JP2006248798A - シリカガラス製品の製造方法 - Google Patents
シリカガラス製品の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006248798A JP2006248798A JP2005063904A JP2005063904A JP2006248798A JP 2006248798 A JP2006248798 A JP 2006248798A JP 2005063904 A JP2005063904 A JP 2005063904A JP 2005063904 A JP2005063904 A JP 2005063904A JP 2006248798 A JP2006248798 A JP 2006248798A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silica glass
- glass product
- producing
- slurry
- less
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/06—Other methods of shaping glass by sintering, e.g. by cold isostatic pressing of powders and subsequent sintering, by hot pressing of powders, by sintering slurries or dispersions not undergoing a liquid phase reaction
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/06—Other methods of shaping glass by sintering, e.g. by cold isostatic pressing of powders and subsequent sintering, by hot pressing of powders, by sintering slurries or dispersions not undergoing a liquid phase reaction
- C03B19/066—Other methods of shaping glass by sintering, e.g. by cold isostatic pressing of powders and subsequent sintering, by hot pressing of powders, by sintering slurries or dispersions not undergoing a liquid phase reaction for the production of quartz or fused silica articles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B20/00—Processes specially adapted for the production of quartz or fused silica articles, not otherwise provided for
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
Abstract
【解決手段】平均粒径が6〜15μmで、固形分濃度が70〜85質量%のシリカガラススラリーを成形型に鋳込み、乾燥し、純化処理したのち、ガラス状カーボン被覆及び/又は含浸カーボン支持体上で、高温加熱下でガラス化することを特徴とするシリカガラス製品の製造方法。
【選択図】 なし
Description
る。
四塩化珪素を加水分解して得た平均粒径が100nmのシリカガラス1次粒子130kgと0.5μsの電気伝導度をもつ水70kgとを、内面が高純度のポリウレタンでライニングされ給排気を備えた回転円筒形容器に導入し、さらにシリカガラスボール45kgを導入し撹拌した。撹拌開始から1時間後に、130℃に暖められた空気10m3/分を流し水分を徐々に蒸発した。約30時間後、水分が0.5質量%、粒径範囲が1〜80μmのシリカガラス顆粒を得た。
実施例1において、ガラス化温度を1500℃とした以外、実施例1と同様にしてシリカガラスリフレクターを製造した。得られたシリカガラスリフレクターの表面粗さRaは0.8μmであった。
実施例1において、固形分濃度75質量%のスラリーをさらに25℃の空気中で乾燥し、固形分濃度83質量%のスラリーとした以外、実施例1と同様にしてシリカガラスリフレクターを製造した。得られたシリカガラスリフレクターは透明で形状も良好であった。
実施例1においてシリカガラス成形体を純化処理しない以外、実施例1と同様にしてシリカガラスリフレクターを製造した。得られたシリカガラスリフレクターにはクラックが発生し、製品に曲がりが生じていた。
実施例1において、ガラス化温度を1400℃とした以外、実施例1と同様にしてシリカガラスリフレクターを製造した。得られたシリカガラスリフレクターにはクラックが多く発生していた。
実施例1において、ガラス状カーボン含浸カーボン支持体を等方性黒鉛のカーボン支持体(東洋炭素製)とした以外、実施例1と同様にしてシリカガラスリフレクターを製造した。得られたシリカガラスリフレクターにはカーボン支持体との反応がみられクラックが発生していた。
Claims (10)
- 平均粒径が6〜15μmで、固形分濃度が70〜85質量%のシリカガラススラリーを成形型に鋳込み、乾燥し、純化処理したのち、ガラス状カーボン被覆及び/又は含浸カーボン支持体上で、高温加熱下でガラス化することを特徴とするシリカガラス製品の製造方法。
- シリカガラス固形分が1μm以下のシリカガラス1次粒子を水と混合し、乾燥し、顆粒としたものを焼結して得たシリカガラス焼結粉であることを特徴とする請求項1記載のシリカガラス製品の製造方法。
- 固形分濃度70〜85質量%のシリカガラススラリーが内側が高純度のポリウレタン又はシリカガラスで被覆され、回転速度が1〜100rpmの回転円筒形容器内で製造されることを特徴とする請求項1記載のシリカガラス製品の製造方法。
- シリカガラススラリーの成形型への鋳込みを重力鋳込みで行うことを特徴とする請求項1記載のシリカガラス製品の製造方法。
- 重力鋳込み時に振動を与えることを特徴とする請求項4記載のシリカガラス製品の製造方法。
- シリカガラス製品の製造において、純化処理がHCl含有ガスを流量1L/分で流す容器内で、温度900〜1200℃に加熱する処理であることで特徴とする請求項1記載のシリカガラス製品の製造方法。
- ガラス化処理を温度1500〜1800℃、圧力10Pa以下の減圧雰囲気下で行うことを特徴とする請求項1記載のシリカガラス製品の製造方法。
- ガラス化処理を温度1400℃までは圧力10Pa以下の減圧雰囲気で行い、1400〜1800℃までは圧力2x105 Pa以下の不活性ガス雰囲気下で行うことを特徴とする請求項1記載のシリカガラス製品の製造方法。
- ガラス状カーボン被覆及び/又は含浸カーボン支持体がCl2含有ガスを流量1L/分で流す容器内で、温度900〜1200℃に加熱する純化処理がされたカーボン支持体であることを特徴とする請求項1記載のシリカガラス製品の製造方法。
- ガラス状カーボンを被覆及び/又は含浸したカーボン支持体の表面粗さが10μm以下であることを特徴とする請求項9記載のシリカガラス製品の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005063904A JP4498173B2 (ja) | 2005-03-08 | 2005-03-08 | シリカガラス製品の製造方法 |
PCT/EP2006/001671 WO2006089754A1 (en) | 2005-02-23 | 2006-02-23 | Method for the manufacture of a silica glass product |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005063904A JP4498173B2 (ja) | 2005-03-08 | 2005-03-08 | シリカガラス製品の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006248798A true JP2006248798A (ja) | 2006-09-21 |
JP4498173B2 JP4498173B2 (ja) | 2010-07-07 |
Family
ID=37089681
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005063904A Active JP4498173B2 (ja) | 2005-02-23 | 2005-03-08 | シリカガラス製品の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4498173B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011006278A (ja) * | 2009-06-25 | 2011-01-13 | Fukui Shinetsu Sekiei:Kk | 石英ガラス加工品の純化処理装置及び純化処理方法 |
KR20210057220A (ko) | 2016-06-01 | 2021-05-20 | 신에쯔 세끼에이 가부시키가이샤 | 자외선smd형 led소자의 기밀봉지용 석영유리 부재 및 자외선led용 석영유리 부재의 제조방법 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08290928A (ja) * | 1995-04-17 | 1996-11-05 | Tosoh Corp | 透明石英ガラス板の製造方法 |
JPH11189427A (ja) * | 1997-12-25 | 1999-07-13 | Koransha Co Ltd | シリカガラス焼結体の製造方法 |
JP2001089168A (ja) * | 1999-09-28 | 2001-04-03 | Shinetsu Quartz Prod Co Ltd | 高純度合成石英ガラス粉の製造方法 |
JP2004161607A (ja) * | 2002-10-21 | 2004-06-10 | Tokuyama Corp | 透明石英ガラス体の製造方法 |
JP2004182481A (ja) * | 2002-11-29 | 2004-07-02 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | マイクロリアクターチップ用基板 |
JP2004224580A (ja) * | 2003-01-20 | 2004-08-12 | Toshiba Ceramics Co Ltd | 石英ガラス成形用型およびその製造方法 |
-
2005
- 2005-03-08 JP JP2005063904A patent/JP4498173B2/ja active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08290928A (ja) * | 1995-04-17 | 1996-11-05 | Tosoh Corp | 透明石英ガラス板の製造方法 |
JPH11189427A (ja) * | 1997-12-25 | 1999-07-13 | Koransha Co Ltd | シリカガラス焼結体の製造方法 |
JP2001089168A (ja) * | 1999-09-28 | 2001-04-03 | Shinetsu Quartz Prod Co Ltd | 高純度合成石英ガラス粉の製造方法 |
JP2004161607A (ja) * | 2002-10-21 | 2004-06-10 | Tokuyama Corp | 透明石英ガラス体の製造方法 |
JP2004182481A (ja) * | 2002-11-29 | 2004-07-02 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | マイクロリアクターチップ用基板 |
JP2004224580A (ja) * | 2003-01-20 | 2004-08-12 | Toshiba Ceramics Co Ltd | 石英ガラス成形用型およびその製造方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011006278A (ja) * | 2009-06-25 | 2011-01-13 | Fukui Shinetsu Sekiei:Kk | 石英ガラス加工品の純化処理装置及び純化処理方法 |
KR20210057220A (ko) | 2016-06-01 | 2021-05-20 | 신에쯔 세끼에이 가부시키가이샤 | 자외선smd형 led소자의 기밀봉지용 석영유리 부재 및 자외선led용 석영유리 부재의 제조방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4498173B2 (ja) | 2010-07-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN1066696C (zh) | 高二氧化硅含量的成形体及其制造方法 | |
JP5801407B2 (ja) | 合成石英ガラス顆粒の製造方法 | |
CN1308099C (zh) | 型砂及其制造方法、包含型砂的铸型、由铸型铸造形成的铸件和包含铸件的结构物 | |
CN103922768B (zh) | 一种功能复合型氧化锆耐火制品及其制备方法 | |
JP4446448B2 (ja) | 透明シリカガラス製品の製造方法 | |
JP2004131378A (ja) | 不透明石英ガラス材の製造方法 | |
JP2001089125A (ja) | 多孔質シリカ顆粒、その製造方法及び該多孔質シリカ顆粒を用いた合成石英ガラス粉の製造方法 | |
JP2001130972A (ja) | 炭化ケイ素粉末、グリーン体の製造方法、及び炭化ケイ素焼結体の製造方法 | |
JP4498173B2 (ja) | シリカガラス製品の製造方法 | |
CA1192367A (en) | Material comprising silicon and process for its manufacture | |
ZA200506574B (en) | Method of obtaining surface coating of silicon nitride (SI3N4) on ceramic components and parts | |
JP2015074565A (ja) | 球状炭化ケイ素粉及びその製造方法 | |
CN1213658A (zh) | 轻质莫来石浇注料 | |
JP2006290666A (ja) | シリカガラス製品の製造方法 | |
WO2006089754A1 (en) | Method for the manufacture of a silica glass product | |
US20060240287A1 (en) | Dummy wafer and method for manufacturing thereof | |
JP4068825B2 (ja) | 炭化ケイ素焼結体の製造方法 | |
CN105924213B (zh) | 一种轻质多孔磷酸铝—碳化硅陶瓷球的制备方法 | |
JPH0647479A (ja) | 人工鋳物砂およびその製造方法 | |
JPH03275527A (ja) | 多孔質シリカガラス粉末 | |
RU2170715C2 (ru) | Способ получения изделий из спеченного стеклокристаллического материала литийалюмосиликатного состава | |
JP2004284859A (ja) | 溶融シリカ質耐火物及びその製造方法 | |
JPH03223196A (ja) | 溶融るつぼ装置 | |
JP2006248807A (ja) | 炭化ケイ素表面リッチ層を備える炭化ケイ素焼結体 | |
CN105948793A (zh) | 一种轻质多孔磷酸铝—莫来石陶瓷球的制备方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070817 |
|
AA91 | Notification that invitation to amend document was cancelled |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971091 Effective date: 20080311 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091202 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091224 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100216 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100413 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100413 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130423 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4498173 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130423 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20250423 Year of fee payment: 15 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |