JP2006249548A - 金属粉末の製造方法およびターゲット材の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 4a族および5a族から選ばれる金属材料を水素雰囲気中で加熱処理を施し水素含有合金を生成し、次いで該水素含有合金を粉砕して水素含有合金粉末とし、さらに該水素含有合金粉末を不活性ガスを主体とする雰囲気で発生させた熱プラズマ炎に通過させて脱水素と酸素還元と球状化を同時に行う合金粉末の製造方法である。また、上記で得られた粉末を加圧焼結するターゲット材の製造方法である。
【選択図】 図2
Description
特に、半導体集積回路のバリア膜、液晶表示素子の電極膜、ハードディスクドライブの磁気ヘッドの下地膜などには、4a族元素(Ti、Zr、Hf)、5a族元素(V、Nb、Ta)からなるターゲット材が用いられている。これらのターゲット材は溶解圧延法や粉末焼結法により製造されている。
本発明の目的は、上記の課題を解決し、酸素との親和力が強い4a族元素(Ti、Zr、Hf)や5a族元素(V、Nb、Ta)からなる金属材料から、低酸素な金属粉末と、低酸素で緻密な組織を有するターゲット材を製造する新規な方法を提供することである。
また、本発明のターゲット材の製造方法は、前記本発明の製造方法により得られた金属粉末を加圧焼結によりターゲット材を製造するターゲット材の製造方法である。
粉砕粉である水素含有合金粉末の粒径が大き過ぎると、後述する熱プラズマ炎での溶融が困難となるため、100メッシュ(150μm)以下に調整すると良い。また、粒径が小さ過ぎると、熱プラズマ炎で蒸発した際に超微細粉が生成され、他の粉末に付着して酸素含有量が増加する原因となる場合があるので、適切な粒度のふるいにより微細な粉末を予め分級除去しても良い。
まず、高温(5000〜20000K)の熱プラズマ炎に曝された水素含有合金粉末の粒子は瞬時に脱水素反応もしくは溶融に伴う分解により水素を熱プラズマ炎に放出する。この際水素含有合金が含有している水素は完全に放出されるため後工程で脱水素処理を行う必要はない。
そして、水素含有合金粉末の粒子に含まれている酸素はこの水素イオンにより還元されて排気され、水素含有合金粉末の粒子は熱プラズマ炎を通過した後は表面張力により球状に凝固した金属粉末の粒子として回収される。
尚、水素含有合金粉末の粒子が熱プラズマ炎中で溶融した際には、酸素以外の低沸点不純物元素が粉末粒子表面から蒸発するため、酸素以外の不純物の低減も同時に可能である。
図1は熱プラズマ処理装置の一例を示す構成図である。実施例においては、熱プラズマ装置には図1に示す構造のものを用いた。本装置は交流熱プラズマ装置である誘導結合型RFプラズマトーチから構成されるもので、冷却壁1で仕切られたプラズマ発生空間2を有し、その外側に設けた高周波コイル3と、高周波コイル3の軸方向の一方から作動ガスを供給する作動ガス供給部4と、高周波コイルの内側に発生させた熱プラズマ炎5中にキャリアガスとともに粉末原料を供給する粉末供給ノズル6と、プラズマ炎の下流側に設けたチャンバー7と、チャンバーからの排気を行う排気装置8を具備する粉末の熱プラズマ処理装置である。
尚、水素ガスは主に熱プラズマ炎の広がり制御と酸素還元作用を意図して添加したものである。
次にこの水素含有合金の細片をポットに入れ、内部をArガス置換してボールミルにより粉砕して粉末とし、さらに分級を行い粒径45〜74μm(200メッシュ以下、325メッシュ以上、平均粒径59μm)のTa水素含有合金粉末を作製した。この粉末についてX線回折による相同定を行ったところ、図2中に示す通りTa2H水素化物相の回折ピークが確認された。さらに、このTa水素含有合金粉末を上記の熱プラズマ装置を使用して、上記条件の下で熱プラズマ炎に通過させて回収した。
5 熱プラズマ炎、6 粉末供給ノズル、7 チャンバー、8 排気装置
Claims (2)
- 4a族および5a族から選ばれる金属材料を水素雰囲気中で加熱処理を施し水素含有合金を生成する工程と、該水素含有合金を粉砕して水素含有合金粉末を作製する工程と、該水素含有合金粉末を不活性ガスを主体とする雰囲気中で発生させた熱プラズマ炎に通過させて脱水素と酸素還元と球状化を同時に行う工程とを具備することを特徴とする金属粉末の製造方法。
- 請求項1に記載の金属粉末の製造方法により得られた金属粉末を原料として、加圧焼結によりターゲット材を製造することを特徴とするターゲット材の製造方法。
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