JP2011520029A5 - - Google Patents

Claims (8)

1. 複数の壁を有する基板処理チャンバと、
   前記チャンバ内に配置された１つまたは複数の回転可能なプロセスドラムと、
   前記基板処理チャンバ内に配置され、基板が前記基板処理チャンバを通過する際に基板がその間を通過できるように隔置された複数の充填剤ブロックと、
   前記処理チャンバと結合された１つまたは複数のプラズマ源と、
   を含む装置であって、前記プラズマ源が、
   前記複数のチャンバ壁のうちの１つまたは複数に結合されたプラズマ管であって、中心本体から延びる２つのアーム部分をさらに含み、各アームの端部が前記チャンバ壁と結合された、プラズマ管と、
   誘導結合されたプラズマを生じさせる手段とを含み、前記管の内部で誘導結合されたプラズマを生じさせる手段が、
   前記プラズマ管を実質上取り囲む１つまたは複数のフェライトブロックと、
   前記１つまたは複数のフェライトブロックを実質上取り囲む１つまたは複数の駆動コイルとを含む、装置。
2. 前記処理チャンバを通過する基板と前記複数の充填剤ブロックとの間の距離がプラズマ暗部より短い、請求項１に記載の装置。
3. 前記複数の充填剤ブロックと前記１つまたは複数の回転可能なプロセスドラムが、合わせて、前記処理チャンバ体積の約９０％を含む、請求項２に記載の装置。
4. 前記１つまたは複数の回転可能なプロセスドラムと前記１つまたは複数のプラズマ源の間の見通し経路内には、充填剤ブロックが配置されない、請求項３に記載の装置。
5. 基板処理チャンバと、
   前記処理チャンバと結合され、実質上線状のプラズマを発生させることが可能な１つまたは複数のプラズマ源と、
   を含むウェブ処理装置であって、前記プラズマ源が、
   前記処理チャンバに結合されたプラズマ管であって、中心本体から延びる２つのアーム部分をさらに含み、各アームの端部が前記処理チャンバと結合された、プラズマ管と、
   前記プラズマ管を実質上取り囲む１つまたは複数のフェライトブロックと、
   前記１つまたは複数のフェライトブロックを実質上取り囲む１つまたは複数の駆動コイルとを含む、ウェブ処理装置。
6. 前記１つまたは複数の駆動コイルと結合された高周波電源をさらに含む、請求項５に記載の装置。
7. 前記１つまたは複数の駆動コイルが多重巻きコイルを含む、請求項６に記載の装置。
8. ロールツーロール基板移送システムをさらに含む、請求項５に記載の装置。