の厚みは、たとえば、約７０〜約１６０マイクロメートル、いくつかの実施態様においては約１００〜約１２０マイクロメートルの範囲とすることができる。

本発明に開示の共結晶顔料を用いて調製した電荷発生層を有する感光体の感度は、約２００Ｖｃｍ^２／エルグ〜約６２０Ｖｃｍ^２／エルグ、いくつかの実施態様においては約４００Ｖｃｍ^２／エルグ〜約５２０Ｖｃｍ^２／エルグの範囲の感度とすることができる。

画像形成のプロセス、特に、電子写真（xerographic）画像形成および印刷もまた、本開示に包含される。さらに詳しくは、本発明に開示の感光体は、多くの各種公知の画像形成および印刷プロセスのために選択することができるが、そのようなものとしてはたとえば、電子写真の（electrophotographic）画像形成プロセス、特に電子写真（xerographic）画像形成プロセス、および適当な電荷極性を有するトナー組成物を用いることにより目に見えるようになる荷電潜像を与える印刷プロセスを挙げることができる。いくつかの実施態様においては、その画像形成部材は、たとえば、約５００〜約９００ナノメートル、いくつかの実施態様においては、約６５０〜約８５０ナノメートルの波長領域に対する感度が高く、そのため、ダイオードレーザーを光源として選択することが可能である。さらに、本開示の画像形成部材は、カラー電子写真（xerographic）用途、特に、高速カラーコピーおよび印刷プロセスにおいて有用である。

本発明に開示の実施態様を説明するために、以下に実施例を記述する。それらの実施例は、説明のためだけを目的としており、本発明の開示の範囲を限定しようとするものではない。さらに、部およびパーセントは、特に断らない限り、重量基準である。

＜実施例１＞
本発明に開示の共結晶顔料を調製するために、９．５グラムの粗製ＴｉＯＰＣ（α的な性質を示すもの）と０．５グラムのＸ型Ｈ_２ＰＣとを、１５０グラムのトリフルオロ酢酸と塩化メチレンの混合溶媒（ＣＦ_３ＣＯＯＨ／ＣＨ_２Ｃｌ_２）の中に、４０〜４５℃で約２時間溶解させた。その溶液を、メタノールと塩化メチレンからの混合溶媒（５００グラム）の中で、徐々にクエンチさせ、吸引濾過してから、その顔料を、温度約７５〜９０℃の熱脱イオン水を用いて３回、次いで温度約４０〜５０℃の熱メタノールを用いて２回洗浄した。一夜吸引濾過させてから、その顔料を、７８グラムのモノクロロベンゼン（ＭＣＢ）中で約４時間かけて転化させ、その後、その物質を濾過し、約１８〜約２０時間かけて真空乾燥させた。

得られた共結晶顔料は、有機光導電体（ＯＰＣ）ドラム感光体の上で、評価、試験した。その感光体デバイスの構成には、アセチルアセトネートトリブトキシジルコニウム、（アミノプロピル）トリメトキシシランおよびポリビニルブチラールを有するジルコニウムシラン下塗り層、その上に塗布した、塩化ビニル／酢酸ビニルバインダ樹脂中の共結晶顔料で作った電荷発生層、および、その電荷発生層の上の、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（アルキルフェニル）−１，１−ビフェニル−４，４’−ジアミンおよびポリカーボネートからの電荷輸送層が含まれていた。すべてのデバイスの上の下塗り層の厚みは約１．１μｍ、すべてのデバイスの上の電荷発生層の厚みは約０．２５μｍ、そしてすべてのデバイスの上の電荷輸送層の厚みは約２５μｍであった。

得られた物質について、ジーメンス（Ｓｉｅｍｅｎｓ）Ｄ５０００Ｘ線回折計を使用して、Ｘ線回折スペクトルを測定した。得られたチタニル／無金属フタロシアニン（９５％／５％）のピークは、Ｘ線回折スペクトルにおいて２Θ（２シータ±０．２度）７．６度、９．５度、９．８度、１１．８度、１３．４度、１４．３度、１４．９度、１６．４度、１８．２度、２２．５度、２３．５度、２４．２度、２５．４度、２７．４度、２８．７度に観察された。

同じ構成と成分であるが、顔料としてのＨＯＧａＰＣまたは顔料としてのＴｉＯＰＣを使用した、さらなる感光体デバイスを比較のために調製した。電子スキャナーの設定を、荷電−消去を１００サイクル、続けて直ちにさらに１００サイクル、そして順に荷電−消去の２サイクルと荷電−露光−消去の１サイクルとすることにより、顔料としてのＴｉＯＰＣ／Ｈ_２ＰＣ共結晶、顔料としてのＨＯＧａＰＣ、および顔料としてのＴｉＯＰＣを有するデバイスの光誘起放電特性（ＰＩＤＣ）を測定したが、ここで光源の強度をサイクル数とともに漸増させて、光誘起放電曲線を得て、そのデータから感光性の測定を行った。一連の濃度フィルターを調節する手段を用いて、露光強度を徐々に上げていき、露光波長はバンドフィルターで７８０±５ナノメートルに調節した。露光光源は、１０００ワットのキセノンアークランプ白色光源であった。そのデバイスは、６１ｒｐｍの速度で回転させた。すべての電子写真（xerographic）模擬実験は、環境調節した防光チャンバの中において環境条件下（相対湿度５０パーセント、２２℃）で実施した。それらの試験の結果を図１に示す。本発明に開示の共結晶顔料から作製したデバイスは、顔料としてＨＯＧａＰＣを有するデバイスよりは高感度であり、また、顔料としてＴｉＯＰＣを有するデバイスよりはほんのわずか感度が低かった。表１にそれらのデバイスの光電的性質をまとめた。

分散体中の、本発明に開示のＴｉＯＰＣ／Ｈ_２ＰＣ顔料共結晶、および分散体含有ＴｉＯＰＣの吸収スペクトルを、ＵＶ−Ｖｉｓスペクトロフォトメータを用いて測定し、その結果を図２に示した。図２からも判るように、ＴｉＯＰＣ／Ｈ_２ＰＣ共結晶顔料のＱバンド特性は、ＴｉＯＰＣ顔料のそれとは全く異なっており、多型に差があることを示唆している。注目すべきは、π−Ｅ_ｇ遷移（約６００〜６５０ｎｍ）の振動子強度が、ＴｉＯＰＣ／Ｈ_２ＰＣ共結晶の方がＴｉＯＰＣ顔料よりも低いことで、これは、共結晶のためのスタッキング性（stacking properties）が異なっていることのもう一つの示唆である。

本発明に開示のＴｉＯＰＣとＨ_２ＰＣの共結晶は、優れた感度を有し、また、ＴｉＯＰＣ単独および／またはＨ_２ＰＣ単独とは異なったモルホロジーを有している。本明細書において製造されたＴｉＯＰＣとＨ_２ＰＣとからの共結晶は、ユニークな吸収スペクトルと、誘電体厚み約２５μｍにおいて約５００Ｖｃｍ^２／エルグの感度を有している。この感度は、最も感度が高いＴｉＯＰＣよりもわずか約５〜７．５％低いだけであり、ＨＯＧａＰＣよりは感度が高い。

本発明に開示のＴｉＯＰＣ／Ｈ_２ＰＣフタロシアニン共結晶顔料を用いて調製した感光体デバイスの光誘起放電特性（ＰＩＤＣ）曲線を、顔料としてそれぞれＨＯＧａＰＣ、およびＴｉＯＰＣを含む感光体デバイスの場合と比較して示したグラフである。 本発明に開示のＴｉＯＰＣ／Ｈ_２ＰＣフタロシアニン共結晶顔料分散体の吸収スペクトルを、ＴｉＯＰＣ顔料分散体の場合と比較して示したグラフである。

Claims (4)

1. 金属フタロシアニンおよび無金属フタロシアニンを、少なくとも１種の溶媒と接触させる工程と、
   フタロシアニン物質を共結晶として回収する工程と、
   を含む方法。
2. 前記金属フタロシアニンが、チタニルフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニンおよびジルコニルフタロシアニンからなる群より選択される、請求項１に記載の方法。
3. 前記溶媒が、プロトン酸類、芳香族溶媒、エーテル類、ピロリジノン類、アルキルハライド類、アルキレンハライド類、およびそれらの混合物からなる群より選択される、請求項１に記載の方法。
4. チタニルフタロシアニンおよび無金属フタロシアニンを、トリフルオロ酢酸および塩化メチレンを含む溶媒と接触させる工程と、
   得られた溶液を、アルコール類、水、アルキレンハライド類、ケトン類およびそれらの組合せからなる群より選択される非溶媒と接触させて、フタロシアニン共結晶を沈殿させる工程と、
   前記沈殿したフタロシアニン共結晶を芳香族溶媒と接触させる工程と、
   前記フタロシアニン共結晶を回収する工程と、
   を含む、フタロシアニン共結晶を調製するための方法。

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