JP2006286536A5 - - Google Patents

Description

本発明の一態様によれば、一般的で安価なマッチングボックスを用いて装置のコストを低く抑えるとともに、被処理物の歩留まりを高く維持することでプロセス全体のコストを下げることができるプラズマ生成方法が提供される。このプラズマ生成方法によれば、電磁波を透過する材質で形成された壁を有するプラズマ生成室の内部にプロセスガスを導入し、上記プラズマ生成室の壁に沿って配置され、両端部の中間点が電気的に接地され、インダクタンスが０．５μＨ〜２μＨであるアンテナの両端部に、高周波電力を、マッチングボックスを介して供給して上記プラズマ生成室の内部に誘導結合型プラズマを生成する。

本発明の他の態様によれば、一般的で安価なマッチングボックスを用いて装置のコストを低く抑えるとともに、被処理物の歩留まりを高く維持することでプロセス全体のコストを下げることができるプラズマ生成方法が提供される。このプラズマ生成方法によれば、電磁波を透過する材質で形成された壁を有するプラズマ生成室の内部にプロセスガスを導入し、上記プラズマ生成室の壁に沿って配置され、両端部が電気的に接地され、インダクタンスが０．５μＨ〜２μＨであるアンテナの両端部の中間点に、高周波電力を、マッチングボックスを介して供給して上記プラズマ生成室の内部に誘導結合型プラズマを生成する。

本発明の他の態様によれば、一般的で安価なマッチングボックスを用いて装置のコストを低く抑えるとともに、被処理物の歩留まりを高く維持することでプロセス全体のコストを下げることができるプラズマ生成方法が提供される。このプラズマ生成方法によれば、電磁波を透過する材質で形成された壁を有するプラズマ生成室の内部にプロセスガスを導入し、上記プラズマ生成室の壁に沿って配置され、一端部が電気的に接地され、並列に接続された複数のループを有する、インダクタンスが０．５μＨ〜２μＨであるアンテナの他端部に高周波電力を供給して上記プラズマ生成室の内部に誘導結合型プラズマを生成する。

本発明の他の態様によれば、一般的で安価なマッチングボックスを用いて装置のコストを低く抑えるとともに、被処理物の歩留まりを高く維持することでプロセス全体のコストを下げることができる誘導結合型プラズマ源が提供される。この誘導結合型プラズマ源は、電磁波を透過する材質で形成された壁を有するプラズマ生成室と、上記プラズマ生成室の内部にプロセスガスを導入するガス導入ポートと、上記プラズマ生成室の壁に沿って配置されたアンテナと、上記アンテナの両端部に接続されたマッチングボックスとを備えている。上記アンテナの両端部の中間点は電気的に接地される。また、上記誘導結合型プラズマ源は、上記アンテナの両端部に上記マッチングボックスを介して高周波電力を供給して上記プラズマ生成室の内部に誘導結合型プラズマを生成する高周波電源を備えている。上記アンテナのインダクタンスは、０．５μＨ〜２μＨである。

本発明の他の態様によれば、一般的で安価なマッチングボックスを用いて装置のコストを低く抑えるとともに、被処理物の歩留まりを高く維持することでプロセス全体のコストを下げることができる誘導結合型プラズマ源が提供される。この誘導結合型プラズマ源は、電磁波を透過する材質で形成された壁を有するプラズマ生成室と、上記プラズマ生成室の内部にプロセスガスを導入するガス導入ポートと、上記プラズマ生成室の壁に沿って配置されたアンテナと、上記アンテナの両端部の中間点に接続されたマッチングボックスとを備えている。上記アンテナの両端部は電気的に接地される。また、上記誘導結合型プラズマ源は、上記アンテナの両端部の中間点に上記マッチングボックスを介して高周波電力を供給して上記プラズマ生成室の内部に誘導結合型プラズマを生成する高周波電源を備えている。上記アンテナのインダクタンスは、０．５μＨ〜２μＨである。

本発明の他の態様によれば、一般的で安価なマッチングボックスを用いて装置のコストを低く抑えるとともに、被処理物の歩留まりを高く維持することでプロセス全体のコストを下げることができる誘導結合型プラズマ源が提供される。この誘導結合型プラズマ源は、電磁波を透過する材質で形成された壁を有するプラズマ生成室と、上記プラズマ生成室の内部にプロセスガスを導入するガス導入ポートと、上記プラズマ生成室の壁に沿って配置され、一端部が電気的に接地され、並列に接続された複数のループを有するアンテナと、上記アンテナの他端部に接続されたマッチングボックスと、上記アンテナの他端部に上記マッチングボックスを介して高周波電力を供給して上記プラズマ生成室の内部に誘導結合型プラズマを生成する高周波電源とを備えている。上記アンテナのインダクタンスは、０．５μＨ〜２μＨである。

上述したように、内径５００ｍｍ、全長１００ｍｍ、巻数２のコイルのインダクタンスは約２μＨであるが、図４に示すような接続方法を施すだけで、コイル２０のインダクタンスを０．５μＨに低減することができ、コイル２０のインダクタンスを一般的なマッチングボックスで対応できるインダクタンス範囲である０．５μＨ〜２μＨ程度の範囲に入れることができる。

Claims (19)

1. 電磁波を透過する材質で形成された壁を有するプラズマ生成室の内部にプロセスガスを導入し、
   前記プラズマ生成室の壁に沿って配置され、両端部の中間点が電気的に接地され、インダクタンスが０．５μＨ〜２μＨであるアンテナの両端部に、高周波電力を、マッチングボックスを介して供給して前記プラズマ生成室の内部に誘導結合型プラズマを生成することを特徴とするプラズマ生成方法。
2. 電磁波を透過する材質で形成された壁を有するプラズマ生成室の内部にプロセスガスを導入し、
   前記プラズマ生成室の壁に沿って配置され、両端部が電気的に接地され、インダクタンスが０．５μＨ〜２μＨであるアンテナの両端部の中間点に、高周波電力を、マッチングボックスを介して供給して前記プラズマ生成室の内部に誘導結合型プラズマを生成することを特徴とするプラズマ生成方法。
3. 前記アンテナは、コイル状のアンテナまたは渦巻状のアンテナであり、前記中間点は、前記アンテナの両端部から等距離の位置にあることを特徴とする請求項１または２に記載のプラズマ生成方法。
4. 前記アンテナは渦巻状のアンテナであり、
   前記中間点は、前記アンテナの両端部から該中間点までのインダクタンスが互いに同一となる位置にあることを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載のプラズマ生成方法。
5. 電磁波を透過する材質で形成された壁を有するプラズマ生成室の内部にプロセスガスを導入し、
   前記プラズマ生成室の壁に沿って配置され、一端部が電気的に接地され、並列に接続された複数のループを有する、インダクタンスが０．５μＨ〜２μＨであるアンテナの他端部に高周波電力を供給して前記プラズマ生成室の内部に誘導結合型プラズマを生成することを特徴とするプラズマ生成方法。
6. 電磁波を透過する材質で形成された壁を有するプラズマ生成室の内部にプロセスガスを導入し、
   前記プラズマ生成室の壁に沿って配置されたアンテナであって、その一端部が電気的に接地され、並列または直列に接続された複数のループコイルを有する、インダクタンスが０．５μＨ〜２μＨであるアンテナの他端部に高周波電力を供給して前記プラズマ生成室の内部に誘導結合型プラズマを生成することを特徴とするプラズマ生成方法。
7. 電磁波を透過する材質で形成された壁を有するプラズマ生成室の内部にプロセスガスを導入し、
   前記プラズマ生成室の壁に沿って配置されたアンテナであって、その一端部が電気的に接地され、並列または直列に接続されたループコイルおよびループを有する、インダクタンスが０．５μＨ〜２μＨであるアンテナの他端部に高周波電力を供給して前記プラズマ生成室の内部に誘導結合型プラズマを生成することを特徴とするプラズマ生成方法。
8. 電磁波を透過する材質で形成された壁を有するプラズマ生成室と、
   前記プラズマ生成室の内部にプロセスガスを導入するガス導入ポートと、
   前記プラズマ生成室の壁に沿って配置され、両端部の中間点が電気的に接地されたアンテナと、
   前記アンテナの両端部に接続されたマッチングボックスと、
   前記アンテナの両端部に前記マッチングボックスを介して高周波電力を供給して前記プラズマ生成室の内部に誘導結合型プラズマを生成する高周波電源と、
   を備え、
   前記アンテナのインダクタンスは、０．５μＨ〜２μＨであることを特徴とする誘導結合型プラズマ源。
9. 電磁波を透過する材質で形成された壁を有するプラズマ生成室と、
   前記プラズマ生成室の内部にプロセスガスを導入するガス導入ポートと、
   前記プラズマ生成室の壁に沿って配置され、両端部が電気的に接地されたアンテナと、
   前記アンテナの両端部の中間点に接続されたマッチングボックスと、
   前記アンテナの両端部の中間点に前記マッチングボックスを介して高周波電力を供給して前記プラズマ生成室の内部に誘導結合型プラズマを生成する高周波電源と、
   を備え、
   前記アンテナのインダクタンスは、０．５μＨ〜２μＨであることを特徴とする誘導結合型プラズマ源。
10. 前記アンテナは、コイル状のアンテナまたは渦巻状のアンテナであり、前記中間点は、前記アンテナの両端部から等距離の位置にあることを特徴とする請求項８または９に記載の誘導結合型プラズマ源。
11. 前記アンテナは渦巻状のアンテナであり、
    前記中間点は、前記アンテナの両端部から該中間点までのインダクタンスが互いに同一となる位置にあることを特徴とする請求項８または９に記載の誘導結合型プラズマ源。
12. 電磁波を透過する材質で形成された壁を有するプラズマ生成室と、
    前記プラズマ生成室の内部にプロセスガスを導入するガス導入ポートと、
    前記プラズマ生成室の壁に沿って配置され、一端部が電気的に接地され、並列に接続された複数のループを有するアンテナと、
    前記アンテナの他端部に接続されたマッチングボックスと、
    前記アンテナの他端部に前記マッチングボックスを介して高周波電力を供給して前記プラズマ生成室の内部に誘導結合型プラズマを生成する高周波電源と、
    を備え、
    前記アンテナのインダクタンスは、０．５μＨ〜２μＨであることを特徴とする誘導結合型プラズマ源。
13. 電磁波を透過する材質で形成された壁を有するプラズマ生成室と、
    前記プラズマ生成室の内部にプロセスガスを導入するガス導入ポートと、
    前記プラズマ生成室の壁に沿って配置されたアンテナであって、その一端部が電気的に接地され、並列または直列に接続された複数のループコイルを有するアンテナと、
    前記アンテナの他端部に接続されたマッチングボックスと、
    前記アンテナの他端部に前記マッチングボックスを介して高周波電力を供給して前記プラズマ生成室の内部に誘導結合型プラズマを生成する高周波電源と、
    を備え、
    前記アンテナのインダクタンスは、０．５μＨ〜２μＨであることを特徴とする誘導結合型プラズマ源。
14. 電磁波を透過する材質で形成された壁を有するプラズマ生成室と、
    前記プラズマ生成室の内部にプロセスガスを導入するガス導入ポートと、
    前記プラズマ生成室の壁に沿って配置されたアンテナであって、その一端部が電気的に接地され、並列または直列に接続されたループコイルおよびループを有するアンテナと、
    前記アンテナの他端部に接続されたマッチングボックスと、
    前記アンテナの他端部に前記マッチングボックスを介して高周波電力を供給して前記プラズマ生成室の内部に誘導結合型プラズマを生成する高周波電源と、
    を備え、
    前記アンテナのインダクタンスは、０．５μＨ〜２μＨであることを特徴とする誘導結合型プラズマ源。
15. 前記誘導結合型プラズマの電位を制御する少なくとも１つの電位制御電極と、
    前記電位制御電極に電圧を印加する電位制御電源と、
    をさらに備えたことを特徴とする請求項８から１４のいずれか一項に記載の誘導結合型プラズマ源。
16. 前記電位制御電源は、連続運転可能または変調運転可能に構成されていることを特徴とする請求項１５に記載の誘導結合型プラズマ源。
17. 前記高周波電源は、連続運転可能または変調運転可能に構成されていることを特徴とする請求項１６に記載の誘導結合型プラズマ源。
18. 前記電位制御電源は、前記高周波電源と同期可能に構成されていることを特徴とする請求項１７に記載の誘導結合型プラズマ源。
19. 請求項８から１８のいずれか一項に記載の誘導結合型プラズマ源と、
    被加工物を保持する保持台と、
    前記保持台が配置された加工室と、
    前記プロセスガスを排気する排気装置と、
    を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。