JP2006244946A - 有機エレクトロルミネッセンス装置及びその製造方法、並びに電気機器及び光書き込みヘッド - Google Patents

有機エレクトロルミネッセンス装置及びその製造方法、並びに電気機器及び光書き込みヘッド Download PDF

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Abstract

【課題】 良好な封止性が得られるとともに、装置全体のコンパクト化を実現できる有機エレクトロルミネッセンス装置を提供する。
【解決手段】 有機エレクトロルミネッセンス装置Sは、基板1上に設けられた発光素子3と、発光素子3に接続され、発光素子3を覆う第1封止部材10と、第1封止部材10との間に封止空間2を形成しつつ基板1に接続され、第1封止部材10を覆う第2封止部材20とを備えている。
【選択図】 図1

Description

本発明は、有機エレクトロルミネッセンス(EL:electroluminescence)装置及びその製造方法、並びに電子機器及び光書き込みヘッドに関するものである。
有機EL装置は、発光物質を含む発光層を陽極及び陰極の電極層で挟んだ構成の発光素子を有しており、陽極側から注入された正孔と、陰極側から注入された電子とを発光能を有する発光層内で再結合し、励起状態から失括する際に発光する現象を利用して、所望の光を射出する。発光素子は大気中の水分や酸素等によって劣化し易いため、有機EL装置においては、発光素子を大気から保護するために封止することが行われている。下記特許文献1には封止に関する技術の一例が開示されている。
特開2000−40585号公報
従来の技術は、内部封止体と外部封止体との2つの封止体で発光素子を封止しているが、発光素子と内部封止体との間に空間が形成され、内部封止体と外部封止体との間にも空間が形成されているため、装置全体の大型化を招く。
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、良好な封止性が得られるとともに、装置全体のコンパクト化を実現できる有機エレクトロルミネッセンス装置及びその製造方法、並びに電子機器及び光書き込みヘッドを提供することを目的とする。
上記の課題を解決するため、本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置は、基板上に設けられた発光素子と、前記発光素子に接続され、前記発光素子を覆う第1封止部材と、前記第1封止部材との間に空間を形成しつつ前記基板に接続され、前記第1封止部材を覆う第2封止部材とを備えたことを特徴とする。
本発明によれば、発光素子と第1封止部材とを接続するとともに、第1封止部材との間に空間を形成しつつ第1封止部材を覆う第2封止部材を設けたので、良好な封止性を得ることができるとともに、装置全体のコンパクト化を実現できる。
前記第1封止部材は接着層を介して前記発光素子に接続する所定部材を含む構成を採用することができる。これによれば、発光素子と所定部材とを接着剤を介して良好に接続することができ、良好な封止性を得ることができる。
前記第1封止部材は無機膜を含む構成を採用することができる。こうすることによっても、良好な封止性を得ることができるとともに、装置全体のコンパクト化を実現できる。
前記第1封止部材の厚さは0.5mm以下である構成を採用することができる。これにより、装置全体のより一層のコンパクト化を実現できる。
前記空間に設けられ、前記発光素子を駆動する駆動素子を有する構成を採用することができる。これによれば、駆動素子と発光素子との間の距離を短くすることができ、装置全体のコンパクト化を実現できるとともに、駆動素子と発光素子とを電気的に接続する接続部を短くすることができ、発光素子又は駆動素子に対する電気的なノイズの影響を抑えることができる。
前記空間に設けられた乾燥剤を有する構成を採用することができる。これにより、良好な封止性を長期間維持することができる。
前記第1封止部材と前記乾燥剤とは前記基板の面方向に関して互いに異なる位置に設けられている構成を採用することができる。これによれば、装置全体の薄型化を実現することができる。
本発明の電子機器は、上記記載の有機エレクトロルミネッセンス装置を備えたことを特徴とする。
本発明によれば、発光素子を良好に封止して、コンパクトで所望の性能を有する電子機器を提供することができる。
本発明の光書き込みヘッドは、上記記載の有機エレクトロルミネッセンス装置を備え、感光体に対して光を照射することを特徴とする。
本発明によれば、発光素子を良好に封止して、コンパクトで所望の性能を有する光書き込みヘッドを提供することができる。
本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法は、基板上に発光素子を設ける第1工程と、前記発光素子を覆うように該発光素子に第1封止部材を接続する第2工程と、前記第1封止部材との間に空間を形成しつつ該第1封止部材を覆うように前記基板に第2封止部材を接続する第3工程とを含むことを特徴とする。
本発明によれば、良好な封止性を有しコンパクト化が実現される有機エレクトロルミネッセンス装置を作業性良く製造することができる。
前記第2工程と前記第3工程との間に、前記基板に対して前記発光素子を駆動するための駆動素子を実装する工程を有する構成を採用することができる。これによれば、発光素子を第1封止部材で封止した後、駆動素子を基板に実装するため、駆動素子の実装作業中においても、発光素子の劣化を防止することができる。
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。なお、以下の説明においては、XYZ直交座標系を設定し、このXYZ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。そして、水平面内における所定方向をX軸方向、水平面内においてX軸方向と直交する方向をY軸方向、X軸方向及びY軸方向のそれぞれに直交する方向(すなわち鉛直方向)をZ軸方向とする。更には、X軸、Y軸、及びZ軸まわりの回転方向をそれぞれ、θX、θY、及びθZ方向とする。
<第1実施形態>
図1は第1実施形態に係る有機EL装置の側断面図、図2は図1のA−A線断面矢視図である。図1及び図2において、有機EL装置Sは、基板1と、基板1上に設けられた発光素子3と、発光素子3に接続され、発光素子3を覆う第1封止部材10と、基板1に接続され、第1封止部材10を覆う第2封止部材20とを備えている。基板1の表面(能動面)1Aには発光素子3を駆動するための駆動回路31が集積されている。発光素子3は、基板1の表面1Aに設けられている。第2封止部材20は、発光素子3を覆う第1封止部材10との間に封止空間2を形成しつつ、基板1に接着剤8を介して接続されている。
第2封止部材20は断面視下向きコ状に形成されており、基板1との間で封止空間2を形成している。第2封止部材20は、基板1の第1領域41と貼り合わせられる第2領域42を有している。第1領域41は、基板1の表面1Aのうち発光素子3が設けられている部分の外側に設定されている。第2領域42は、第2封止部材20の下端面に設定されており、第1領域41と対向している。そして、第1領域41と第2領域42とが接着剤8を介して貼り合わせられることによって、平板状の基板1と第2封止部材20との間で、発光素子3を封止する封止空間2が形成される。
発光素子3は、基板1の表面1Aに形成された陽極4と、正孔輸送層5と、発光層6と、陰極7とを備えている。封止空間2に設けられた発光素子3の陽極4は、基板1の表面(能動面)1Aに設けられた駆動回路31と電気的に接続されている。また不図示ではあるが、発光素子3の陰極7も駆動回路と電気的に接続されている。発光素子3の陽極4及び陰極7には、不図示の制御部より駆動回路31を介して駆動信号を含む電力が供給される。また、封止空間2にはゲッター剤と呼ばれる乾燥剤9が設けられている。乾燥剤9は、第2封止部材20のうち、基板1の表面1Aと対向する天井面20Bに設けられている。乾燥剤9により、発光素子3の水分等による劣化が抑制され、良好な封止性能を長期間維持することができる。
第1封止部材10は、発光素子3に被覆された無機膜11と、無機膜11上に設けられた接着層12と、接着層12上に設けられた保護部材13とを備えている。無機膜11は、発光素子3の表面に直接的に被覆されている。ここで、発光素子3の表面とは、基板1に接している領域以外の面を意味する。無機膜11は、発光素子3の表面全体に被覆されており、無機膜11の下端部は基板1(基板1上に設けられた駆動回路31を含む)に接続されている。
無機膜11は、発光素子3を封止する機能を有し、発光素子3に対して水分等が浸入することを抑制している。無機膜11を形成するための形成材料としては、酸窒化珪素(SiON)、二酸化珪素(SiO)、窒化珪素(SiN)などを用いることができる。
接着層12は、保護部材13と無機膜11とを接着するためのものであって、無機膜11の表面に直接的に被覆されている。ここで、無機膜11の表面とは、発光素子3に接している面とは反対側の面を意味する。接着層12は、無機膜11の表面全体に被覆されており、接着層12の下端部は基板1(基板1上に設けられた駆動回路31を含む)に接続されている。接着層12を形成するための形成材料としては、安定した接着強度を維持することができ、気密性が良好なものであれば特に限定されないが、例えば熱硬化性接着剤などを用いることができる。なお、接着層12を形成する材料としては、紫外光(UV)の照射により硬化する光硬化性エポキシ樹脂などを用いることもできる。
保護部材13は、接着層12及び無機膜11を保護するためのものであって、所定の硬度を有している。保護部材13は、接着層12に隙間無く接続されている。保護部材13としては、接着層12及び無機層11を保護できる機能を有していればよく、例えばガラス板やプラスチック製のフィルム部材を用いることができる。本実施形態においては、保護部材13は接着層12の一部を覆う程度の大きさを有しているが、接着層12の表面全体を覆うものであってもよい。保護部材13は、無機膜11及び接着層12を介して発光素子3に接続されている。なお、保護部材13をガラス製にして、接着層12の表面全体を覆うことにより、発光素子3への水分等の浸入を良好に防止することができる。
なお、図1においては、発光素子3と保護部材13との間には無機膜11及び接着層12がそれぞれ一層ずつ設けられているように示されているが、発光素子3と保護部材13との間に、無機膜11と合成樹脂等の接着機能を有する有機膜とを交互に複数積層してもよい。無機膜11と有機膜とを複数積層することによりクラックの発生を防止することができる。また、無機膜11を多層にすることにより、発光素子3に対する封止性能をより高めることができる。無機膜を多層に設ける場合には、例えば酸窒化珪素を多層に設けるなど、1種類の材料からなる膜を多層に設けてもよいし、窒化珪素と二酸化珪素とを積層するなど、異なる材料からなる膜を多層に設けてもよい。
このように、無機膜11、接着層(有機膜)12、及び保護部材13を含む第1封止部材10は、発光素子3との間に空間を形成すること無く、発光素子3に対して直接的に接続されている。また、第1封止部材10は発光素子3の表面全体を覆うように設けられており、発光素子3に対して所望の封止性能を発揮している。また、第1封止部材10の厚さの最大値D1は、0.5mm以下に抑えられている。
第2封止部材20は、外部空間から封止空間2に対して、水分及び酸素等を含む大気が侵入することを遮断するものである。第2封止部材20を形成するための形成材料としては、所望の封止性能を有していれば特に限定されず、例えばガラスや石英、合成樹脂、あるいは金属など水分透過率の小さい材料を用いることができる。ガラスとしては、例えば、ソーダ石灰ガラス、鉛アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミノケイ酸ガラス、シリカガラスなどを用いることができる。合成樹脂としては、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリエーテルケトンなどの透明な合成樹脂などを用いることができる。金属としては、アルミニウムやステンレス等を用いることができる。
乾燥剤9としては、封止空間2において所望の乾燥機能(吸湿機能)を有していれば特に限定されないが、例えば、シリカゲル、ゼオライト、活性炭、酸化カルシウム、酸化ゲルマニウム、酸化バリウム、酸化マグネシウム、五酸化リン、塩化カルシウムなどを用いることができる。
接着剤8は、第1領域41(又は第2領域42)の全域に設けられる。接着剤8としては、安定した接着強度を維持することができ、気密性が良好なものであれば特に限定されない。本実施形態の接着剤8には、紫外光(UV)の照射により硬化する光硬化性エポキシ樹脂が用いられている。
本実施形態の有機EL装置Sは、発光素子3からの発光を基板1側から装置外部に取り出す形態、所謂ボトム・エミッションである。基板1は、光を透過可能な透明あるいは半透明材料、例えば、透明なガラス、石英、サファイア、あるいはポリエステル、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリエーテルケトンなどの透明な合成樹脂などによって形成されている。
陽極4は、印加された電圧によって正孔を正孔輸送層5に注入するものであり、例えば、ITO(Indium Tin Oxide:インジウム錫酸化物)などの透明導電膜により形成されている。
正孔輸送層5は、陽極4の正孔を発光層6に輸送・注入するためのものであり、公知の材料を用いることができる。例えば、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロールなどを用いることができる。更に具体的には、3,4−ポリエチレンジオシチオフェン/ポリスチレンスルフォン酸(PEDOT/PSS)などを用いることができる。
発光層6は、陽極4から正孔輸送層5を経て注入された正孔と、陰極7からの注入された電子とを結合して蛍光を発生させる機能を有する。発光層6を形成する材料としては、蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の発光材料を用いることができる。例えば、ポリフルオレン誘導体(PF)、(ポリ)パラフェニレンビニレン誘導体(PPV)、ポリフェニレン誘導体(PP)、ポリパラフェニレン誘導体(PPP)、ポリビニルカルバゾール(PVK)、ポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン(PMPS)などのポリシラン系などを用いることができる。
また、発光層6と陰極7との間に電子輸送層を設けてもよい。電子輸送層は、発光層6に電子を注入する役割を果たすものである。電子輸送層を形成する材料としては、オキサジアゾール誘導体、アントラキノジメタン及びその誘導体、ベンゾキノン及びその誘導体、ナフトキノン及びその誘導体、アントラキノン及びその誘導体、テトラシアノアンスラキノジメタン及びその誘導体、フルオレノン誘導体、ジフェニルジシアノエチレン及びその誘導体、ジフェノキノン誘導体、8−ヒドロキシキノリン及びその誘導体の金属錯体などを用いることができる。
陰極7は、発光層6へ効率的に電子注入を行うことができる仕事関数の低い金属、例えばアルミニウム(Al)、マグネシウム(Mg)、金(Au)、銀(Ag)又はカルシウム(Ca)等の金属材料から形成されている。
そして、不図示の制御部より駆動回路31を介して発光素子3に駆動信号が供給されると、陽極4と陰極7との間に電流が流れ、発光素子3が発光して透明な基板1の外面側に光が射出される。
また図2に示すように、本実施形態の有機EL装置Sは、所定方向(Y軸方向)を長手方向とし、基板1の表面1Aと平行なXY平面に対して垂直な方向から見たとき、全体として略長方形状に形成されている。所定方向を長手方向とする平面視略長方形状に形成された有機EL装置Sは、感光体(感光ドラム)に対して光を照射する光書き込みヘッドに好適に用いることができる。
次に、上述した構成を有する有機EL装置Sを製造する方法について、図3に示す模式図を参照しながら説明する。以下で説明する製造工程の一部は、光学素子3の劣化を防ぐために、窒素ガスやアルゴンガスなどの不活性ガス雰囲気下で行われる。
図3(a)に示すように、基板1の表面(能動面)1Aに発光素子3が設けられる。なお、図3には不図示であるが、基板1の表面1Aには既に駆動回路31が形成されている。基板1上に発光素子3が設けられた後、所定の手法によって、発光素子3に無機膜11が被覆される。本実施形態においては、無機膜11は、イオンプレーティング、あるいはスパッタリング(低温スパッタ)等の手法を用いて発光素子3の表面に被覆される。これにより、発光素子3を覆うように、発光素子3の表面に無機膜11が接続される。発光素子3の表面に所定の厚さを有する無機膜11が被覆されることにより、有機EL装置Sの製造工程中においても、発光素子3と水分等との接触を防止し、発光素子3を封止することができる。
次に、図3(b)に示すように、無機膜11の表面に接着層12が形成される。無機膜11の表面に接着層12を形成する場合には、例えば液滴吐出法を用いることができる。液滴吐出法とは、形成しようとする材料層(ここでは接着層12)を形成するための形成材料を液状体にし、その液状体をディスペンサやインクジェット装置などの液滴吐出装置を用いて定量的に吐出することによって、所望領域に前記形成材料を塗布する方法である。そして、無機膜11の表面に接着層12が形成された後、保護部材13と接着層12とが接続される。接着層12を形成するための形成材料として熱硬化性接着剤が用いられている場合には、所定の熱が接着層12に付与される。これにより、接着層12を硬化させ、接着層12を介して発光素子3に保護部材13を接続することができる。こうして、発光素子3を覆うように、この発光素子3に保護部材13を含む第1封止部材10が接続される。
有機EL装置Sの製造工程中においては、発光素子3を備えた基板1を所定の搬送装置で搬送するなど、所定の動作が実行されるが、保護部材13を設けたことにより、搬送動作など所定の動作中においても、発光素子3や無機膜11を保護することができ、発光素子3や無機膜11に対するダメージを抑制することができる。
なお、上述のように、発光素子3上に無機膜と有機膜とを複数積層する場合には、所定の手法を用いて、無機膜と有機膜とが発光素子3上で積層される。こうすることにより、有機EL装置Sの製造工程中においても、クラックの発生を防止しつつ、発光素子3と水分等との接触を防止して、発光素子3を良好に封止することができる。
次に、図3(c)に示すように、基板1の第1領域41に接着剤8が塗布される。接着剤8を基板1上に塗布する際には、上述の液滴吐出法を用いることができる。液滴吐出装置は、基板1上の第1領域41に接着剤8を所定のパターンで塗布する。基板1の第1領域41に接着剤8が塗布された後、基板1の第1領域41と乾燥剤9を備えた第2封止部材20の第2領域42とが接着剤8を介して貼り合わせられる。次いで、接着剤8として光硬化性接着剤が用いられている場合には、接着剤8に対して所定の波長を有する光(紫外光)が照射される。この場合、接着剤8を硬化させるための光が発光素子3に照射されないように、所定位置に光を遮るマスクを配置することができる。以上により、第1封止部材10との間に封止空間2を形成しつつ、第1封止部材10を覆うように、基板1に対して第2封止部材2が接着剤8を介して接続される。
以上説明したように、発光素子3と第1封止部材10との間に空間を形成することなく、発光素子3と第1封止部材10とを直接的に接続するとともに、第1封止部材10との間に封止空間2を形成しつつ第1封止部材10を覆う第2封止部材20を設けたので、良好な封止性を得ることができるとともに、有機EL装置S全体のコンパクト化を実現できる。特に、有機EL装置Sを光書き込みヘッドとして用いる場合、その幅(図では短手方向であるX軸方向のサイズ)D2を小さくすることが好ましい。本実施形態においては、発光素子3に第1封止部材10を直接的に接続することで、従来のような封止部材を二重に設ける構成に比べて、第2封止部材20の幅D2、ひいては有機EL装置Sの幅を十分に小さくすることができるとともに、第1封止部材10と第2封止部材20との二重封止構造によって、発光素子3に対する良好な封止性能を実現することができる。また、発光素子3に第1封止部材10を直接的に接続することで、基板1の表面1Aと第2封止部材20の天井面2Bとの距離D3、ひいては第2封止部材20の厚さ(Z軸方向のサイズ)D8を十分に小さくすることもできる。したがって、有機EL装置S全体の厚さ(Z方向のサイズ)を抑えることができる。
また、第1封止部材10の厚さの最大値D1は0.5mm以下に抑えられているので、有機EL装置S全体のより一層のコンパクト化を実現できる。
また、無機膜11や接着層12を発光素子3上に被覆するときの被覆精度は、例えば基板1と第2封止部材20とを貼り合わせるために接着剤8を基板1の第1領域41に塗布するときの塗布精度に比べてラフでよいため、二重封止構造を実現する場合、発光素子3に直接的に接続される第1封止部材10と第2封止部材20とを用いた二重封止構造のほうが、従来のような接着剤を介して基板に接続される封止部材を二重に設ける構成に比べて、有機EL装置Sの製造工程を簡単化することができる。ここで、無機膜11や接着層12を発光素子3上に被覆するときの被覆精度とは、無機膜11や接着層12の膜厚のばらつき精度や、膜を形成するときの基板1に対する位置精度を含む。同様に、接着剤8を基板1の第1領域41に塗布するときの塗布精度とは、接着剤8の膜厚のばらつき精度や、接着剤8を塗布するときの基板1に対する位置精度を含む。
なお、有機EL装置Sの製造工程は、基板1と第2封止部材20とを接続するまでは不活性ガス雰囲気下で行われることが好ましいが、発光素子3の表面に無機膜11を被覆した後においては、例えばドライエア雰囲気下で行ったとしても、水分等に起因する発光素子3の劣化を抑制することができる。
なお、本実施形態の接着剤8は有機材料によって形成されているが、接着剤8として低融点ガラスや金属を用いた場合、外部空間から封止空間2への基板1と第2封止部材20との貼り合わせ部分を介した水分や酸素の浸入を良好に抑制することができるので、乾燥剤9を省略することも可能である。
<第2実施形態>
次に第2実施形態について図4を参照して説明する。本実施形態の特徴的な部分は、封止空間2に、発光素子3を駆動するための駆動素子30を設けた点にある。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については説明を簡略若しくは省略する。
図4に示すように、基板1の表面1Aには駆動素子(チップ)30が実装されている。駆動素子30と基板1との接続には、チップオングラス(COG:chip on glass)、チップサイズパッケージ(CSP:chip size package)等の技術が用いられている。駆動素子30は基板1と第2封止部材20との間に設けられた封止空間2に設けられている。駆動素子30と発光素子3とは、基板1の表面1Aに設けられた不図示の配線(接続部)を介して電気的に接続されている。
図5は第2実施形態に係る有機EL装置Sの製造工程を説明するための模式図である。図5(a)に示すように、基板1上には、発光素子3と、発光素子3を覆うように発光素子3に接続された第1封止部材10とが既に設けられている。基板1上に発光素子3及び第1封止部材10を設ける工程が完了した後、COGを行うための所定の実装装置50が、基板1に対して駆動素子30を実装する。このとき、発光素子3及び第1封止部材10の大きさ、駆動素子30の大きさ、及び実装装置50の形状などに応じて、実装装置50と第1封止部材10とが干渉しないように、実装装置50は、第1封止部材10に対して駆動素子30を所定距離D4だけ離れた位置に実装する。
次に、図5(b)に示すように、基板1の第1領域41と乾燥剤9を備えた第2封止部材20の第2領域42とが接着剤8を介して貼り合わせられる。こうして、封止空間2に設けられた駆動素子30を有する有機EL装置Sが製造される。ここで、駆動素子30の高さD5が、発光素子3及び第1封止部材10を合わせた高さD6よりも大きい場合、駆動素子30と乾燥剤9との干渉を防止するために、本実施形態の第2封止部材20としては、第1実施形態で示した第2封止部材20よりも大型のものが用いられる。具体的には、本実施形態における基板1の表面1Aと第2封止部材20の天井面20Bとの距離D3は、第1実施形態における基板1の表面1Aと第2封止部材20の天井面20Bとの距離D3よりも大きくなっている。
以上説明したように、駆動素子30を封止空間2に設けることにより、駆動素子30と第1封止部材10との距離D4、ひいては駆動素子30と発光素子3との間の距離D7を短くすることができる。したがって、有機EL装置S全体のコンパクト化を実現することができる。また、駆動素子30と発光素子3とを電気的に接続する接続部(配線)を短くすることができるため、発光素子3又は駆動素子30に対する電気的なノイズの影響を抑えることができる。
また、本実施形態においては、発光素子3と第1封止部材10との間に空間を形成することなく、発光素子3と第1封止部材10とを直接的に接続するようにしたので、第1封止部材10を設けた後、実装装置50と第1封止部材10及び発光素子3との干渉を抑えつつ、発光素子3の近くに駆動素子30を作業性良く実装することができる。そして、その後、第2封止部材20を設けることによって、有機EL装置S全体のコンパクト化を実現しつつ、二重封止構造によって良好な封止性能を得ることができる。すなわち、封止空間2に駆動素子30を設けずに、図6に示すように、駆動素子30を第2封止部材20の外側に設ける構成の場合、基板1と第2封止部材20とを接着剤8を介して接続した後、実装装置50を用いて基板1に駆動素子30を実装することになるが、その場合、実装装置50と第2封止部材20とが干渉しないように、実装装置50は、第2封止部材20に対して駆動素子30を所定距離D4’だけ離れた位置に実装することになる。第2封止部材20は、基板1との間に封止空間2を形成しており、第2封止部材20の厚さD8は、駆動素子30の高さD5よりも大きい可能性が高いため、駆動素子30の実装時において、実装装置50と第2封止部材20とが干渉する可能性が高い。したがって、第2封止部材20の大きさ、駆動素子30の大きさ、及び実装装置50の形状などに応じて、所定距離D4’を、図4等に示した所定距離D4よりも大きくする必要が生じる可能性が高くなる。距離D4’の巨大化に伴って、図6に示す駆動素子30と発光素子3との距離D7が巨大化すると、駆動素子30と発光素子3とを電気的に接続する配線(接続部)が長くなり、発光素子3又は駆動素子30に対する電気的なノイズの影響が大きくなる不都合が生じる可能性がある。また、基板1には、発光素子3の大きさに応じた発光領域と、その発光領域の周囲の発光に寄与しない非発光領域(額縁領域)とが設けられるが、距離D7の巨大化に伴って、基板1の単位面積当たりの非発光領域の割合が大きくなる。非発光領域が大きくなると、1枚の基板1から形成可能な有機EL装置Sの数が少なくなってコスト上昇を招いたり、あるいは発光領域が小さい有機EL装置Sが形成されてしまうなどの不都合が生じる。ところが、本実施形態においては、距離D7(距離D4)を十分に小さくすることができるため、上述の不都合を抑えることができる。
また、発光素子3を第1封止部材10で封止した後、駆動素子30を実装する実装工程を行う構成であるため、例えば駆動素子30の実装工程中に、発光素子3と水分等とが接触するといった不都合を防止することができる。
また、第2封止部材20の内側の封止空間2に駆動素子30を設けることにより、封止空間2を有効利用することができる。また、例えば駆動素子30を合成樹脂等でモールド化しなくても、駆動素子30の劣化を防止することができる。駆動素子30をモールド化しなくてもすむため、有機EL装置S全体のより一層のコンパクト化を図ることができる。また、第2封止部材20を金属製にした場合、外部からの電磁波に対する駆動素子30の保護も期待できる。
<第3実施形態>
次に、第3実施形態について図7及び図8を参照しながら説明する。図7は第3実施形態に係る有機EL装置の側断面図、図8は図7のB−B線断面矢視図である。本実施形態の特徴的な部分は、第1封止部材10と乾燥剤9とが、基板1の面方向(XY方向)に関して互いに異なる位置に設けられている点にある。
図7及び図8において、封止空間2には駆動素子30が設けられている。駆動素子30と発光素子3とは、基板1の表面1Aに設けられた接続部(配線)32を介して電気的に接続されている。第2封止部材20の天井面20Bには複数の乾燥剤9が設けられている。第1封止部材10と乾燥剤9とは、基板1の面方向(XY方向)に関して互いに異なる位置に設けられている。換言すれば、乾燥剤9は、平面視において、第1封止部材10と重ならない位置に設けられている。同様に、駆動素子30と乾燥剤9とが、基板1の面方向(XY方向)に関して互いに異なる位置に設けられている。図8に示すように、本実施形態の有機EL装置Sは、所定方向(Y軸方向)を長手方向とし、基板1の表面1Aと平行なXY平面に対して垂直な方向から見たとき、全体として略長方形状に形成されている。所定方向を長手方向とする平面視略長方形状に形成された有機EL装置Sは、感光体に対して光を照射する光書き込みヘッドに好適に用いることができる。
第1封止部材10と乾燥剤9とが基板1の面方向に関して互いに異なる位置に設けられているとともに、駆動素子30と乾燥剤9とが基板1の面方向に関して互いに異なる位置に設けられているため、乾燥剤9と第1封止部材10との干渉、及び乾燥剤9と駆動素子30との干渉を防止しつつ、基板1の表面1Aと第2封止部材20の天井面20Bとの距離D3を小さくすることができる。したがって、第2封止部材20の厚さD8を小さくすることができ、ひいては有機EL装置S全体の薄型化、コンパクト化を実現することができる。
<光書き込みヘッド>
図9は、上述の有機EL装置Sを、電子写真方式プリンタの光書き込みヘッド(プリンタヘッド)に適用した場合の一例を示す図である。図9において、有機EL装置Sの基板1の上方には光学系60が設けられており、光学系60の上方には感光ドラム(感光体)61が設けられている。有機EL装置Sは、光学系60を介して、感光ドラム61に対して光を照射する。有機EL装置Sの基板1から射出された光は、光学系60を通って感光ドラム61上に集光されるようになっている。有機EL装置Sの十分なコンパクト化が図られているため、感光ドラム61を小さくすることができる。特に、上述の第1実施形態のように、有機EL装置Sの幅D2を十分に小さくすることで、感光ドラム61の径を小さくすることができる。したがって、電子写真方式プリンタ全体のコンパクト化を実現することができる。
<電子機器>
次に、上記実施の形態の有機EL装置Sを備えた電子機器の例について説明する。
図10(A)は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図10(A)において、符号1000は携帯電話本体を示し、符号1001は上記の有機EL装置Sを用いた表示部を示している。
図10(B)は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図10(B)において、符号1100は時計本体を示し、符号1101は上記の有機EL装置Sを用いた表示部を示している。
図10(C)は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図10(C)において、符号1200は情報処理装置、符号1202はキーボードなどの入力部、符号1204は情報処理装置本体、符号1206は上記の有機EL装置Sを用いた表示部を示している。
図10(A)〜(C)に示す電子機器は、上記実施の形態の有機EL装置Sを備えているので、コンパクトで所望の性能を有する電子機器を提供することができる。
なお、本発明の技術範囲は、上記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
例えば、上記実施形態では、発光素子3の発光が基板1を介して外面側に射出される形式、所謂ボトム・エミッションの例を用いて説明したが、発光素子3の発光が基板1と逆側の陰極7側から第2封止部材20を介して射出される形式、所謂トップ・エミッションであっても適用可能である。この場合、第1封止部材10や第2封止部材20、陰極7としては、光の取り出しが可能な透明あるいは半透明材料が用いられる。
第1実施形態に係る有機EL装置を示す要部断面図である。 図1のA−A線断面矢視図である。 第1実施形態に係る有機EL装置の製造方法を説明するための図である。 第2実施形態に係る有機EL装置を示す要部断面図である。 第2実施形態に係る有機EL装置の製造方法を説明するための図である。 有機EL装置の製造方法の一例を説明するための図である。 第3実施形態に係る有機EL装置を示す要部断面図である。 図7のB−B線断面矢視図である。 有機EL装置を光書き込みヘッドに適用した例を説明するための図である。 有機EL装置を備えた電子機器の一例を示す図である。
符号の説明
1…基板、2…封止空間、3…発光素子、9…乾燥剤、10…第1封止部材、11…無機膜、12…接着層、13…保護部材(所定部材)、20…第2封止部材、30…駆動素子

Claims (11)

  1. 基板上に設けられた発光素子と、
    前記発光素子に接続され、前記発光素子を覆う第1封止部材と、
    前記第1封止部材との間に空間を形成しつつ前記基板に接続され、前記第1封止部材を覆う第2封止部材とを備えた有機エレクトロルミネッセンス装置。
  2. 前記第1封止部材は接着層を介して前記発光素子に接続する所定部材を含む請求項1記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
  3. 前記第1封止部材は無機膜を含む請求項1又は2記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
  4. 前記第1封止部材の厚さは0.5mm以下である請求項1〜3のいずれか一項記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
  5. 前記空間に設けられ、前記発光素子を駆動する駆動素子を有する請求項1〜4のいずれか一項記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
  6. 前記空間に設けられた乾燥剤を有する請求項1〜5のいずれか一項記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
  7. 前記第1封止部材と前記乾燥剤とは前記基板の面方向に関して互いに異なる位置に設けられている請求項6記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
  8. 請求項1〜請求項7のいずれか一項記載の有機エレクトロルミネッセンス装置を備えた電子機器。
  9. 請求項1〜請求項7のいずれか一項記載の有機エレクトロルミネッセンス装置を備え、感光体に対して光を照射する光書き込みヘッド。
  10. 基板上に発光素子を設ける第1工程と、
    前記発光素子を覆うように該発光素子に第1封止部材を接続する第2工程と、
    前記第1封止部材との間に空間を形成しつつ該第1封止部材を覆うように前記基板に第2封止部材を接続する第3工程とを含む有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
  11. 前記第2工程と前記第3工程との間に、前記基板に対して前記発光素子を駆動するための駆動素子を実装する工程を有する請求項10記載の製造方法。
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