JP2006252756A - 磁気再生記録ヘッドおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】磁気シールドのエッジにおける漂遊磁界を減少させることが可能な磁気再生記録ヘッドを提供する。
【解決手段】記録磁気シールド７５が、ＡＢＳと同一面内の下面７２と、ＡＢＳから後退した一対の下面７３と、それらの下面７２，７３に連結された一対の傾斜面７４（シールド角度α）とを有する逆凸型の平面形状を有している。下面７３および傾斜面７４を有しない矩形型の平面形状を有する場合と比較して、ＡＢＳにおけるコーナー部の角度が緩やか（鈍角）になるため、そのコーナー部において磁束が集中しにくくなると共に、ＡＢＳ面近傍の磁束密度が低下する。
【選択図】図２

Description

本発明は、垂直磁気記録方式の磁気再生記録ヘッドおよびその製造方法に係り、特に、再生用および記録用の３つの磁気シールドを備えた磁気再生記録ヘッドおよびその製造方法に関する。

面記録密度を高密度化する場合には、熱安定性の面において垂直磁気記録方式が長手磁気記録方式よりも優れている。この垂直磁気記録方式を採用することにより、超常磁性限界への到達が先送りとなっている。単磁極（ＳＰ；single pole ）ヘッドと軟磁性下地層（ＳＵＬ；soft-magnetic underlayer）を有する垂直磁気記録用の記録媒体とを組み合わせて使用することにより、高異方性定数を有する厚い記録媒体に記録する場合に、リングヘッドよりも記録磁界を大きくすることができる。

図１０は、従来の磁気再生記録ヘッドをエアベアリング面（ＡＢＳ；air bearing surface ）側から見た（記録媒体の表面から見上げた）構成を模式的に表している。また、図１１は、図１０に示した記録磁気シールド１１５の平面形状を示している。

従来の磁気再生記録ヘッドは、図１０に示したように、下部再生磁気シールド１１３と上部再生磁気シールド１１４との間に配置された磁気再生ヘッド１１２と、上部再生磁気シールド１１４と記録磁気シールド１１５との間に配置された垂直磁気記録ヘッド１１１とを備えている。

下部再生磁気シールド１１３、上部再生磁気シールド１１４および記録磁気シールド１１５は、記録媒体に所定量の磁束が供給されるように、外部磁界の磁束伝導体として機能するものである。これらの一連の磁気シールド１１３〜１１５において磁束密度が高くなりすぎると、無用な記録または消去が生じるおそれがある。特に、一連の磁気シールド１１３〜１１５は軟磁性材料により構成されているため、外部磁界が僅かであっても記録媒体に大きな磁界が及び、その記録媒体に記録されている情報が意図せずに消去されるおそれがある。

記録磁気シールド１１５は、図１１に示したように、矩形型の平面形状を有している。この記録磁気シールド１１５では、軟磁性下地層の有限の厚さおよびモーメントに起因して、磁束分布が不均一になる。具体的には、磁束密度が中央部よりもシャープなコーナー部およびエッジ部において著しく高くなる。一般に、磁束が集中しやすいコーナー部の直下において、記録媒体に記録されている情報が最初に消去されやすい。

記録媒体に記録されている情報が漂遊磁界により消去されることを抑制するために、外部磁界に対する磁気再生記録ヘッドの感度を低下させる方法としては、記録磁気シールドのコーナー部に所定の角度（シールド角度）のテーパを設けることにより、その記録磁気シールドをＡＢＳから部分的に後退させる方法が考えられる。

先行技術に関する調査を行ったところ、いくつかの興味深い技術が見つかった。具体的には、Tateyama等は、イオンミリングによりＡＢＳから０．０５μｍ以上後退させた磁極の後方部分のコーナー部を開示している（例えば、特許文献１参照。）。この場合の後退角度は、４５°である。また、Sasakiは、鋭角なコーナー部を有する光シールドマスクを開示しているが（例えば、特許文献２参照。）、この光シールドマスクは、記録磁気シールドと同種のものではない。
米国特許第６１９８５９７号明細書 米国特許第６７４２２４１号明細書

現在のウェハプロセスでは、ウェハレベルにおいてシールド角度を十分に小さく設定することが極めて困難である。漂遊磁界に起因する情報消去を抑制するためには、シールド角度を制御することにより、磁気シールドのエッジにおける漂遊磁界を減少させることが可能な新しい方法および構造が必要である。

本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その第１の目的は、磁気シールドのエッジにおける漂遊磁界を減少させることが可能な磁気再生記録ヘッドを提供することにある。

また、本発明の第２の目的は、上記した磁気再生記録ヘッドの製造方法を提供することにある。

さらに、本発明の第３の目的は、既存のプロセスをほとんど変更しない磁気再生記録ヘッドの製造方法を提供することにある。

本発明の第１の磁気再生記録ヘッドの製造方法は、第１および第２の磁気シールドの間に配置された磁気再生ヘッドと、第２の磁気シールドと第３の磁気シールドとの間に配置された垂直磁気記録ヘッドとを含むアセンブリを準備する第１の工程と、磁気再生ヘッド、垂直磁気記録ヘッドおよび第１ないし第３の磁気シールドがエアベアリング面の一部をなす同一面内の下面を有するようにアセンブリを研磨する第２の工程と、エアベアリング面上に、第１ないし第３の磁気シールドの水平方向における一対の垂直エッジから第１の距離に渡って内側に延在する一対の非被覆領域を除いて、磁気再生ヘッド、垂直磁気記録ヘッドおよび第１ないし第３の磁気シールドを被覆するように一対の垂直エッジを有するマスクを形成する第３の工程と、マスクおよびイオンビームミリングを用いて一対の非被覆領域において第１ないし第３の磁気シールドを部分的に除去することにより、第３の磁気シールドが、エアベアリング面と同一面内の第１の下面と、エアベアリング面から第２の距離に渡って平行に後退した一対の第２の下面と、第１および第２の下面に連結された一対の傾斜面とを有するようにする第４の工程と、マスクを除去する第５の工程とを含むものである。

本発明の第２の磁気再生記録ヘッドの製造方法は、第１および第２の磁気シールドの間に配置された磁気再生ヘッドと、第２の磁気シールドと第３の磁気シールドとの間に配置された垂直磁気記録ヘッドとを含むアセンブリを準備する第１の工程と、磁気再生ヘッド、垂直磁気記録ヘッドおよび第１ないし第３の磁気シールドがエアベアリング面の一部をなす同一面内の下面を有するようにアセンブリを研磨する第２の工程と、エアベアリング面上に、第１ないし第３の磁気シールドの水平方向における一対の垂直エッジから第１の距離に渡って内側に延在する一対の非被覆領域および第３の磁気シールドの垂直方向における１つの水平エッジから第２の距離に渡って内側に延在する１つの非被覆流域を除いて、磁気再生ヘッド、垂直磁気記録ヘッドおよび第１ないし第３の磁気シールドを被覆するように一対の垂直エッジおよび１つの水平エッジを有するマスクを形成する第３の工程と、マスクおよびイオンビームミリングを用いて一対の非被覆領域および１つの非被覆領域において第１ないし第３の磁気シールドを部分的に除去することにより、第３の磁気シールドが、エアベアリング面と同一面内の第１の下面と、三方から第１の下面を囲むと共にエアベアリング面から第３の距離に渡って平行に後退した第２の下面と、水平方向において第１および第２の下面に連結された一対の傾斜面および垂直方向において第１および第２の下面に連結された１つの傾斜面とを有するようにする第４の工程と、マスクを除去する第５の工程とを含むものである。

これらの第１および第２の磁気再生記録ヘッドの製造方法では、エアベアリング面と同一面内の第１の面と、エアベアリング面から後退した第２の下面と、第１および第２の下面に連結された傾斜面とを有するように第３の磁気シールドを形成するために、マスクおよびイオンミリングが用いられ、既存の磁気再生記録ヘッドの製造工程をほとんど変更しない。

本発明の第１の磁気再生記録ヘッドの製造方法では、第４の工程において、一対の傾斜面を平坦にするエッチングレートにおいてビーム強度を変化させながら一定のスキャン速度で一対の非被覆領域をイオンビームスキャンしてもよいし、一対の傾斜面を平坦にするエッチングレートにおいてスキャン速度を変化させながら一定のビーム強度で一対の非被覆領域をイオンビームスキャンしてもよいし、あるいは一対の傾斜面を平坦にするようにスキャン速度およびビーム強度を変化させながら一対の非被覆領域をイオンビームスキャンしてもよい。この場合には、一対の傾斜面を平坦にすると共にエアベアリング面に対して１°以上２０°以下の範囲内の角度をなすようにしてもよい。

また、本発明の第１の磁気再生記録ヘッドの製造方法では、第４の工程において、一対の傾斜面を湾曲させるエッチングレートにおいてビーム強度を変化させながら一定のスキャン速度で一対の非被覆領域をイオンビームスキャンしてもよいし、一対の傾斜面を湾曲させるエッチングレートにおいてスキャン速度を変化させながら一定のビーム強度で一対の非被覆領域をイオンビームスキャンしてもよいし、あるいは一対の傾斜面を湾曲させるようにスキャン速度およびビーム強度を変化させながら一対の非被覆領域をイオンビームスキャンしてもよい。

また、本発明の第１の磁気再生記録ヘッドの製造方法では、第１の距離を１μｍ以上３００μｍ以下の範囲内にし、第２の距離を５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の範囲内にしてもよい。

本発明の第２の磁気再生記録ヘッドの製造方法では、一対の傾斜面または１つの傾斜面を平坦にすると共にエアベアリング面に対して１°以上２０°以下の範囲内の角度をなすようにしてもよいし、あるいは一対の傾斜面または１つの傾斜面を湾曲させてもよい。この場合には、第１の距離を１μｍ以上３００μｍ以下の範囲内にしてもよい。

本発明の第１の磁気再生記録ヘッドは、第１および第２の磁気シールドの間に配置された磁気再生ヘッドと、第２の磁気シールドと第３の磁気シールドとの間に配置された垂直磁気記録ヘッドとを含むアセンブリを備え、アセンブリは、磁気再生ヘッド、垂直磁気記録ヘッドおよび第１ないし第３の磁気シールドがエアベアリング面の一部をなす同一面内の下面を有するように構成され、第３の磁気シールドは、エアベアリング面と同一面内の第１の下面と、水平方向における一対の垂直エッジから第１の距離に渡って内側に延在すると共にエアベアリング面から第２の距離に渡って平行に後退した一対の第２の下面と、第１および第２の下面に連結された一対の傾斜面とを有するものである。

本発明の第２の磁気再生記録ヘッドは、第１および第２の磁気シールドの間に配置された磁気再生ヘッドと、第２の磁気シールドと第３の磁気シールドとの間に配置された垂直磁気記録ヘッドとを含むアセンブリを備え、アセンブリは、磁気再生ヘッド、垂直磁気記録ヘッドおよび第１ないし第３の磁気シールドがエアベアリング面の一部をなす同一面内の下面を有するように構成され、第３の磁気シールドは、エアベアリング面と同一面内の第１の下面と、水平方向における一対の垂直エッジから第１の距離に渡って内側に延在し、かつ、垂直方向における１つの水平エッジから第２の距離に渡って内側に延在することにより三方から第１の下面を囲むと共に、エアベアリング面から第３の距離に渡って平行に後退した第２の下面と、水平方向において第１および第２の下面に連結された一対の傾斜面および垂直方向において第１および第２の下面に連結された１つの傾斜面とを有するものである。

これらの第１および第２の磁気再生記録ヘッドでは、第３の磁気シールドが、エアベアリング面と同一面内の第１の面と、エアベアリング面から後退した第２の下面と、第１および第２の下面に連結された傾斜面とを有している。この場合には、第３の磁気シールドが第２の下面および傾斜面を有しない場合と比較して、エアベアリング面におけるコーナー部の角度が緩やか（鈍角）になるため、そのコーナー部において磁束が集中しにくくなると共に、エアベアリング面近傍の磁束密度が低下する。

本発明の第１の磁気再生記録ヘッドでは、一対の傾斜面が平坦であると共にエアベアリング面に対して１°以上２０°以下の範囲内の角度をなしてもよいし、あるいは一対の傾斜面が湾曲してもよい。この場合には、第１の距離が１μｍ以上３００μｍ以下の範囲内であり、第２の距離が５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の範囲内であってもよい。特に、第３の磁気シールドの傾斜エッジにおける消去磁界が直角エッジにおける消去磁界に対して少なくとも３０％減少しているのが好ましい。

本発明の第２の磁気再生記録ヘッドでは、一対の傾斜面または１つの傾斜面が平坦であると共にエアベリング面に対して１°以上２０°以下の範囲内の角度をなしてもよいし、あるいは一対の傾斜面または１つの傾斜面が湾曲してもよい。この場合には、第１の距離が１μｍ以上３００μｍ以下の範囲内であってもよい。特に、第３の磁気シールドの傾斜エッジにおける消去磁界が直角エッジにおける消去磁界に対して少なくとも３０％減少しているのが好ましい。

本発明の磁気再生記録ヘッドの製造方法によれば、マスクおよびイオンミリングを用いて、エアベアリング面と同一面内の第１の面と、エアベアリング面から後退した第２の下面と、第１および第２の下面に連結された傾斜面とを有するように第３の磁気シールドを形成しているので、既存のプロセスをほとんど変更せずに、第３の磁気シールドを備えた磁気再生記録ヘッドを製造することができる。

本発明の磁気再生記録ヘッドによれば、第３の磁気シールドが、エアベアリング面と同一面内の第１の面と、エアベアリング面から後退した第２の下面と、第１および第２の下面に連結された傾斜面とを有しているので、第３の磁気シールドのエアベアリング面におけるコーナー部において磁束が集中しにくくなると共に、エアベアリング面近傍の磁束密度が低下する。したがって、磁気シールドのエッジにおける漂遊磁界を減少させることができる。これにより、外部磁界に対する磁気再生記録ヘッドの感度を減少させることができる。

以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。

［第１の実施の形態］
図１は、第１の実施の形態に係る磁気再生記録ヘッドをＡＢＳから見た構成を模式的に表している。また、図２は、図１に示した記録磁気シールド７５の平面形状を示している。

以下では、図１および図２に示した３つの軸（Ｘ軸，Ｙ軸，Ｚ軸）の方向のうち、Ｘ軸方向およびＹ軸方向をそれぞれ「水平方向」および「垂直方向」と呼ぶと共に、それらの水平方向および垂直方向に延びるエッジをそれぞれ「水平エッジ」および「垂直エッジ」と呼ぶ。なお、磁気再生記録ヘッドにより再生処理または記録処理が施される記録媒体のトラック方向を基準とすると、水平方向はいわゆるクロストラック方向（記録トラック幅方向）であり、垂直方向はいわゆるダウントラック方向である。これらのことは、後述する図３以降においても同様である。

この磁気再生記録ヘッドは、図１に示したように、下部再生磁気シールド１３と上部再生磁気シールド１４との間に配置された磁気再生ヘッド１２と、上部再生磁気シールド１４と記録磁気シールド７５との間に配置された垂直磁気記録ヘッド１１と含むアセンブリを備えている。この磁気再生ヘッド１２は、いわゆるＧＭＲ（giant magneto-resistive ）再生ヘッドであり、垂直磁気記録ヘッド１１は、いわゆる垂直磁気記録磁極である。このアセンブリは、磁気再生ヘッド１２、垂直磁気記録ヘッド１１および３つの磁気シールド（下部再生磁気シールド，上部再生磁気シールド，記録磁気シールド）１３，１４，７５がＡＢＳの一部をなす同一面内の下面を有するように構成されている。このＡＢＳは、図１においては紙面に相当する面である。

記録磁気シールド７５は、図２に示したように、水平方向における一端側部分および他端側部分がＡＢＳから後退する一方で中央部がＡＢＳまで延在する逆凸型の平面形状を有している。すなわち、記録磁気シールド７５は、ＡＢＳと同一面内の下面７２と、水平方向における一対の垂直エッジ７５ＶＥから距離Ｄ１に渡って内側に延在すると共にＡＢＳから距離Ｄ２に渡って平行に後退した一対の下面７３と、それらの下面７２，７３に連結された一対の傾斜面７４とを有している。この一対の傾斜面７４は、例えば、平坦であると共に、ＡＢＳに対して約１°〜２０°、好ましくは約１°〜１０°の角度（シールド角度α）をなしている。距離Ｄ１は、約１μｍ〜３００μｍ、好ましくは約１μｍ〜３０μｍであり、距離Ｄ２は、約５０ｎｍ〜５００ｎｍ、好ましくは約１００ｎｍ〜２００ｎｍである。

なお、下部再生磁気シールド１３および上部再生磁気シールド１４は、例えば、記録磁気シールド７５と同様の平面形状を有している。

この磁気再生記録ヘッドは、上記した一連の構成要素の他に、図示しない他の構成要素も備えている。この「他の構成要素」としては、例えば、磁束を発生させる薄膜コイルや、各構成要素間を電気的に分離する絶縁層などが挙げられる。

次に、図１〜図３を参照して、図１および図２に示した磁気再生記録ヘッドの製造方法について説明する。図３は、磁気再生記録ヘッドの製造方法を説明するためのものであり、図１に対応している。

磁気再生記録ヘッドを製造する際には、図３に示したように、まず、下部再生磁気シールド１３と上部再生磁気シールド１４との間に配置された磁気再生ヘッド１２と、上部再生磁気シールド１４と記録磁気シールド７５との間に配置された垂直磁気記録ヘッド１１と含むアセンブリを準備する。この場合には、後工程の研磨処理およびエッチング処理を経ることにより下部再生磁気シールド１３、上部再生磁気シールド１４および記録磁気シールド７５を最終的に形成するための前準備段階として、それらがほぼ矩形型の平面形状を有すると共に、それらを一括研磨してＡＢＳを形成することが可能な程度の十分な大きさ（平面サイズ）を有するようにする。

続いて、アセンブリを研磨してＡＢＳを形成することにより、磁気再生ヘッド１２、垂直磁気記録ヘッド１１および３つの磁気シールド１３，１４，７５がＡＢＳの一部をなす同一面内の下面を有するようにする。

続いて、ＡＢＳ上に、３つの磁気シールド１３，１４，７５の水平方向における一対の垂直エッジ１３ＶＥ，１４ＶＥ，７５ＶＥから距離Ｄ１に渡って内側に延在する一対の非被覆領域５３，５４，５５を除いて、磁気再生ヘッド１２、垂直磁気記録ヘッド１１および３つの磁気シールド１３，１４，７５を被覆するように、一対の垂直エッジ５１ＶＥを有するマスク５１（幅Ｗ，長さＬ）を形成する。この「非被覆領域５３〜５５」とは、３つの磁気シールド１３，１４，７５のうち、マスク５１により被覆されておらずに露出している領域である。この場合には、例えば、マスク５１の幅Ｗが３つの磁気シールド１３，１４，７５の幅よりも小さくなると共に、長さＬが下部再生磁気シールド１３の下端から記録磁気シールド７５の上端に至る長さよりも大きくなるようにする。このマスク５１は、フォトレジストマスクであってもよいし、あるいはハードマスク（例えば無機材料または金属など）であってもよい。

続いて、マスク５１およびイオンミリングを用いて、一対の非被覆領域５３〜５５において３つの磁気シールド１３，１４，７５を部分的に除去することにより、各磁気シールド１３，１４，７５をＡＢＳから距離Ｄ２に渡って平行に後退させる。これにより、図１および図２に示したように、記録磁気シールド７５が逆凸型の平面形状を有し、すなわちＡＢＳと同一面内の下面７２と、ＡＢＳから距離Ｄ２に渡って平行に後退した一対の下面７３と、それらの下面７２，７３に連結された一対の傾斜面７４とを有することとなる。もちろん、下部再生磁気シールド１３および上部再生磁気シールド１４は、記録磁気シールド７５と同様の平面形状を有することとなる。この場合には、一対の傾斜面７４を平坦にすると共に、ＡＢＳに対して約１°〜２０°のシールド角度αをなすようにする。一対の非被覆領域５３〜５５をイオンミリングでエッチングする場合には、一対の傾斜面７４を平坦にするエッチングレートにおいてビーム強度を変化させながら一定のスキャン速度でイオンビームスキャンしてもよいし、一対の傾斜面７４を平坦にするエッチングレートにおいてスキャン速度を変化（例えば減少）させながら一定のビーム強度でイオンビームスキャンしてもよいし、あるいは一対の傾斜面７４を平坦にするようにスキャン速度およびビーム強度を変化させながらイオンビームスキャンしてもよい。このイオンミリングによるエッチング工程は、既存のスライダ形成工程のうちの一工程であり、その既存の工程内において、３つの磁気シールド１３，１４，７５の部分的除去が行われる。

最後に、マスク５１を除去することにより、磁気再生記録ヘッドが完成する。

本実施の形態に係る磁気再生記録ヘッドおよびその製造方法では、３つの磁気シールド１３，１４，７５の幅よりも小さい幅Ｗおよび下部再生磁気シールド１３の下端から記録磁気シールド７５の上端に至る長さよりも大きい長さＬを有するマスク５１を用いて、イオンミリングにより一対の非被覆領域５３〜５５において３つの磁気シールド１３，１４，７５を部分的に除去しているので、ＡＢＳと同一面内の下面７２、ＡＢＳから後退した一対の下面７３およびそれらの下面７２，７３に連結された一対の傾斜面７４を有する逆凸型の記録磁気シールド７５が形成される。この場合には、３つの磁気シールド１３，１４，７５の幅よりも大きい幅Ｗを有するマスクを用いたイオンミリングにより矩形型の記録磁気シールド１１５（図１１参照）が形成される場合と比較して、記録磁気シールド７５のＡＢＳにおけるコーナー部の角度が緩やか（鈍角）になるため、そのコーナー部において磁束が集中しにくくなる。しかも、水平方向における一端側部分および他端側部分が後退しているため、記録磁気シールド７５のＡＢＳ近傍の磁束密度が低下する。したがって、記録磁気シールド７５のエッジにおける漂遊磁界を減少させることができる。具体的には、記録磁気シールド７５の傾斜エッジ（記録磁気シールド７５のＡＢＳにおけるコーナー部のエッジ）における消去磁界を直角エッジ（記録磁気シールド１１５のＡＢＳにおけるコーナー部のエッジ）における消去磁界に対して少なくとも３０％減少させることができる。これにより、外部磁界に対する磁気再生記録ヘッドの感度を低下させることができる。もちろん、この漂遊磁界の減少に関する効果は、記録磁気シールド７５だけでなく、それと同様の構成を有する下部再生磁気シールド１３および上部再生磁気シールド１４においても得られる。

特に、本実施の形態では、イオンビームの強度、スキャン速度およびエッチングレートに基づいて記録磁気シールド７５のシールド角度αが制御されるため、マスク５１およびイオンミリングを用いて記録磁気シールド７５を備えた磁気再生記録ヘッドを製造することができる。この場合には、特に、マスク５１の幅Ｗを変更するだけで、既存のスライダ形成工程内において記録磁気シールド７５が形成されるため、既存のプロセスをほとんど変更せずに、記録磁気シールド７５を備えた磁気再生記録ヘッドを製造することができる。

なお、本実施の形態では、図２に示したように、一対の傾斜面７４が平坦になるようにしたが、必ずしもこれに限られるものではなく、例えば、図２に対応する図４に示したように、一対の傾斜面７４が湾曲するようにしてもよい。この場合には、図３に示したイオンミリング工程において、一対の傾斜面７４を湾曲させるエッチングレートにおいてビーム強度を変化させながら一定のスキャン速度で一対の非被覆領域５３〜５５をイオンビームスキャンしてもよいし、一対の傾斜面７４を湾曲させるエッチングレートにおいてスキャン速度を減少させながら一定のビーム強度で一対の非被覆領域５３〜５５をイオンビームスキャンしてもよいし、あるいは一対の傾斜面７４を湾曲させるようにスキャン速度およびビーム強度を変化させながら一対の非被覆領域５３〜５５をイオンビームスキャンしてもよい。この場合においても、記録磁気シールド７５のエッジにおける漂遊磁界を減少させることができる。

［第２の実施の形態］
次に、本発明の第２の実施の形態について説明する。

図５は、第２の実施の形態に係る磁気再生記録ヘッドのうちの記録磁気シールド８５の平面形状を表している。また、図６は、図５に示した記録磁気シールド８５をＡＢＳから見た構成を示している。

この磁気再生記録ヘッドは、記録磁気シールド７５に代えて記録磁気シールド８５を備えると共に、下部再生磁気シールド１３の構成が異なっている点を除き、上記第１の実施の形態において説明した磁気再生記録ヘッド（図１および図２参照）と同様の構成を有している。

記録磁気シールド８５は、図５および図６に示したように、水平方向における一端側部分および他端側部分と垂直方向における一端側部分とがＡＢＳから後退する一方で残りの中央部がＡＢＳまで延在する逆凸型の平面形状を有している。すなわち、記録磁気シールド８５は、図６に示したように、ＡＢＳと同一面内の下面８１と、水平方向における一対の垂直エッジ８５ＶＥから距離Ｄ１に渡って内側に延在し、かつ、垂直方向における１つの水平エッジ８５ＨＥから距離Ｄ２に渡って内側に延在することにより三方から下面８１を囲むと共に、ＡＢＳから距離Ｄ３に渡って平行に後退した下面８２と、水平方向において下面８１，８２に連結された一対の傾斜面８３および垂直方向において下面８１，８２に連結された１つの傾斜面８４とを有している。この一対の傾斜面８３および１つの傾斜面８４は、例えば、平坦であると共に、ＡＢＳに対して約１°〜２０°、好ましくは約１°〜１０°の角度（シールド角度α）をなしている。距離Ｄ１は、約１μｍ〜３００μｍ、好ましくは約１μｍ〜３０μｍであり、距離Ｄ３は、約５０ｎｍ〜５００ｎｍ、好ましくは約１００ｎｍ〜２００ｎｍである。

なお、下部再生磁気シールド１３は、例えば、記録磁気シールド８５を上下反転させた構成と同様の構成を有している。

次に、図５〜図７を参照して、図５および図６に示した磁気再生記録ヘッドの製造方法について説明する。図７は、磁気再生記録ヘッドの製造方法を説明するためのものであり、図１に対応している。

磁気再生記録ヘッドを製造する際には、図７に示したように、まず、記録磁気シールド７５に代えて記録磁気シールド８５を備える点を除き、図３に示した場合と同様のアセンブリを準備する。

続いて、アセンブリを研磨してＡＢＳを形成することにより、磁気再生ヘッド１２、垂直磁気記録ヘッド１１および３つの磁気シールド１３，１４，８５がＡＢＳの一部をなす同一面内の下面を有するようにする。

続いて、ＡＢＳ上に、３つの磁気シールド１３，１４，８５の水平方向における一対の垂直エッジ１３ＶＥ，１４ＶＥ，８５ＶＥから距離Ｄ１に渡って内側に延在する一対の非被覆領域５３〜５５と、記録磁気シールド８５の垂直方向における１つの水平エッジ８５ＨＥから距離Ｄ２に渡って内側に延在する１つの非被覆領域６６と、下部再生磁気シールド１３の垂直方向における１つの水平エッジ１３ＨＥから距離Ｄ２に渡って内側に延在する１つの非被覆領域６７とを除いて、磁気再生ヘッド１２、垂直磁気記録ヘッド１１および３つの磁気シールド１３，１４，８５を被覆するように、一対の垂直エッジ６１ＶＥおよび１つの水平エッジ６１ＨＥを有するマスク６１（幅Ｗ，長さＬ）を形成する。この場合には、例えば、マスク６１の幅Ｗが３つの磁気シールド１３，１４，８５の幅よりも小さくなると共に、長さＬが下部再生磁気シールド１３の下端から記録磁気シールド８５の上端に至る長さよりも小さくなるようにする。

続いて、マスク６１およびイオンミリングを用いて、一対の非被覆領域５３〜５５、１つの非被覆領域６６および１つの非被覆領域６７において３つの磁気シールド１３，１４，８５を部分的に除去することにより、各磁気シールド１３，１４，８５をＡＢＳから距離Ｄ３に渡って平行に後退させる。これにより、図５および図６に示したように、記録磁気シールド８５が逆凸型の平面形状を有し、すなわちＡＢＳと同一面内の下面８１と、三方から下面８１を囲むと共にＡＢＳから距離Ｄ３に渡って平行に後退した下面８２と、下面８１，８２に連結された一対の傾斜面８３および１つの傾斜面８４とを有することとなる。この場合には、一対の傾斜面８３および１つの傾斜面８４を平坦にすると共に、ＡＢＳに対して約１°〜２０°のシールド角度αをなすようにする。一対の非被覆領域５３〜５５、１つの非被覆領域６６および１つの非被覆領域６７をイオンミリングでエッチングする場合には、一対の傾斜面８３および１つの傾斜面８４を平坦にするエッチングレートにおいてビーム強度を変化させながら一定のスキャン速度でイオンビームスキャンしてもよいし、一対の傾斜面８３および１つの傾斜面８４を平坦にするエッチングレートにおいてスキャン速度を減少させながら一定のビーム強度でイオンビームスキャンしてもよいし、あるいは一対の傾斜面８３および１つの傾斜面８４を平坦にするようにスキャン速度およびビーム強度を変化させながらイオンビームスキャンしてもよい。

最後に、マスク６１を除去することにより、磁気再生記録ヘッドが完成する。

本実施の形態に係る磁気再生記録ヘッドおよびその製造方法では、３つの磁気シールド１３，１４，８５の幅よりも小さい幅Ｗおよび下部再生磁気シールド１３の下端から記録磁気シールド８５の上端に至る長さよりも小さい長さＬを有するマスク６１を用いて、イオンミリングにより一対の非被覆領域５３〜５５、１つの非被覆領域６６および１つの非被覆領域６７において３つの磁気シールド１３，１４，８５を部分的に除去しているので、ＡＢＳと同一面内の下面８１と、三方から下面８１を囲むと共にＡＢＳから後退した下面８２と、下面８１，８２に連結された一対の傾斜面８３および１つの傾斜面８４とを有する逆凸型の記録磁気シールド８５が形成される。この場合には、上記第１の実施の形態において説明した記録磁気シールド７５と比較して、記録磁気シールド８５が水平方向だけでなく垂直方向においてもＡＢＳから後退するため、ＡＢＳ近傍の磁束密度がより低下する。したがって、記録磁気シールド８５のエッジにおける漂遊磁界をより減少させることができる。具体的には、上記第１の実施の形態と同様に、記録磁気シールド８５の傾斜エッジにおける消去磁界を直角エッジにおける消去磁界に対して少なくとも３０％減少させることができる。これにより、外部磁界に対する磁気再生記録ヘッドの感度をより低下させることができる。

特に、本実施の形態では、マスク６１の長さＬを変更する点を除き、上記第１の実施の形態と同様の製造手順を経ることにより記録磁気シールド８５が形成されるため、マスク６１およびイオンミリングを用いて、既存のプロセスをほとんど変更せずに、記録磁気シールド８５を備えた磁気再生記録ヘッドを製造することができる。

なお、本実施の形態では、図５に示したように、一対の傾斜面８３および１つの傾斜面８４が平坦になるようにしたが、必ずしもこれに限られるものではなく、例えば、上記第１の実施の形態において図４を参照して説明したように、一対の傾斜面８３および１つの傾斜面８４が湾曲するようにしてもよい。この場合においても、記録磁気シールド８５の傾斜エッジにおける漂遊磁界を減少させることができる。

本実施の形態の磁気再生記録ヘッドおよびその製造方法に関する上記以外の構成、製造方法、作用および効果は、上記第１の実施の形態と同様である。

参考までに、エッジにおける漂遊磁界を減少させることが可能な記録磁気シールドとしては、上記第１および第２の実施の形態において説明した記録磁気シールド７５，８５の他、既に説明したように、図２および図５に対応する図８に示した記録磁気シールド９５も考えられる。この記録磁気シールド９５は、図１１に示した記録磁気シールド１１５のコーナー部に対応する位置にテーパ（シールド角度α）を有しており、そのテーパが設けられている箇所においてＡＢＳから部分的に後退している。

図９は、記録磁気シールド９５を備えた磁気再生記録ヘッドの記録性能を表しており、記録媒体上の最大磁界強度のシールド角度依存性に関するシミュレーション結果を示している。図９では、横軸および縦軸がそれぞれシールド角度（°）および記録媒体上の最大磁界強度（Ｔ（テスラ））を示している。このシミュレーションでは、記録磁気シールド９５の寸法をそれぞれ６０μｍ（幅）、２０μｍ（長さ）および４μｍ（厚さ）としたと共に、外部磁界を２００×１０³ ／（４π）Ａ／ｍ（＝２００Ｏｅ）に設定した。図９に示した結果から分かるように、記録媒体上の最大磁界強度は、シールド角度が小さくなるにしたがって単調に減少し、特に、シールド角度αが１０°未満になると急激に減少した。この結果を踏まえると、ＡＢＳから部分的に後退している部分の割合は、記録磁気シールド９５よりも記録磁気シールド８５，９５において大きいため、これらの記録磁気シールド７５，８５では、記録磁気シールド９５と比較して漂遊磁界がより減少するはずである。

以上、いくつかの実施の形態を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記各実施の形態において説明した態様に限定されず、種々の変形が可能である。具体的には、例えば、上記第２の実施の形態では、イオンミリングによるエッチング工程において１つの非被覆領域６６だけでなく１つの非被覆領域６７もエッチングするようにしたが、必ずしもこれに限られるものではなく、１つの非被覆領域６７をエッチングせずに１つの非被覆領域６６のみをエッチングするようにしてもよい。この場合においても、同様の効果を得ることができる。

本発明に係る磁気再生記録ヘッドおよびその製造方法は、垂直磁気記録方式の磁気再生記録ヘッドおよびその製造方法に適用することが可能である。

本発明の第１の実施の形態に係る磁気再生記録ヘッドのＡＢＳ側から見た構成を模式的に表す図である。 図１に示した記録磁気シールドの平面形状を表す図である。 本発明の第１の実施の形態に係る磁気再生記録ヘッドの製造方法を説明するための図である。 図２に示した記録磁気シールドの平面形状に関する変形例を表す図である。 本発明の第２の実施の形態に係る磁気再生記録ヘッドのうちの記録磁気シールドの平面形状を表す図である。 図５に示した記録磁気シールドのＡＢＳ側から見た構成を表す図である。 本発明の第２の実施の形態に係る磁気再生記録ヘッドの製造方法を説明するための図である。 参考例としての記録磁気シールドの平面形状を表す図である。 図８に示した記録磁気シールドに関する記録媒体上の最大磁界強度のシールド角度依存性を表す図である。 従来の磁気再生記録ヘッドのＡＢＳ側から見た構成を模式的に表す図である。 図１０に示した記録磁気シールドの平面構成を表す図である。

符号の説明

１１…垂直磁気記録ヘッド、１２…磁気再生ヘッド、１３…下部再生磁気シールド、１３ＶＥ，１４ＶＥ，５１ＶＥ，６１ＶＥ，７５ＶＥ，８５ＶＥ…垂直エッジ、１４…上部再生磁気シールド、５１，６１…マスク、５３〜５５，６６，６７…非被覆領域、６１ＨＥ，８５ＨＥ…水平エッジ、７２，７３，８１，８２…下面、７４，８３，８４…傾斜面、７５，８５…記録磁気シールド、Ｄ１〜Ｄ３…距離、Ｌ…長さ、Ｗ…幅、α…シールド角度。

Claims (29)

1. 第１および第２の磁気シールドの間に配置された磁気再生ヘッドと、前記第２の磁気シールドと第３の磁気シールドとの間に配置された垂直磁気記録ヘッドとを含むアセンブリを準備する第１の工程と、
   前記磁気再生ヘッド、前記垂直磁気記録ヘッドおよび前記第１ないし第３の磁気シールドがエアベアリング面の一部をなす同一面内の下面を有するように、前記アセンブリを研磨する第２の工程と、
   前記エアベアリング面上に、前記第１ないし第３の磁気シールドの水平方向における一対の垂直エッジから第１の距離に渡って内側に延在する一対の非被覆領域を除いて、前記磁気再生ヘッド、前記垂直磁気記録ヘッドおよび前記第１ないし第３の磁気シールドを被覆するように、一対の垂直エッジを有するマスクを形成する第３の工程と、
   前記マスクおよびイオンビームミリングを用いて、前記一対の非被覆領域において前記第１ないし第３の磁気シールドを部分的に除去することにより、前記第３の磁気シールドが、前記エアベアリング面と同一面内の第１の下面と、前記エアベアリング面から第２の距離に渡って平行に後退した一対の第２の下面と、前記第１および第２の下面に連結された一対の傾斜面とを有するようにする第４の工程と、
   前記マスクを除去する第５の工程と
   を含むことを特徴とする磁気再生記録ヘッドの製造方法。
2. 前記第４の工程において、前記一対の傾斜面を平坦にするエッチングレートにおいて、ビーム強度を変化させながら一定のスキャン速度で前記一対の非被覆領域をイオンビームスキャンする
   ことを特徴とする請求項１記載の磁気再生記録ヘッドの製造方法。
3. 前記第４の工程において、前記一対の傾斜面を平坦にするエッチングレートにおいて、スキャン速度を変化させながら一定のビーム強度で前記一対の非被覆領域をイオンビームスキャンする
   ことを特徴とする請求項１記載の磁気再生記録ヘッドの製造方法。
4. 前記第４の工程において、前記一対の傾斜面を平坦にするようにスキャン速度およびビーム強度を変化させながら前記一対の非被覆領域をイオンビームスキャンする
   ことを特徴とする請求項１記載の磁気再生記録ヘッドの製造方法。
5. 前記一対の傾斜面を、平坦にすると共に、前記エアベアリング面に対して１°以上２０°以下の範囲内の角度をなすようにする
   ことを特徴とする請求項１記載の磁気再生記録ヘッドの製造方法。
6. 前記第４の工程において、前記一対の傾斜面を湾曲させるエッチングレートにおいて、ビーム強度を変化させながら一定のスキャン速度で前記一対の非被覆領域をイオンビームスキャンする
   ことを特徴とする請求項１記載の磁気再生記録ヘッドの製造方法。
7. 前記第４の工程において、前記一対の傾斜面を湾曲させるエッチングレートにおいて、スキャン速度を変化させながら一定のビーム強度で前記一対の非被覆領域をイオンビームスキャンする
   ことを特徴とする請求項１記載の磁気再生記録ヘッドの製造方法。
8. 前記第４の工程において、前記一対の傾斜面を湾曲させるようにスキャン速度およびビーム強度を変化させながら前記一対の非被覆領域をイオンビームスキャンする
   ことを特徴とする請求項１記載の磁気再生記録ヘッドの製造方法。
9. 前記第１の距離を１μｍ以上３００μｍ以下の範囲内にする
   ことを特徴とする請求項１記載の磁気再生記録ヘッドの製造方法。
10. 前記第２の距離を５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の範囲内にする
    ことを特徴とする請求項１記載の磁気再生記録ヘッドの製造方法。
11. 第１および第２の磁気シールドの間に配置された磁気再生ヘッドと、前記第２の磁気シールドと第３の磁気シールドとの間に配置された垂直磁気記録ヘッドとを含むアセンブリを準備する第１の工程と、
    前記磁気再生ヘッド、前記垂直磁気記録ヘッドおよび前記第１ないし第３の磁気シールドがエアベアリング面の一部をなす同一面内の下面を有するように、前記アセンブリを研磨する第２の工程と、
    前記エアベアリング面上に、前記第１ないし第３の磁気シールドの水平方向における一対の垂直エッジから第１の距離に渡って内側に延在する一対の非被覆領域および前記第３の磁気シールドの垂直方向における１つの水平エッジから第２の距離に渡って内側に延在する１つの非被覆流域を除いて、前記磁気再生ヘッド、前記垂直磁気記録ヘッドおよび前記第１ないし第３の磁気シールドを被覆するように、一対の垂直エッジおよび１つの水平エッジを有するマスクを形成する第３の工程と、
    前記マスクおよびイオンビームミリングを用いて、前記一対の非被覆領域および前記１つの非被覆領域において前記第１ないし第３の磁気シールドを部分的に除去することにより、前記第３の磁気シールドが、前記エアベアリング面と同一面内の第１の下面と、三方から前記第１の下面を囲むと共に前記エアベアリング面から第３の距離に渡って平行に後退した第２の下面と、水平方向において前記第１および第２の下面に連結された一対の傾斜面および垂直方向において前記第１および第２の下面に連結された１つの傾斜面とを有するようにする第４の工程と、
    前記マスクを除去する第５の工程と
    を含むことを特徴とする磁気再生記録ヘッドの製造方法。
12. 前記一対の傾斜面を、平坦にすると共に、前記エアベアリング面に対して１°以上２０°以下の範囲内の角度をなすようにする
    ことを特徴とする請求項１１記載の磁気再生記録ヘッドの製造方法。
13. 前記１つの傾斜面を、平坦にすると共に、前記エアベアリング面に対して１°以上２０°以下の範囲内の角度をなすようにする
    ことを特徴とする請求項１１記載の磁気再生記録ヘッドの製造方法。
14. 前記一対の傾斜面を湾曲させる
    ことを特徴とする請求項１１記載の磁気再生記録ヘッドの製造方法。
15. 前記１つの傾斜面を湾曲させる
    ことを特徴とする請求項１１記載の磁気再生記録ヘッドの製造方法。
16. 前記第１の距離を１μｍ以上３００μｍ以下の範囲内にする
    ことを特徴とする請求項１１記載の磁気再生記録ヘッドの製造方法。
17. 第１および第２の磁気シールドの間に配置された磁気再生ヘッドと、前記第２の磁気シールドと第３の磁気シールドとの間に配置された垂直磁気記録ヘッドとを含むアセンブリを備え、
    前記アセンブリは、前記磁気再生ヘッド、前記垂直磁気記録ヘッドおよび前記第１ないし第３の磁気シールドがエアベアリング面の一部をなす同一面内の下面を有するように構成され、
    前記第３の磁気シールドは、前記エアベアリング面と同一面内の第１の下面と、水平方向における一対の垂直エッジから第１の距離に渡って内側に延在すると共に前記エアベアリング面から第２の距離に渡って平行に後退した一対の第２の下面と、前記第１および第２の下面に連結された一対の傾斜面とを有する
    ことを特徴とする磁気再生記録ヘッド。
18. 前記一対の傾斜面が、平坦であると共に、前記エアベアリング面に対して１°以上２０°以下の範囲内の角度をなしている
    ことを特徴とする請求項１７記載の磁気再生記録ヘッド。
19. 前記一対の傾斜面が、湾曲している
    ことを特徴とする請求項１７記載の磁気再生記録ヘッド。
20. 前記第１の距離が、１μｍ以上３００μｍ以下の範囲内である
    ことを特徴とする請求項１７記載の磁気再生記録ヘッド。
21. 前記第２の距離が、５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の範囲内である
    ことを特徴とする請求項１７記載の磁気再生記録ヘッド。
22. 前記第３の磁気シールドの傾斜エッジにおける消去磁界が、直角エッジにおける消去磁界に対して少なくとも３０％減少している
    ことを特徴とする請求項１７記載の磁気再生記録ヘッド。
23. 第１および第２の磁気シールドの間に配置された磁気再生ヘッドと、前記第２の磁気シールドと第３の磁気シールドとの間に配置された垂直磁気記録ヘッドとを含むアセンブリを備え、
    前記アセンブリは、前記磁気再生ヘッド、前記垂直磁気記録ヘッドおよび前記第１ないし第３の磁気シールドがエアベアリング面の一部をなす同一面内の下面を有するように構成され、
    前記第３の磁気シールドは、前記エアベアリング面と同一面内の第１の下面と、水平方向における一対の垂直エッジから第１の距離に渡って内側に延在し、かつ、垂直方向における１つの水平エッジから第２の距離に渡って内側に延在することにより三方から前記第１の下面を囲むと共に、前記エアベアリング面から第３の距離に渡って平行に後退した第２の下面と、水平方向において前記第１および第２の下面に連結された一対の傾斜面および垂直方向において前記第１および第２の下面に連結された１つの傾斜面とを有する
    ことを特徴とする磁気再生記録ヘッド。
24. 前記一対の傾斜面が、平坦であると共に、前記エアベリング面に対して１°以上２０°以下の範囲内の角度をなしている
    ことを特徴とする請求項２３記載の磁気再生記録ヘッド。
25. 前記１つの傾斜面が、平坦であると共に、前記エアベリング面に対して１°以上２０°以下の範囲内の角度をなしている
    ことを特徴とする請求項２３記載の磁気再生記録ヘッド。
26. 前記一対の傾斜面が、湾曲している
    ことを特徴とする請求項２３記載の磁気再生記録ヘッド。
27. 前記１つの傾斜面が、湾曲している
    ことを特徴とする請求項２３記載の磁気再生記録ヘッド。
28. 前記第１の距離が、１μｍ以上３００μｍ以下の範囲内である
    ことを特徴とする請求項２３記載の磁気再生記録ヘッド。
29. 前記第３の磁気シールドの傾斜エッジにおける消去磁界が、直角エッジにおける消去磁界に対して少なくとも３０％減少している
    ことを特徴とする請求項２３記載の磁気再生記録ヘッド。

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