JP2006276655A

JP2006276655A - プラスティックミラー用成形材料

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Publication number: JP2006276655A
Application number: JP2005097933A
Authority: JP
Inventors: Hideyuki Tsunemori; 秀幸常守
Original assignee: Teijin Chemicals Ltd
Current assignee: Teijin Ltd
Priority date: 2005-03-30
Filing date: 2005-03-30
Publication date: 2006-10-12

Abstract

【課題】曲げ弾性率、流動性、耐熱性に優れ、金型表面への精密転写性を有するポリカーボネート樹脂及びポリフェニレン樹脂からなるプラスティックミラー用成形材料の提供。
【解決手段】式［１］で表される繰り返し単位を有するポリカーボネート樹脂及び、式［４］で表される繰り返し単位を有するポリフェニレン樹脂よりなる熱可塑性樹脂組成物であるプラスティックミラー用成形材料。

【選択図】なし

Description

本発明は、プラスティックミラーに関する。更に詳しくは、曲げ弾性率、流動性、耐熱性に優れ、金型表面に対する精密転写性を有するポリカーボネート樹脂及びポリフェニレン樹脂からなるプラスティックミラー用成形材料に関する。

従来、２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（通称；ビスフェノールＡ）にホスゲンやジフェニルカーボネートなどのカーボネート前駆物質を反応させて得られるポリカーボネート樹脂は透明性、耐熱性、耐衝撃性、機械的特性、寸法安定性が優れているがゆえにエンジニアリングプラスチックとして多くの分野に広く使用されている。更に近年、その透明性を生かして光ディスク、光ファイバー、レンズ、プラスティックミラー等の分野への光学材料としての利用が展開されている。とりわけ、プラスティック基体上に反射膜を形成したプラスティックミラーでは、部品の軽量薄肉化などを目的としてポリカーボネート樹脂の利用が盛んに行われている。

このような近年の軽薄短小化あるいは、回転式ミラーの高速回転化に対応すべく、溶融流動性や金型の精密転写性、さらには高剛性樹脂が望まれている。これに対して、従来、一般的に使用されているビスフェノールＡ型ポリカーボネートは、非晶性ポリマーの典型的な性質である剛性の低さのため、プラスティックミラー用材料としての適性がやや劣る樹脂であることは否めない。

一般に、ポリカーボネート樹脂の剛性を向上するためには、嵩高い動きにくい構造を有するビスフェノール類を共重合する方法があり、種々のポリカーボネート樹脂が提案されている。例えば、アダマンタン構造を有するビスフェノールを主として得られるポリカーボネート樹脂（例えば特許文献１参照）または、特定のジヒドロキシジフェニルシクロアルカンをベースとするポリカーボネート樹脂が考案されている。（例えば特許文献２参照）更に、特定のフルオレン構造を有するポリカーボネート樹脂が提案されている（例えば特許文献３，４参照）。しかしながら、これらの構造を有するポリカーボネート樹脂は分子が動きにくい構造のため耐熱性及び剛性には優れるものの、溶融流動性は必ずしもよくなく、射出成形性、押出成形性には問題があった。もう一つの手法として、ガラス繊維や充填材などの添加物を配合する手法が試みられている。しかし、上記添加物はポリカーボネート樹脂組成物の剛性を向上させるが、成形時の流動性を低下させる傾向にあり、成形品表面にこれらの添加物が浮き出ることが多く、外観不良の原因になるという問題があった。

特開平５−７８４６７号公報特開平２−８８６３４号公報特開平１１−１７４４２４号公報特開平８−１３４１９８号公報

本発明は上記課題を解決し、優れた剛性、溶融流動性及び耐熱性を有し、且つ金型の精密転写性を有するポリカーボネート樹脂とポリフェニレン樹脂からなるプラスティックミラー用成形材料を提供することにある。

本発明者は、上記目的を達成せんとして、鋭意研究を重ねた結果、該熱可塑性樹脂が、特定のガラス転移温度で、特定の曲げ弾性率と特定の溶融流動性を有する為に、それを使用することにより高剛性で、寸法安定性、成形時の金型に対する精密転写性に優れたプラスティックミラー用成形材料が得られることを見出し、本発明に到達した。

以下，本発明を詳細に説明する。本発明では、繰り返し単位として下記式［１］

（式中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のシクロアルキル基、炭素数６〜２０のシクロアルコキシ基、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基、炭素数６〜１０のアリールオキシ基及び炭素数７〜２０のアラルキルオキシ基からなる群より選ばれる基を表し、Ｒ^１及びＲ^２が複数ある場合はそれぞれ同一若しくは異なっていてもよく、ｍ及びｎは夫々１〜４の整数であり、Ｗは炭素数５〜１２の脂環式炭化水素基もしくは下記式［２］で表される構造単位

であり、式［２］においてＲ^３、Ｒ^４はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜１０の炭化水素基を表し、Ｒ^５及びＲ^６はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｒ^５及びＲ^６が複数ある場合はそれぞれ同一若しくは異なっていてもよく、ｐは４〜７の整数、Ｒ^７及びＲ^８はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表す。）
で表される繰り返し単位を少なくとも１種類有するポリカーボネート樹脂及び、下記式［３］

（式中、フェニレン単位の結合はオルト、メタ又はパラ位を示す。また、Ｒ^９は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のシクロアルキル基、炭素数６〜２０のシクロアルコキシ基、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基、炭素数６〜１０のアリールオキシ基及び炭素数７〜２０のアラルキルオキシ基からなる群より選ばれる基を表し、Ｒ^９が複数ある場合はそれぞれ同一若しくは異なっていてもよく、ｑは１〜４の整数である。）
で表される繰返し単位（Ａ）と下記式［４］

（式中、Ｒ^１０及びＲ^１１はそれぞれ独立してそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のシクロアルキル基、炭素数６〜２０のシクロアルコキシ基、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基、炭素数６〜１０のアリールオキシ基及び炭素数７〜２０のアラルキルオキシ基からなる群より選ばれる基を表し、Ｒ^１０及びＲ^１１が複数ある場合はそれぞれ同一若しくは異なっていてもよく、Ｚは−Ｏ−，−Ｓ−，−Ｏ（ＣＯ_２）−，−ＣＯ−，−ＳＯ−，−ＳＯ_２−，−ＣＨ_２−，−ＣＦ_２−，−（ＣＯ）ＮＨ（ＣＯ）−を示し、ｒ及びｓはそれぞれ１〜４の整数である。）
で表される繰返し単位（Ｂ）よりなり、全結合繰返し単位における単位（Ａ）と単位（Ｂ）との割合がモル比で（Ａ）：（Ｂ）＝１：９９〜９９：１の範囲にあるポリフェニレン樹脂よりなり、組成物全重量１００重量部に対し、該ポリフェニレン樹脂を１〜９９重量部含むことを特徴とするプラスティックミラー用成形材料が提供される。また、（Ａ）ガラス転移温度が１２０℃〜１８０℃であり、及び（Ｂ）曲げ弾性率が２，７００ＭＰａ〜８，０００ＭＰａであることを満足するプラスティックミラー用成形材料が提供される。

さらに本発明によれば、上記式［３］、［４］より表される繰返し単位（Ａ）、（Ｂ）の全結合繰返し単位における割合は（Ａ）：（Ｂ）＝１：９９〜９９：１が好ましく、（Ａ）：（Ｂ）＝５：９５〜９５：５がより好ましく、（Ａ）：（Ｂ）＝１０：９０〜９０：１０が最も好ましい。その場合、ポリカーボネート樹脂との相溶性に優れ、且つ剛性及び耐熱性に優れたプラスティックミラー用成形材料が提供される。

また、本発明によれば、組成物全重量１００重量部に対する上記式［３］、［４］で表される繰返し単位（Ａ）、（Ｂ）を有するポリフェニレン樹脂の含有量は１〜９９重量部が好ましく、１０〜９０重量部がより好ましく、２０〜８０重量部がさらに好ましく、３０〜７０重量部が最も好ましい。その場合、剛性及び溶融流動性が良好で金型に対する精密転写性に優れたプラスティックミラー用成形材料が提供される。ポリフェニレン樹脂の割合が１重量部より小さい場合、曲げ弾性率が不十分であり、９９重量部より大きい場合は溶融流動性が悪く、金型に対する精密転写性が劣る。

本発明のプラスティックミラー用成形材料に含まれるポリカーボネート樹脂は、前記一般式［１］におけるＷが下記一般式［５］、

（Ｒ^３及びＲ^４はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜１０の炭化水素基を表し、Ｒ^５及びＲ^６はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｒ^５及びＲ^６が複数ある場合はそれぞれ同一若しくは異なっていてもよく、ｐは４〜７の整数、Ｒ^７及びＲ^８はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子又は炭素数１〜３のアルキル基である。）
で表わされる構成単位を少なくとも１種類有するポリカーボネート樹脂であることが好ましく、前記一般式［１］が２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、４，４’−（ｍ−フェニレンジイソピリデン）ジフェノール及び９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレンから選ばれる少なくとも一種から誘導された構成単位であるポリカーボネート樹脂であることがより好ましく、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンより誘導された構成単位であるポリカーボネート樹脂であることが最も好ましい。

また、本発明の熱可塑性樹脂組成物に含まれるポリフェニレン樹脂は、該熱可塑性樹脂の剛性がさらに向上するため、繰り返し単位（Ａ）におけるＲ^９が水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基、炭素数６〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜８のシクロアルコキシ基、炭素数６〜８のアリール基、炭素数７〜９のアラルキル基、炭素数６〜８のアリールオキシ基及び炭素数７〜９のアラルキルオキシ基からなる群より選ばれる基であることが好ましく、また繰り返し単位（Ｂ）におけるＲ^１０及びＲ^１１がそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基、炭素数６〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜８のシクロアルコキシ基、炭素数６〜８のアリール基、炭素数７〜９のアラルキル基、炭素数６〜８のアリールオキシ基及び炭素数７〜９のアラルキルオキシ基からなる群より選ばれる基であることが好ましい。さらに、本発明のプラスティックミラー用成形材料に含まれるポリフェニレン樹脂は、繰り返し単位が１，４−フェニレン、１，３−フェニレン、１，２−フェニレンからなる群より選ばれる少なくとも一種である構成単位及び、１，４−（ベンゾイルフェニレン）、１，４−（４’−フェノキシベンゾイルフェニレン）からなる群より選ばれる少なくとも一種である構成単位であるポリフェニレン樹脂が好ましく、より好ましくは繰り返し単位が１，３−フェニレン及び１，４−（ベンゾイルフェニレン）である構成単位で構成されたポリフェニレン樹脂であることが好ましい。

本発明のプラスティックミラー用成形材料は、そのガラス転移温度が１２０℃〜１８０℃、好ましくは１２５℃〜１６５℃、より好ましくは１３０℃〜１６０℃である。ガラス転移温度が１２０℃よりも低くなると、プラスティックミラー用基体としての耐熱性が不足し好ましくなく、１８０℃より高くなると、溶融流動性が悪く成形不良を生じ、金型表面を精密に転写した表面平滑性の優れたプラスティックミラー用基体が得られなくなり好ましくない。

また、本発明のプラスティックミラー用成形材料の流動性は、３００℃、１．２ｋｇｆの測定条件でのＭＶＲの値で５ｃｍ^３／１０分以上が好ましく、２０ｃｍ^３／１０分以上がより好ましく、３０ｃｍ^３／１０分以上がさらに好ましい。

本発明のプラスティックミラー用成形材料は、ＩＳＯ１７８に準拠して測定した曲げ弾性率が、２，７００ＭＰａ以上、好ましくは２，９００ＭＰａ、さらに好ましくは３，１００ＭＰａ以上である。曲げ弾性率が２，７００ＭＰaより小さいと、剛性不足により成形体厚みを薄くすることが困難であるため好ましくない。

また、ガラス繊維など無機添加物を使用することによる剛性強化については、金型に対する精密転写性において表面平滑性が損なわれる可能性があるので好ましくない。

本発明のプラスティックミラー用成形材料を調製する時には、任意の方法が採用される。例えば溶液状態のポリカーボネート樹脂に、ポリフェニレン樹脂を混合した後、溶媒を留去、次いでベント式押出機等で溶融ペレット化する方法または、ポリカーボネート樹脂とポリフェニレン樹脂をスーパーミキサー、タンブラー、ナウターミキサー等で混合し、二軸ルーダー等でペレット化する方法等が用いられる。また、必要に応じて安定剤、酸化防止剤、光安定剤、着色材、滑り材、離型剤等の添加剤を加える事もできる。さらに射出成形、圧縮成形、射出圧縮成形に供するためのペレット状ポリカーボネート樹脂を得る押出工程（ペレット化工程）では溶融状態の時に濾過精度１０μｍの焼結金属フィルターを通すなどして異物を除去することが好ましい。いずれにしても射出成形前の原料樹脂は異物、不純物、溶媒などの含有量を極力低くしておくことが必要である。

本発明のプラスティックミラー用成形材料には、必要に応じて、リン酸、亜リン酸、ホスホン酸、亜ホスホン酸およびこれらのエステルよりなる群から選択された少なくとも１種のリン化合物を配合することができる。かかるリン化合物の配合量は、該芳香族ポリカーボネート共重合体に対して０.０００１〜０.０５重量％が好ましく、０.０００５〜０.０２重量％がより好ましく、０.００１〜０.０１重量％が特に好ましい。このリン化合物を配合することにより、かかるプラスティックミラー用成形材料の熱安定性が向上し、成形時における分子量の低下が防止される。

かかるリン化合物としては、リン酸、亜リン酸、ホスホン酸、亜ホスホン酸およびこれらのエステルよりなる群から選択される少なくとも１種のリン化合物であり、好ましくは下記一般式

［式中、Ｒ^５〜Ｒ^１７は、それぞれ独立して、水素原子、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシルなどの炭素原子数１〜２０のアルキル基、フェニル、トリル、ナフチルなどの炭素原子数６〜１５のアリール基またはベンジル、フェネチルなどの炭素原子数７〜１８のアラルキル基を表し、また１つの化合物中に２つのアルキル基が存在する場合は、その２つのアルキル基は互いに結合して環を形成していてもよい。］
よりなる群から選択された少なくとも１種のリン化合物である。

上記式［６］で示されるリン化合物としては、例えばトリフェニルホスファイト、トリスノニルフェニルホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリデシルホスファイト、トリオクチルホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジデシルモノフェニルホスファイト、ジオクチルモノフェニルホスファイト、ジイソプロピルモノフェニルホスファイト、モノブチルジフェニルホスファイト、モノデシルジフェニルホスファイト、モノオクチルジフェニルホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、などが挙げられる。

上記式［７］で示されるリン化合物としては、例えばトリブチルホスフェート、トリメチルホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリエチルホスフェート、ジフェニルモノオルソキセニルホスフェート、ジブチルホスフェート、ジオクチルホスフェート、ジイソプロピルホスフェートなどが挙げられ、上記式［８］で示されるリン化合物としては、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４−ジフェニレンホスホナイトなどが挙げられ、また上記式［９］で示される化合物としては、ベンゼンホスホン酸ジメチル、ベンゼンホスホン酸ジエチル、ベンゼンホスホン酸ジプロピルなどが挙げられる。

上記式[１０]で示される化合物としてはビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイトなどが挙げられる。

これらのリン化合物のなかで、トリスノニルフェニルホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４−ジフェニレンホスホナイトが好ましく使用される。

さらに本発明のプラスティックミラー用成形材料には、必要に応じて一価または多価アルコールの高級脂肪酸エステルを加えることもできる。

かかる高級脂肪酸エステルとしては、炭素原子数１〜２０の一価または多価アルコールと炭素原子数１０〜３０の飽和脂肪酸との部分エステルまたは全エステルであるのが好ましい。また、かかる一価または多価アルコールと飽和脂肪酸との部分エステルまたは全エステルとしては、ステアリン酸モノグリセリド、ステアリン酸モノソルビテート、ベヘニン酸モノグリセリド、ペンタエリスリトールモノステアレート、ペンタエリスリトールテトラステアレート、プロピレングリコールモノステアレート、ステアリルステアレート、パルミチルパルミテート、ブチルステアレート、メチルラウレート、イソプロピルパルミテート、２−エチルヘキシルステアレートなどが挙げられる。なかでもステアリン酸モノグリセリド、ペンタエリスリトールテトラステアレートが好ましく用いられる。かかるアルコールと高級脂肪酸とのエステルの配合量は、該プラスティックミラー用成形材料に対して０.０１〜２重量％が好ましく、０.０１５〜０.５重量％がより好ましく、０.０２〜０.２重量％がさらに好ましい。配合量がこの範囲内であれば離型性に優れ、また離型剤がマイグレートし金属表面に付着することもなく好ましい。

発明の熱可塑性樹脂組成物には、酸化防止の目的で通常知られた酸化防止剤を添加することができる。その例としてはフェノール系酸化防止剤を示すことができ、具体的には例えばトリエチレングリコール−ビス（３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート）、１,６−ヘキサンジオール−ビス（３−（３,５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート）、ペンタエリスリトール−テトラキス（３−（３,５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート）、オクタデシル−３−（３,５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、１,３,５−トリメチル−２,４,６−トリス（３,５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、Ｎ,Ｎ−ヘキサメチレンビス（３,５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマイド）、３,５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンジルホスホネート−ジエチルエステル、トリス（３,５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、３,９−ビス｛１,１−ジメチル−２−［β−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］エチル｝−２,４,８,１０−テトラオキサスピロ（５,５）ウンデカン等が挙げられる。これら酸化防止剤の好ましい添加量の範囲は熱可塑性樹脂組成物に対して、０.０００１〜０.０５重量％である。

本発明のミラーは、前記のポリカーボネート樹脂及びポリフェニレン樹脂からなるプラスティックミラー成形材料を用いて成形した基体表面の少なくとも一面に、金属又は金属酸化物層からなる反射層を形成したものである。

本発明のポリカーボネート樹脂組成物からミラー用の基体を得る方法としては、射出成形，圧縮成形，射出圧縮成形，押し出し成形、ブロー成形等が用いられる。その中で成形の容易性やコストの面から特には射出成形法あるいは射出圧縮成形法により成形されることが好ましい。その場合、金型温度はポリカーボネート樹脂及びポリフェニレン樹脂からなるプラスティックミラー成形材料のガラス転移温度（Ｔｇ）に対し、Ｔｇ−２５（℃）〜Ｔｇ（℃）の範囲である事が好ましく、Ｔｇ−２０（℃）〜Ｔｇ−５（℃）の範囲である事がより好ましい。金型温度をこの範囲にする事により、より精密な転写により平滑な表面が形成され、精密部品におけるミラーに使用可能な特性を得る事ができる。

上記のミラー用基体の表面粗さ（Ｒａ）は５００ｎｍ以下が好ましく、２００ｎｍ以下がより好ましく、１００ｎｍ以下が最も好ましい。

基体の形状は、各種射出成形法等により製造されたプレート状基体が適している。プレート状基体の平面形状は、円形、楕円形、三角形、四角形、それ以上の多角形等、ミラーの用途に応じて適宜選択される。またミラーの反射面は、プレート状基体の平面部分および側面部分のいずれであってもよい。また反射面は当然のことながら単なる平坦面のみでなく、集光作用等を有する曲面でもよい。

なお、フィルム状ミラー用の基体としてのフィルムやシートを製造する方法としては、例えば溶剤キャスト法、溶融押出し法、カレンダー法等が挙げられるが、効率的な方法としては溶融押出し法が好ましく用いられる。

基体の表面に金属層又は金属酸化物層を積層する手段や方法は限定されないが、例えば蒸着法、溶射法及びメッキ法が採用される。蒸着法としては物理蒸着法及び化学蒸着法のいずれも可能である。例えば、物理蒸着法としては真空蒸着法、スパッタリング及びイオンプレーティング等が採用される。化学蒸着（ＣＶＤ）法としては、熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法、光ＣＶＤ法等が、溶射法としては大気圧プラズマ溶射法及び減圧プラズマ溶射法等が例示される。メッキ法としては、無電解メッキ（化学メッキ）法、溶融メッキ及び電気メッキ法等が挙げられ、電気メッキ法においてはレーザーメッキ法を使用することができる。本発明のミラーにおいては、これらのうちでも蒸着法及びメッキ法が金属層を形成する上で好ましく、蒸着法が金属酸化物層を形成する上で好ましい。蒸着法及びメッキ法は組合せて使用してもよく、例えば蒸着法で形成された金属層を利用し電気メッキを行う方法等が例示される。また、スパッタ法により酸化ケイ素の薄層と酸化チタンの薄層を交互に多数積層した薄膜層を形成してもよい。

本発明のミラーは、金属層と金属酸化物層とを組合せて積層した反射層を有するものを含む。金属層及び／又は金属酸化物層の樹脂基体表面への形成は、本発明の効果を発揮する範囲内において金属層と同様に導電性を有するカーボン層や導電性ポリマー層等を含むことができる。

金属層及び／又は金属酸化物層からなる反射層の厚みは、複数の層を有する場合にはその合計において、５０μｍ以下であることが本発明の効果が発揮され好ましい。さらにかかる厚みは２０μｍ以下がより好ましく、５μｍ以下がさらに好ましく、２μｍ以下がさらに好ましい。下限値としては０．００１μｍ以上が適切である。

本発明の金属層及び／又は金属酸化物層からなる反射層が形成されたミラーは、各種分野において好適に用いられ、主としてＯＡ機器などで用いられる通常の球面、非球面、中空、平面ミラーやポリゴンミラー、さらにはフィルム状ミラーを対象とするが、これらに限定されるものではない。

特にランプリフレクター、ポリゴンミラー、回折格子、光スイッチング回路部品及び反射鏡（特にレーザー光用）等の精密光反射部品として好適であり、良好な剛性及び軽量との特徴を活かし、高速回転又は高速に可動する部材においてさらに好適である。例えばポリゴンミラーに用いられる。

本発明のプラスティックミラー用成形材料は、曲げ弾性率に代表される剛性、溶融流動性及び耐熱性、さらには金型に対する精密転写性に優れることから、プラスティックミラー用基体材料として好適に用いられ、その奏する工業的効果は格別である。

以下、実施例を挙げて詳細に説明するが、本発明はその趣旨を超えない限り、何らこれに限定されるものではない。実施例及び比較例において「部」は重量部である。なお評価は下記の方法に従った。
（１）ガラス転移温度
ＴＡインスツルメント社製の熱分析システムＤＳＣ−２９１０を使用して、窒素雰囲気下（窒素流量：４０ｍｌ／ｍｉｎ）、昇温速度：２０℃／ｍｉｎの条件下で測定した。
（２）流動性（ＭＶＲ）
ペレットを用いて、ＩＳＯ１１３３に従って、東洋精機製セミオートメルトエンデクサーにより温度３００℃、荷重１．２ｋｇｆで１０分間に流出したポリマー量（ｃｍ^３）を測定した。
（３）曲げ弾性率
ペレットを１２０℃で５時間乾燥後、射出成形機［ＪＳＷ（株）製Ｊ７５ＥIII］により、シリンダ温度２８０℃で射出成形した試験片を用い、ＩＳＯ１７８に従って測定した。（試験片形状；長さ１２７ｍｍ×幅１２．７ｍｍ×厚み６．４ｍｍ）
（４）耐熱性
試験片を上記（３）と同条件で成形し、成形された試験片に対し、ＩＳＯ１７８に準拠して荷重たわみ温度を測定した。（試験片形状；長さ１２７ｍｍ×幅１２．７ｍｍ×厚み６．４ｍｍ）
（５）成形品表面の算術平均粗さ（Ｒａ）
該ペレットを１２０℃で５時間乾燥後、射出成形機［名機製作所（株）製Ｍ３５Ｂ−Ｄ−ＤＭ］及び表面粗さ１００ｎｍの金型を用いて、直径１２０ｍｍφ、厚さ１．２ｍｍの円盤状ミラー用基体を成形した。得られたミラー用基体表面の算術平均粗さ（Ｒａ）を、ＪＩＳＢ０６０１−１９９４に準拠して、表面粗さ形状測定機（小坂研究所製サーフコーダーＳＥ１１００）を使用して、円盤状ミラー用基体中央から外周へ４０ｍｍ離れたところで測定した。
（６）ポリゴンミラー成形及び高速回転時の変形性評価
該ペレットを１２０℃で５時間乾燥後、射出成形機（住友重機械工業（株）製ＳＧ１５０Ｕ型）を使用して、シリンダー温度３４０℃、金型温度１２０℃の条件で、中心から各ミラー面への距離２５ｍｍ、各ミラー部最小板厚５ｍｍ、ミラー部の高さ１５ｍｍ六面鏡タイプのポリゴンミラー基体を成形した。次に、この基体に厚さ８０ｎｍとなるようにＡｌ膜を蒸着し、ポリゴンミラーを作成した。このポリゴンミラーを３０，０００ｒｐｍで高速回転させ、レーザーを照射し、ミラーで走査された結像面上のビームスポット径をビームプロファイラー（エーエルーティ（株）製、走査ビーム径計測システムＡＬＴ−８１８０）で測定した。本測定で用いた光学系の緒元値は走査幅３０ｍｍ、スポット径６０μｍである。本評価では、ポリゴンミラーの高速回転時の遠心力による変形に伴うビーム径の変形が小さいものを○とし、ビーム径の変形が大きいものを×とした。

［実施例１］
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンより得られたポリカーボネート樹脂（帝人化成製、パンライトＬ１２２５−Ｌ）８００．０ｇに、フェニレン及びベンゾイルフェニレンを構成単位とするポリフェニレン樹脂（ミシシッピーポリマーテクロノジー社製Ｐａｒｍａｘ−１２０１Ｋｒｕｍ）を２００．０ｇ添加し、均一に混合した。続いてかかる組成物をベント式二軸押出機［神戸製鋼（株）製ＫＴＸ−４６］によりシリンダー温度２８０℃で脱気しながら溶融混錬し、熱可塑性樹脂組成物ペレットを得た。該ペレットのガラス転移温度、ＭＶＲ、曲げ弾性率、荷重たわみ温度を表１に記載した。該ペレットを１２０℃で５時間乾燥後、射出成形機［名機製作所（株）製Ｍ３５Ｂ−Ｄ−ＤＭ］により、表面粗さ０．０１μｍの金型を用い直径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍの円盤状ミラー基体を射出成形した。得られた基体表面の算術平均粗さ（Ｒａ）を小坂研究所製サーフコーダーＳＥ１１００を使用して測定した。次に、該ペレットを１２０℃で５時間乾燥後、射出成形機（住友重機械工業（株）製ＳＧ１５０Ｕ型）を使用して、シリンダー温度３４０℃、金型温度１２０℃の条件で、中心から各ミラー面への距離２５ｍｍ、各ミラー部最小板厚５ｍｍ、ミラー部の高さ１５ｍｍ六面鏡タイプのポリゴンミラー基体を成形した。次に、この基体に厚さ８０ｎｍとなるようにＡｌ膜を蒸着し、ポリゴンミラーを作成した。このポリゴンミラーを３０，０００ｒｐｍで高速回転させ、レーザーを照射し、ミラーで走査された結像面上のビームスポット径を上記ビームプロファイラーで測定した。結果を表１に併記した。

［実施例２］
ポリカーボネート樹脂（パンライトＬ１２２５−Ｌ）６００．０ｇに、ポリフェニレン樹脂（Ｐａｒｍａｘ−１２０１Ｋｒｕｍ）を４００．０ｇ添加した以外は実施例１と同様にして、熱可塑性樹脂組成物ペレットを得、該ペレットのガラス転移温度、ＭＶＲ、曲げ弾性率、荷重たわみ温度を測定した。さらに、実施例１と同様の方法で基体を作成し、基体表面の算術平均粗さ（Ｒａ）及び高速回転時のポリゴンミラーの変形性を測定した。測定したガラス転移温度、ＭＶＲ、曲げ弾性率、荷重たわみ温度、算術平均粗さ（Ｒａ）及び高速回転時のポリゴンミラーの変形性を表１に記載した。

［実施例３］
ポリカーボネート樹脂（パンライトＬ１２２５−Ｌ）４００．０ｇに、ポリフェニレン樹脂（Ｐａｒｍａｘ−１２０１Ｋｒｕｍ）を６００．０ｇ添加した以外は実施例１と同様にして、熱可塑性樹脂組成物ペレットを得、該ペレットのガラス転移温度、ＭＶＲ、曲げ弾性率、荷重たわみ温度を測定した。さらに、実施例１と同様の方法で基体を作成し、基体表面の算術平均粗さ（Ｒａ）及び高速回転時のポリゴンミラーの変形性を測定した。測定したガラス転移温度、ＭＶＲ、曲げ弾性率、荷重たわみ温度、算術平均粗さ（Ｒａ）及び高速回転時のポリゴンミラーの変形性を表１に記載した。

［実施例４］
ポリカーボネート樹脂（パンライトＬ１２２５−Ｌ）２００．０ｇに、ポリフェニレン樹脂（Ｐａｒｍａｘ−１２０１Ｋｒｕｍ）を８００．０ｇ添加した以外は実施例１と同様にして、熱可塑性樹脂組成物ペレットを得、該ペレットのガラス転移温度、ＭＶＲ、曲げ弾性率、荷重たわみ温度を測定した。さらに、実施例１と同様の方法で基体を作成し、基体表面の算術平均粗さ（Ｒａ）及び高速回転時のポリゴンミラーの変形性を測定した。測定したガラス転移温度、ＭＶＲ、曲げ弾性率、荷重たわみ温度、算術平均粗さ（Ｒａ）及び高速回転時のポリゴンミラーの変形性を表１に記載した。

［比較例１］
ポリカーボネート樹脂（パンライトＬ１２２５−Ｌ）を使用した以外は実施例１と同様にして、熱可塑性樹脂組成物ペレットを得、該ペレットのガラス転移温度、ＭＶＲ、曲げ弾性率、荷重たわみ温度を測定した。さらに、実施例１と同様の方法で基体を作成し、基体表面の算術平均粗さ（Ｒａ）及び高速回転時のポリゴンミラーの変形性を測定した。測定したガラス転移温度、ＭＶＲ、曲げ弾性率、荷重たわみ温度、算術平均粗さ（Ｒａ）及び高速回転時のポリゴンミラーの変形性を表１に記載した。

［比較例２］
ポリフェニレン樹脂（Ｐａｒｍａｘ−１２０１Ｋｒｕｍ）を使用した以外は実施例１と同様にして、熱可塑性樹脂組成物ペレットを得、該ペレットのガラス転移温度、ＭＶＲ、曲げ弾性率、荷重たわみ温度を測定した。さらに、実施例１と同様の方法で基体の作成を試みたが、流動性が悪いため良好な基体を得ることができなかった。測定したガラス転移温度、ＭＶＲ、曲げ弾性率及び荷重たわみ温度を表１に記載した。

［比較例３］
ポリカーボネート樹脂（パンライトＬ１２２５−Ｌ）１０００．０ｇに、繊維径１３ミクロンのガラス繊維（日本電気硝子（株）製）を２５０．０ｇ添加した以外は実施例１と同様にして熱可塑性樹脂組成物ペレットを得、該ペレットのガラス転移温度、ＭＶＲ、曲げ弾性率、荷重たわみ温度を測定した。さらに、実施例１と同様の方法で基体を作成し、基体表面の算術平均粗さ（Ｒａ）を測定した。測定したガラス転移温度、ＭＶＲ、曲げ弾性率、荷重たわみ温度及び算術平均粗さ（Ｒａ）を表１に記載した。なお、この基体はガラス繊維が一部基体表面浮き出ており、ミラーとしては使用不可なものであった。

高速回転時のポリゴンミラーの変形性評価方法の概略図である。

符号の説明

１．ポリゴンミラー
２．レーザー光
３．ｆ４レンズ（走査レンズ）
４．結像面

Claims

繰り返し単位として下記式［１］で表される繰り返し単位を少なくとも１種類有するポリカーボネート樹脂及び、下記式［３］で表される繰返し単位（Ａ）と下記式［４］で表される繰返し単位（Ｂ）よりなり、全結合繰返し単位における単位（Ａ）と単位（Ｂ）との割合がモル比で（Ａ）：（Ｂ）＝１：９９〜９９：１の範囲にあるポリフェニレン樹脂よりなる熱可塑性樹脂組成物であって、組成物全重量１００重量部に対し該ポリフェニレン樹脂を１〜９９重量部含むことを特徴とするプラスティックミラー用成形材料。

［式中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のシクロアルキル基、炭素数６〜２０のシクロアルコキシ基、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基、炭素数６〜１０のアリールオキシ基及び炭素数７〜２０のアラルキルオキシ基からなる群より選ばれる基を表し、Ｒ^１及びＲ^２が複数ある場合はそれぞれ同一若しくは異なっていてもよく、ｍ及びｎは夫々１〜４の整数であり、Ｗは炭素数５〜１２の脂環式炭化水素基もしくは下記式［２］で表される構造単位である。

（Ｒ^３、Ｒ^４はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜１０の炭化水素基を表し、Ｒ^５及びＲ^６はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｒ^５及びＲ^６が複数ある場合はそれぞれ同一若しくは異なっていてもよく、ｐは４〜７の整数、Ｒ^７及びＲ^８はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表す。）］

（式中、フェニレン単位の結合はオルト、メタ又はパラ位を示す。また、Ｒ^９は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のシクロアルキル基、炭素数６〜２０のシクロアルコキシ基、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基、炭素数６〜１０のアリールオキシ基及び炭素数７〜２０のアラルキルオキシ基からなる群より選ばれる基を表し、Ｒ^９が複数ある場合はそれぞれ同一若しくは異なっていてもよく、ｑは１〜４の整数である。）

（式中、Ｒ^１０及びＲ^１１はそれぞれ独立してそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のシクロアルキル基、炭素数６〜２０のシクロアルコキシ基、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基、炭素数６〜１０のアリールオキシ基及び炭素数７〜２０のアラルキルオキシ基からなる群より選ばれる基を表し、Ｒ^１０及びＲ^１１が複数ある場合はそれぞれ同一若しくは異なっていてもよく、Ｚは−Ｏ−，−Ｓ−，−Ｏ（ＣＯ_２）−，−ＣＯ−，−ＳＯ−，−ＳＯ_２−，−ＣＨ_２−，−ＣＦ_２−，−（ＣＯ）ＮＨ（ＣＯ）−を示し、ｒ及びｓはそれぞれ１〜４の整数である。）
前記一般式［１］におけるＷが下記一般式［５］

（Ｒ^３及びＲ^４はそれぞれ独立して水素原子または炭素数１〜１０の炭化水素基を表し、Ｒ^５及びＲ^６はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｒ^５及びＲ^６が複数ある場合はそれぞれ同一若しくは異なっていてもよく、ｐは４〜７の整数、Ｒ^７及びＲ^８はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子又は炭素数１〜３のアルキル基である。）
で表わされる構成単位を少なくとも１種類であることを特徴とする請求項１記載のプラスティックミラー用成形材料。
前記一般式［１］が２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、４，４’−（ｍ−フェニレンジイソピリデン）ジフェノール及び９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレンから選ばれる少なくとも一種から誘導された構成単位である請求項１〜２のいずれかに記載のプラスティックミラー用成形材料。
前記一般式［３］が１，４−フェニレン、１，３−フェニレン及び１，２−フェニレンからなる群より選ばれる少なくとも一種の構成単位であり、及び／又は前記一般式［４］が１，４−（ベンゾイルフェニレン）及び１，４−（４’−フェノキシベンゾイルフェニレン）からなる群より選ばれる少なくとも一種の構成単位である請求項１〜３のいずれかに記載のプラスティックミラー用成形材料。
ポリフェニレン樹脂が前記一般式［３］で表される繰返し単位（Ａ）と前記一般式［４］で表される繰返し単位（Ｂ）よりなり、全結合繰返し単位における単位（Ａ）と単位（Ｂ）との割合がモル比で（Ａ）：（Ｂ）＝１０：９０〜９０：１０の範囲にある請求項１〜４のいずれかに記載のプラスティックミラー用成形材料。
組成物全重量１００重量部に対し該ポリフェニレン樹脂を１０〜９０重量部含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のプラスティックミラー用成形材料。
（Ａ）ガラス転移温度が１２０℃〜１８０℃であり、かつ（Ｂ）曲げ弾性率が２，７００ＭＰａ〜８，０００ＭＰａであることを満足することを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のプラスティックミラー用成形材料。
ＭＶＲ測定において、３００℃、１．２ｋｇｆで、１０分間に流出したポリマー量が５ｃｍ^３以上である請求項１〜７のいずれかに記載のプラスティックミラー用成形材料。
請求項１〜８のいずれかに記載のプラスティックミラー用成形材料より形成されたプラスティックミラー用基体。
反射層が設けられる基体表面の表面粗さ（Ｒａ）が５００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項９記載のプラスティックミラー用基体。
請求項９又は１０記載の基体の少なくとも一面に、反射層を設けたことを特徴とするプラスティックミラー。
反射層が、金属又は金属酸化物からなることを特徴とする請求項１１記載のプラスティックミラー。
反射層の厚みが５０μｍ以下であることを特徴とする請求項１１又は１２記載のプラスティックミラー。