JP2006276644A - 感光性組成物、及びそれを用いた光学素子とその製造方法 - Google Patents
感光性組成物、及びそれを用いた光学素子とその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006276644A JP2006276644A JP2005097797A JP2005097797A JP2006276644A JP 2006276644 A JP2006276644 A JP 2006276644A JP 2005097797 A JP2005097797 A JP 2005097797A JP 2005097797 A JP2005097797 A JP 2005097797A JP 2006276644 A JP2006276644 A JP 2006276644A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- optical element
- support material
- photosensitive composition
- polymerizable liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
【解決手段】 少なくとも重合性液晶材料と光重合開始剤と架橋剤と溶剤とを含む感光性組成物であって、前記架橋剤が、2つ以上のアルキロール基を有する化合物と、2つ以上のアルコキシ基を有する化合物との混合物からなることを特徴とし、この感光性組成物を用いて位相差制御機能層を形成した光学素子であることを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
本発明の光学素子の製造方法は、プリベークで重合性液晶を配向させたままで光重合により固定させ、熱により架橋させるので製造工程が簡単である。
本発明の感光性組成物は、少なくとも重合性液晶材料と光重合開始剤と架橋剤と溶剤とを含むものであり、必要に応じて、カイラル剤、酸発生剤、界面活性剤を含むものである。以下、各構成要素について説明する。
本発明において、重合性液晶層としては、ネマチック液晶を用いることができ、かかる材料としては、重合性モノマー分子、重合性オリゴマー分子又は液晶ポリマー等を単体もしくは2種以上の化合物を含んでもよい。
また、重合性液晶材料としては、一般式(1)に包含される化合物や下記の(化2)に示す化合物の2種以上を混合して使用することもできる。
ここで液晶分子の複屈折Δnと膜厚によりリタデーション量および配向特性が決定されるため、Δnは0.03〜0.20程度が好ましく、さらに好ましくは0.05〜0.15程度が好ましい。
本発明においては、また、ネマチック液晶にカイラル剤を加えた、コレステリック規則性を有するカイラルネマチック液晶を、好適に使用することもできる。カイラル剤としては、光学活性な部位を有する低分子化合物であり、分子量1500以下の化合物を意味する。カイラル剤は主として化合物(I)が発現する正の一軸ネマチック規則性に螺旋ピッチを誘起させる目的で用いられる。この目的が達成される限り、化合物(I)や上記の(化2)に示す化合物と、溶液状態あるいは溶融状態において相溶し、上記ネマチック規則性をとりうる重合性液晶材料の液晶性を損なうことなく、これに所望の螺旋ピッチを誘起できるものであれば、下記に示すカイラル剤としての低分子化合物の種類は特に限定されないが、分子の両末端に重合性官能基があることが耐熱性のよい光学素子を得る上で好ましい。
これらの重合性液晶層を形成する場合には、液晶の配向を大きく損なわない範囲で光重合開始剤を添加する必要がある。光重合開始剤としては、ラジカル重合性開始剤を使用することができる。ラジカル重合性開始剤は、例えば紫外線のエネルギーによりフリーラジカルを発生する化合物であって、ベンゾイン、ベンゾフェノンなどのベンゾフェノン誘導体又はそれらのエステルなどの誘導体;キサントン並びにチオキサントン誘導体;クロロスルフォニル、クロロメチル多核芳香族化合物、クロロメチル複素環式化合物、クロロメチルベンゾフェノン類などの含ハロゲン化合物;トリアジン類;フルオレノン類;ハロアルカン類;光還元性色素と還元剤とのレドックスカップル類;有機硫黄化合物;過酸化物などがある。好ましくは、イルガキュアー184、イルガキュアー369、イルガキュアー651、イルガキュアー907(いずれもチバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製)、ダロキュアー(メルク社製)、アデカ1717(旭電化工業株式会社製)、2,2’−ビス(o−クロロェニル)−4,5,4’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール(黒金化成株式会社製)などのケトン系及びビイミダゾール系化合物等を挙げることができる。これらの開始剤を1種のみ又は2種以上を組み合わせて用いることができる。2種以上を併用する場合には、吸収分光特性を阻害しないようにするのがよい。なお、光重合開始剤の他に増感剤を、本発明の目的が損なわれない範囲で添加することもできる。
このような重合開始剤の添加量としては、一般的に0.01〜15重量%、好ましくは0.1〜12重量%、より好ましくは0.5〜10重量%の範囲で重合性液晶材料に添加することができる。
本発明において、架橋剤としては、2つ以上のアルキロール基を有する化合物と2つ以上のアルコキシ基を有する化合物との混合物を用いるものである。架橋剤として、2つ以上のアルキロール基を有する化合物又は2つ以上のアルコキシ基を有する化合物の単体を用いることも可能だが、混合物とすることで、様々な液晶の組み合わせに対して最適な相溶状態を得ることが出来る。架橋剤は芳香環への親電子置換反応を起こすようなアルキロール類及びアルコキシ類であって、アルキロール類の具体例としては1,2−ベンゼンジメタノール、1,3−ベンゼンジメタノール、1,4−ベンゼンジメタノール、1,3,5−ベンゼンジメタノール等の多官能アルカノール芳香族化合物、ジメチロール尿素、ジメチロールエチレン尿素、ジメチロールプロピレン尿素等の多官能アルカノール尿素、トリメチロールプロパン、トリメチロールプロパンモノアリルエーテル等の多官能アルキルアルカノール化合物、トリメチロールメラミン、トリエチロールメラミン、ヘキサメチロールメラミン、ヘキサエチロールメラミン等の多官能アルカノールメラミン化合物、ジメチロールベンゾグアナミン、トリメチロールベンゾグアナミン、テトラメチロールベンゾグアナミン等のアルカノールベンゾグアナミン化合物が挙げられ、アルコキシ類の具体例としては、1,4−ジメトキシメチルベンゼン、1,3,5−トリメトキシメチルベンゼン、1,3,5−トリアジン−2,4,6−トリ(ジメトキシメチルアミン)、1,3,5−トリアジン−2−メトキシメチルアミン−4,6−ジ(ジメトキシメチルアミン)、1,4−ビス(メトキシフェノキシ)ベンゼン、トリメトキシメチルメラミン、ヘキサメトキシメチルメラミン、N,N’−ジメトキシメチル尿素、N,N’−ジメトキシメチル−4,5−ジメトキシ−2−イミダゾリジオン等を挙げることができる。
このような架橋剤の添加量としては、一般的に1〜50重量%、好ましくは5〜30重量%の範囲で重合性液晶材料に添加することができる。
本発明では、好ましい形態として、触媒として酸発生剤を含むものである。酸発生剤としては、光又は熱により直接もしくは間接的に酸を発生するものであれば特に限定されないが、芳香族ジアゾニウム塩、ジアリールヨードニウム塩、トリアリールスルフォニウム塩、トリアリールセレニウム塩等の各種オニウム塩系化合物、スルフォン酸エステル、ハロゲン化合物等があげられる。
具体例として、芳香族ジアゾニウム塩としては、クロロベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロフォスフェイト、ジメチルアミノベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート、ナフチルジアゾニウムヘキサフルオロフォスフェイト、ジメチルアミノナフチルジアゾニウムテトラフルオロボレート等があげられる。
ジアリールヨードニウム塩としては、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロフォスフェイト、 ジフェニルヨードニウムトリフレート、4,4’−ジ−t−ブチル−ジフェニルヨードニウムトリフレート、4,4’−ジ−t−ブチル−ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、4,4’−ジ−t−ブチル−ジフェニルヨードニウムトヘキサフルオロフォスフェイト等があげられる。
トリアリールスルフォニウム塩としては、トリフェニルスルフォニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルスルフォニウムヘキサフルオロフォスフェイト、トリフェニルスルフォニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリ(p−クロロフェニル)スルフォニウムテトラフルオロボレート、トリ(p−クロロフェニル)スルフォニウムヘキサフルオロフォスフェイト、トリ(p−クロロフェニル)スルフォニウムヘキサフルオロアンチモネート、4−t−ブチルトリフェニルスルフォニウムヘキサフルオロフォスフェイト等があげられる。
トリアリールセレニウム塩としては、トリアリールセレニウムテトラフルオロボレート、トリアリールセレニウムヘキサフルオロフォスフェイト、トリアリールセレニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジ(クロロフェニル)フェニルセレニウムテトラフルオロボレート、ジ(クロロフェニル)フェニルセレニウムヘキサフルオロフォスフェイト、ジ(クロロフェニル)フェニルセレニウムヘキサフルオロアンチモネート等があげられる。
スルフォン酸エステルとしては、ベンゾイントシレート、p−ニトロベンジル−9,10−エトキシアントラセン−2−スルフォネート、2−ニトロベンジルトシレート、2,6−ジニトロベンジルトシレート、2,4−ジニトロベンジルトシレート等があげられる。
ハロゲン化合物としては、2−クロロ−2−フェニルアセトフェノン、2,2’,4’−トリクロロアセトフェノン、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−メトキシスチリル)−4,6−ビス(クロロメチル)−s−トリアジン、2−フェニル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4’−メトキシ−1’−ナフチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、ビス−2−(4−クロロフェニル)−1,1,1−トリクロロエタン、ビス−1−(4−クロロフェニル)−2,2,2−トリクロロエタノール、ビス−2−(4−メトキシフェニル)−1,1,1−トリクロロエタン等があげられる。
重合性液晶層を形成する場合には、感光性組成物溶液の塗布特性を向上させるため、適宜、液晶の配向を大きく損なわない範囲で界面活性剤を添加することが好ましい。界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル、ポリオキシエチレン誘導体、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレン・ブロック共重合体、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン等の非イオン性界面活性剤、脂肪酸塩、アルキル硫酸エステル塩、アルキルベンゼンスルフォン酸塩、アルキルナフタレンスルフォン酸塩、アルキルスルホコハク酸塩、アルキルジフェニルエーテルジスルフォン酸塩、アルキルリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキル硫酸エステル塩、ナフタレンスルフォン酸ホルマリン縮合物、特殊ポリカルボン酸型高分子界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル等の陰イオン性界面活性剤を用いることができる。
このような界面活性剤の添加量としては、一般的に0.01〜1重量%、好ましくは0.05〜0.5重量%の範囲で重合性液晶材料に添加することができる。
重合性液晶及び上記の各構成要素は各種有機溶剤に溶解させて溶液とし、所定の支持材上に塗布することができる。上記感光性組成物の溶液に用いられる溶剤としては、上述した重合性液晶材料等を溶解することが可能な溶剤であり、かつ配向性材料を設けた基材上の配向性能を阻害しない溶剤であれば特に限定されるものではない。
本発明の光学素子は、支持材と、その支持材上に重合性液晶材料が所定の液晶規則性を有して硬化されてなる位相差制御機能層とを有する光学素子であって、位相差制御機能層が、上記の感光性組成物を用いて形成されたものである。さらに、位相差制御機能層を構成する重合性液晶材料が、末端基同士及びメソゲン骨格間で架橋していることを特徴とするものである。
本発明の支持材としては、透明基板上に配向膜が形成された基板、もしくはカラーフィルター層上に配向膜が形成されたカラーフィルター基板、又はカラーフィルター層上に保護膜を設け、保護膜上に配向膜が形成されたカラーフィルター基板が用いられる。
上記の支持材上に設けられる配向膜としては、従来公知の配向膜材料であるポリイミド等が用いられ、基板上に積層した後、ラビング処理や光配向処理することにより得られる。あるいは、基板上に酸化ケイ素を斜め蒸着して配向膜としてもよい。本発明で用いられる配向膜材料としては、市販の配向膜材料を用いることができる。具体的には日産化学(株)製の配向膜材料(サンエバー)、日立化成デュポンマイクロシステムズ(株)製の配向膜材料(QL,LXシリーズ)、JSR(株)製の配向膜材料(ALシリーズ)、チッソ(株)製の配向剤(リクソンアライナー)などを用いることができる。
本発明の光学素子を構成する位相差制御機能層は、上記の感光性組成物を用いて形成されたものであり、一定方向に配向したままで重合した重合性液晶材料は、架橋剤によりそれぞれのメソゲン骨格が架橋して3次元構造となり、耐熱性及びITO成膜時の特性が向上したものである。
本発明において、位相差制御機能層の膜厚は特に制限されるものではないが、生産性等を考慮すると、通常、0.5〜10μm程度が好ましい。
本発明の光学素子の複屈折の測定については、リタデーションと膜厚の測定より行なうことができ、リタデーションの測定としては、KOBRA−21シリーズ(王子計測機器)等の市販の装置を用いることが可能であり、測定波長は可視光域(380〜780nm)であることが好ましく、比視感度の最も大きい550nm付近で測定することが好ましい。
また膜厚測定については、DEKTAK(Sloan)等の触針式段差計等の市販の装置を用いることが可能である。
さらに塗膜の表面硬度測定についてはフイッシャースコープ等の超微小硬度計等の市販の装置を用いることが可能である。
図1は本発明の光学素子の製造方法の一例を示す工程断面図であり、配向膜を設けた透明基板上に位相差制御機能層を形成する光学素子の製造方法を示すものである。以下、図1を用いて本発明の光学素子の製造方法について説明する。
JSR(株)製の配向膜AL1254を、100×100mmのガラス基板上にスピンコーターを用いて膜厚0.065μmとなるように塗布し、230℃のオーブンにて1時間焼成した。そしてラビング装置を用いて基板に配向処理を施した。
本実施例は、架橋剤に1,4−ベンゼンジメタノール(関東化学製;1.0重量部)及びニカラック MX−280(三和ケミカル社製;1.5重量部)を用いた以外は実施例1と同様に液晶層を成膜したところ、塗膜の表面硬度は290N/mm2であった。また、ITO成膜後に得られたITO膜にクラックは発生せず、良好な面質だった。
実施例1の架橋剤を用いない以外は実施例1と同様に液晶層を成膜したところ、塗膜の表面硬度は200N/mm2 であり、ITO成膜後にはITO膜にクラックが発生し、塗膜が白濁した。
2 配向膜
3 支持材
4 重合性液晶
5 架橋剤
6 紫外線
7 重合部
8 架橋部
9 位相差制御機能層
10 光学素子
Claims (11)
- 少なくとも重合性液晶材料と光重合開始剤と架橋剤と溶剤とを含む感光性組成物であって、前記架橋剤が、2つ以上のアルキロール基を有する化合物と、2つ以上のアルコキシ基を有する化合物との混合物からなることを特徴とする感光性組成物。
- 前記感光性組成物が、酸発生剤を含むことを特徴とする請求項1に記載の感光性組成物。
- 支持材と、該支持材上に重合性液晶材料が所定の液晶規則性を有して硬化されてなる位相差制御機能層とを有する光学素子であって、前記位相差制御機能層が、請求項1または請求項2に記載の感光性組成物を用いて形成されたものであることを特徴とする光学素子。
- 前記位相差制御機能層を構成する前記重合性液晶材料が、末端基同士及び前記架橋剤を介してメソゲン骨格間で架橋していることを特徴とする請求項3に記載の光学素子。
- 前記支持材が、配向膜を有する透明基板であることを特徴とする請求項3または請求項4に記載の光学素子。
- 前記支持材が、配向膜を有するカラーフィルター基板であることを特徴とする請求項3または請求項4に記載の光学素子。
- 前記カラーフィルター基板のカラーフィルター上に保護膜が設けられていることを特徴とする請求項6に記載の光学素子。
- 支持材と、該支持材上に重合性液晶材料が所定の液晶規則性を有して硬化されてなる位相差制御機能層とを有する光学素子の製造方法であって、請求項1または請求項2に記載の感光性組成物を前記支持材上に塗布し、前記重合性液晶材料を液晶状態で配向させたまま紫外線照射し、次に加熱処理を行うことにより架橋させて位相差制御機能層を形成することを特徴とする光学素子の製造方法。
- 前記支持材が、配向膜を有する透明基板であることを特徴とする請求項8に記載の光学素子の製造方法。
- 前記支持材が、配向膜を有するカラーフィルター基板であることを特徴とする請求項8に記載の光学素子の製造方法。
- 前記カラーフィルター基板のカラーフィルター上に保護膜が設けられていることを特徴とする請求項10に記載の光学素子の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005097797A JP4580802B2 (ja) | 2005-03-30 | 2005-03-30 | 感光性組成物、及びそれを用いた光学素子とその製造方法 |
US11/391,437 US7758969B2 (en) | 2005-03-30 | 2006-03-29 | Photosensitive composition, optical element using the same, and method for manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005097797A JP4580802B2 (ja) | 2005-03-30 | 2005-03-30 | 感光性組成物、及びそれを用いた光学素子とその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006276644A true JP2006276644A (ja) | 2006-10-12 |
JP4580802B2 JP4580802B2 (ja) | 2010-11-17 |
Family
ID=37211451
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005097797A Expired - Fee Related JP4580802B2 (ja) | 2005-03-30 | 2005-03-30 | 感光性組成物、及びそれを用いた光学素子とその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4580802B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008096863A (ja) * | 2006-10-16 | 2008-04-24 | Dainippon Printing Co Ltd | 光学素子および液晶表示装置、ならびに光学素子の製造方法 |
WO2008102705A1 (ja) * | 2007-02-22 | 2008-08-28 | Sumitomo Chemical Company, Limited | 光学フィルム |
JP2009031405A (ja) * | 2007-07-25 | 2009-02-12 | Kyodo Printing Co Ltd | 液晶表示装置用素子基板及びその製造方法と液晶表示装置 |
JP2009237459A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-15 | Dainippon Printing Co Ltd | 光学素子の製造方法、光学素子、および、該光学素子を備えた半透過半反射型液晶表示装置 |
JP2010100816A (ja) * | 2008-09-24 | 2010-05-06 | Toppan Printing Co Ltd | 高分子電解質、膜電極接合体および燃料電池 |
Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0651514A (ja) * | 1992-07-28 | 1994-02-25 | Sumitomo Chem Co Ltd | ネガ型レジスト組成物及びそれを用いるカラーフィルターの製造方法 |
JPH0862833A (ja) * | 1994-08-22 | 1996-03-08 | Nippon Kayaku Co Ltd | ネガ型感放射線性樹脂組成物およびそのパターン形成方法 |
WO1996008472A1 (fr) * | 1994-09-13 | 1996-03-21 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Composition de resine sensible aux rayons de type negatif, et procede de formation d'un motif a l'aide d'une telle resine |
JPH0887115A (ja) * | 1994-07-18 | 1996-04-02 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | リソグラフィー用下地材及びそれを用いた多層レジスト材料 |
JP2000239436A (ja) * | 1999-02-22 | 2000-09-05 | Hyundai Electronics Ind Co Ltd | フォトレジスト架橋単量体、フォトレジスト架橋剤、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び半導体素子 |
JP2000336362A (ja) * | 1999-05-27 | 2000-12-05 | Nitto Denko Corp | 液晶ポリマー組成物、配向フィルム及びその製造方法 |
JP2002040228A (ja) * | 2000-07-28 | 2002-02-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | コレステリック液晶カラーフィルタ |
JP2002090539A (ja) * | 2000-09-19 | 2002-03-27 | Hayashi Telempu Co Ltd | 位相差フィルムおよびその製造方法 |
JP2002122733A (ja) * | 2000-10-16 | 2002-04-26 | Nippon Kayaku Co Ltd | 位相差フィルムおよびこれを用いた楕円偏光フィルム |
JP2003287621A (ja) * | 2002-03-28 | 2003-10-10 | Nippon Oil Corp | 液晶性物質の配向方法および該方法で得られるフィルムならびに液晶表示装置 |
JP2003295432A (ja) * | 2002-03-29 | 2003-10-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 染料含有ネガ型硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法 |
JP2003313508A (ja) * | 2002-04-19 | 2003-11-06 | Toyobo Co Ltd | 水性被膜形成性組成物、及び被膜の形成方法 |
JP2004317611A (ja) * | 2003-04-14 | 2004-11-11 | Sony Corp | 液晶表示装置およびその製造方法 |
JP2005024919A (ja) * | 2003-07-02 | 2005-01-27 | Dainippon Printing Co Ltd | 位相差制御層を有するカラーフィルタおよびその製造方法並びにディスプレイ |
-
2005
- 2005-03-30 JP JP2005097797A patent/JP4580802B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0651514A (ja) * | 1992-07-28 | 1994-02-25 | Sumitomo Chem Co Ltd | ネガ型レジスト組成物及びそれを用いるカラーフィルターの製造方法 |
JPH0887115A (ja) * | 1994-07-18 | 1996-04-02 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | リソグラフィー用下地材及びそれを用いた多層レジスト材料 |
JPH0862833A (ja) * | 1994-08-22 | 1996-03-08 | Nippon Kayaku Co Ltd | ネガ型感放射線性樹脂組成物およびそのパターン形成方法 |
WO1996008472A1 (fr) * | 1994-09-13 | 1996-03-21 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Composition de resine sensible aux rayons de type negatif, et procede de formation d'un motif a l'aide d'une telle resine |
JP2000239436A (ja) * | 1999-02-22 | 2000-09-05 | Hyundai Electronics Ind Co Ltd | フォトレジスト架橋単量体、フォトレジスト架橋剤、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び半導体素子 |
JP2000336362A (ja) * | 1999-05-27 | 2000-12-05 | Nitto Denko Corp | 液晶ポリマー組成物、配向フィルム及びその製造方法 |
JP2002040228A (ja) * | 2000-07-28 | 2002-02-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | コレステリック液晶カラーフィルタ |
JP2002090539A (ja) * | 2000-09-19 | 2002-03-27 | Hayashi Telempu Co Ltd | 位相差フィルムおよびその製造方法 |
JP2002122733A (ja) * | 2000-10-16 | 2002-04-26 | Nippon Kayaku Co Ltd | 位相差フィルムおよびこれを用いた楕円偏光フィルム |
JP2003287621A (ja) * | 2002-03-28 | 2003-10-10 | Nippon Oil Corp | 液晶性物質の配向方法および該方法で得られるフィルムならびに液晶表示装置 |
JP2003295432A (ja) * | 2002-03-29 | 2003-10-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 染料含有ネガ型硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法 |
JP2003313508A (ja) * | 2002-04-19 | 2003-11-06 | Toyobo Co Ltd | 水性被膜形成性組成物、及び被膜の形成方法 |
JP2004317611A (ja) * | 2003-04-14 | 2004-11-11 | Sony Corp | 液晶表示装置およびその製造方法 |
JP2005024919A (ja) * | 2003-07-02 | 2005-01-27 | Dainippon Printing Co Ltd | 位相差制御層を有するカラーフィルタおよびその製造方法並びにディスプレイ |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008096863A (ja) * | 2006-10-16 | 2008-04-24 | Dainippon Printing Co Ltd | 光学素子および液晶表示装置、ならびに光学素子の製造方法 |
WO2008102705A1 (ja) * | 2007-02-22 | 2008-08-28 | Sumitomo Chemical Company, Limited | 光学フィルム |
JP2008203709A (ja) * | 2007-02-22 | 2008-09-04 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 光学フィルム |
KR101445895B1 (ko) * | 2007-02-22 | 2014-09-29 | 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 | 광학 필름 |
JP2009031405A (ja) * | 2007-07-25 | 2009-02-12 | Kyodo Printing Co Ltd | 液晶表示装置用素子基板及びその製造方法と液晶表示装置 |
JP2009237459A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-15 | Dainippon Printing Co Ltd | 光学素子の製造方法、光学素子、および、該光学素子を備えた半透過半反射型液晶表示装置 |
JP2010100816A (ja) * | 2008-09-24 | 2010-05-06 | Toppan Printing Co Ltd | 高分子電解質、膜電極接合体および燃料電池 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4580802B2 (ja) | 2010-11-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101230815B1 (ko) | 주기적으로 변화하는 국소 복굴절을 갖는 이축 필름 | |
US8574454B2 (en) | Patternable liquid crystal polymer comprising thio-ether units | |
JP4788123B2 (ja) | 光重合性液晶組成物、その重合体または重合体組成物及び光学異方性膜 | |
US8318043B2 (en) | Composition for liquid crystal film, liquid crystal film using composition, and method of manufacturing liquid crystal film | |
JP4815835B2 (ja) | 感光性組成物、及びそれを用いた光学素子とその製造方法 | |
JP2007156439A (ja) | 光配向膜用組成物、光学異方体及びその製造方法 | |
US20180037680A1 (en) | Layered body and optical film or liquid crystal alignment film using same | |
JP4833205B2 (ja) | 2軸フィルムii | |
JP4580802B2 (ja) | 感光性組成物、及びそれを用いた光学素子とその製造方法 | |
US7758969B2 (en) | Photosensitive composition, optical element using the same, and method for manufacturing the same | |
KR20040080322A (ko) | 원편광 제어 광학소자의 제조방법 | |
JP2006276697A (ja) | 位相差フィルムおよび液晶表示装置 | |
JP2009040984A (ja) | 液晶組成物、該液晶組成物を用いた位相差制御部材、及び、液晶表示装置 | |
JP4900597B2 (ja) | 液晶組成物、カラーフィルタ及び液晶表示装置 | |
JP4297436B2 (ja) | 液晶性ジ(メタ)アクリレート化合物及びこれを用いた位相差フィルム、光学フィルム、偏光板、液晶パネル並びに液晶表示装置 | |
JP2009244356A (ja) | 光学素子、および、該光学素子を備えた半透過半反射型液晶表示装置 | |
JP4612451B2 (ja) | 感光性組成物、及びそれを用いた光学素子とその製造方法 | |
JP5120540B2 (ja) | 光学素子、上記光学素子を用いた液晶表示装置用部材、上記液晶表示装置用部材を用いた液晶表示装置、上記光学素子の製造方法及び複屈折率機能層の評価方法 | |
JP2009227870A (ja) | 感光性組成物、該感光性組成物を用いた光学素子及び光学素子の製造方法 | |
JP2009244452A (ja) | 光学素子の製造方法、光学素子、および、該光学素子を備えた半透過半反射型液晶表示装置 | |
JP2009227871A (ja) | 感光性組成物、該感光性組成物を用いた光学素子及び光学素子の製造方法 | |
JP2009280771A (ja) | 重合性液晶組成物の保管方法 | |
JP2006058546A (ja) | 位相差フイルム、光学フィルム、偏光板、液晶パネル及び液晶表示装置 | |
JP2010085794A (ja) | 光学素子、光学素子の製造方法及び液晶表示装置 | |
JP2009237459A (ja) | 光学素子の製造方法、光学素子、および、該光学素子を備えた半透過半反射型液晶表示装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070912 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100312 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100525 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100722 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100819 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100830 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130903 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |