JP2006235205A - 温度調整装置および温度調整方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】 外乱の影響を受けにくい温度調整方法および装置を提供する。
【解決手段】 チラー56から冷却部材52を環流する冷媒の供給管58に可変バルブ66を設け、冷媒の流量を制御装置(PID)64で制御する。また台部19に温度センサ62を設け、台部19の温度を検出し制御装置64へ入力する構成とすることで、チラー56における冷媒の温度制御(第一次温調)の変動によって冷却部材52の温度が変動すると、温度センサ62が台部19の温度変化として検出し、制御装置64へデータとして送る。制御装置64は入力された温度データから冷媒温度の変動を検出し、冷媒の温度が規定の値よりも低くなれば可変バルブ66を作動させ、冷媒の流量を制御することで、冷却部材52の温度が下がりすぎることを防ぎ台部19の温度を一定に保つ(第二次温調)。これにより光源部17の温度を一定に保つことができるので、光学性能を一定に維持することができる。
【選択図】 図2

Description

本発明は温度調整装置および温度調整方法に関し、特に露光装置の光源に用いられる温度調整装置および温度調整方法に関する。
従来より、光源から発せられた光によって感光材料面に露光を行い画像を書き込む露光装置が種々提案されている。
このような露光装置は、複数の光源装置を備えており、複数の光源装置から射出される光を所定のパターンに変調し、光学部品を介して感光材料面に露光することによって画像を書き込むものである(例えば特許文献1を参照)。
各光源装置に配置された光源はハロゲンランプ、LED、レーザダイオードなど様々なものが用いられるが、何れも駆動される際に発熱を伴う。上記の露光装置では、複数の光源装置を駆動させる際に、各光源装置に配置された光源の発熱により、各光源から射出される光量や分光強度分布などが変動してしまう恐れがあり、温度変化を抑制しなければ安定した露光は行えない。
このため、各光源が設置された部位にラジエータを設置し、ラジエータに冷媒を供給して光源を冷却する必要がある。例えば光源を搭載する台を冷媒配管されたラジエータに設置し、あるいは光源を直接ラジエータに設置し、光源を冷却するなどの方法が考えられる。理想的には光源そのものを温度調節することが望ましいが、光源を直接温度調節することは難しいため、より光源の近傍において温度を調節することで、光量や分光強度分布などの光源の特性を一定に保持するのが実際である。
しかし、現状の冷却系においては冷媒供給元における冷媒の温度は一定範囲内に制御されてはいるが、光源部位では成り行き条件で冷媒の温度が変動する可能性がある。例えば図8に示すようにチラーの冷却能力自体が変動し、冷媒の温度が変動することが考えられるので、これに従って冷却箇所の温度も変動してしまう。
あるいは、冷媒供給元自身の温度変動以外にも冷媒がラジエータの冷却部に到達するまでの履歴による温度変動、ラジエータの周囲環境、ラジエータ冷却部から光源への熱伝導率のばらつき、光源部あるいは光源ユニットにおける発熱量の変動などの諸条件によって光源温度は変動してしまう。
また、複数のラジエータを使用している場合は図9に示すようにラジエータ間の能力差も存在するため、冷却箇所によって更に温度のばらつきが発生する。
特開2002−351086号公報
本発明は上記事実を考慮し、外乱の影響を受けにくく安定した温度制御が行える温度調整装置および温度調整方法を提供することを目的とする。
請求項1に記載の温度調整装置は、冷却を要する発熱部位の温度を調整する温度調整装置であって、冷媒流路に冷媒を環流して前記発熱部位を冷却する冷却手段と、前記冷却手段への冷媒流路に設けられた流量調節手段と、前記発熱部位または前記冷却手段に設けられた温度検出手段と、を備え、前記温度検出手段によって検出された温度に応じて前記流量調節手段により前記冷却手段を通過する前記冷媒の流量を調節する制御装置を備えたことを特徴とする。
上記構成の発明では、温度検出手段によって検出された冷媒の温度に応じて流量調節手段により冷却手段を通過する冷媒の流量を調節することで、冷媒の温度制御では補正しきれない温度変動を補正し、冷却手段の温度を一定に保つことができる。
請求項2に記載の温度調整装置は、冷却を要する発熱部位の温度を調整する温度調整装置であって、冷媒流路に冷媒を環流して前記発熱部位を冷却する冷却手段と、前記冷却手段より上流側の前記冷媒流路に設けられた加熱手段と、前記発熱部位または前記冷却手段に設けられた温度検出手段と、を備え、前記温度検出手段によって検出された温度に応じて前記加熱手段により前記冷却手段を通過する前記冷媒の温度を調節する制御装置を備えたことを特徴とする。
上記構成の発明では、温度検出手段によって検出された冷媒の温度に応じて加熱手段により冷却手段を通過する冷媒の温度を調節することで、冷媒の温度制御では補正しきれない温度変動を補正し、冷却手段の温度を一定に保つことができる。
請求項3に記載の温度調整装置は、冷却を要する発熱部位の温度を調整する温度調整装置であって、冷媒流路に冷媒を環流して前記発熱部位を冷却する冷却手段と、前記冷却手段への冷媒流路に設けられた流量調節手段と、前記冷却手段より上流側の前記冷媒流路に設けられた加熱手段と、前記発熱部位または前記冷却手段に設けられた温度検出手段と、を備え、前記温度検出手段によって検出された温度に応じて前記流量調節手段により前記冷却手段を通過する前記冷媒の流量と温度の一方または両方を調節することを特徴とする。
上記構成の発明では、温度検出手段によって検出された冷媒の温度に応じて流量調節手段と加熱手段とにより冷却手段を通過する冷媒の流量と温度を調節することで、冷媒の温度制御では補正しきれない温度変動を補正し、冷却手段の温度を一定に保つことができる。
請求項4に記載の温度調整装置は、冷却を要する発熱部位の温度を調整する温度調整装置であって、前記発熱部位を載置する台と冷媒流路に冷媒を環流して前記発熱部位を冷却する冷却手段と、前記台または前記冷却手段に設けられた温度検出手段と、前記台または前記冷却手段または前記台と冷却手段の間に設けられた加熱手段と、を備え、前記温度検出手段によって検出された温度に応じて前記加熱手段により前記台または前記冷却手段の温度を調節する制御装置を備えたことを特徴とする。
上記構成の発明では、温度検出手段によって検出された冷媒の温度に応じて加熱手段により冷却手段の温度を調節することで、冷媒の温度制御では補正しきれない温度変動を補正し、冷却手段の温度を一定に保つことができる。
請求項5に記載の温度調整装置は、冷却を要する発熱部位の温度を調整する温度調整装置であって、前記発熱部位を載置する台と冷媒流路に冷媒を環流して前記発熱部位を冷却する冷却手段と、前記台または前記冷却手段に設けられた温度検出手段と、前記台または前記冷却手段または前記台と冷却手段の間に設けられた第1加熱手段と、前記冷却手段への冷媒流路に設けられた流量調節手段と、前記冷却手段より上流側の前記冷媒流路に設けられた第2加熱手段と、を備え、前記温度検出手段によって検出された温度に応じて前記流量調節手段により前記冷却手段を通過する前記冷媒の流量と温度の一方または両方を調節し、前記加熱手段により前記台または前記冷却手段の温度を調節する制御装置を備えたことを特徴とする。
上記構成の発明では、温度検出手段によって検出された冷媒の温度に応じて冷媒流路に設けられた流量調節手段と第2加熱手段と、さらに冷却部材に設けられた第1加熱手段とにより冷却手段を通過する冷媒の流量と温度を調節することで、冷媒の温度制御では補正しきれない温度変動を補正し、冷却手段の温度を一定に保つことができる。
請求項6に記載の温度調整装置は、前記発熱部位が露光用光源であることを特徴とする。
上記構成の発明では、冷媒の温度制御では補正しきれない温度変動を補正し、冷却手段の温度を一定に保つことができるので、露光用光源温度を一定に保つことができる。
請求項7に記載の温度調整装置は、前記露光用光源がレーザダイオードであることを特徴とする。
上記構成の発明では、冷媒の温度制御では補正しきれない温度変動を補正し、冷却手段の温度を一定に保つことができるので、温度変動に影響されやすいレーザダイオードの温度を一定に保つことができる。
請求項8に記載の温度調整方法は、冷却を要する発熱部位の温度を調整する温度調整方法であって、冷媒流路に冷媒を環流して前記発熱部位を冷却する冷却手段と、前記冷却手段への冷媒流路に設けられた流量調節手段と、前記発熱部位または前記冷却手段に設けられた温度検出手段と、を用い、前記温度検出手段によって検出された温度に応じて前記流量調節手段により前記冷却手段を通過する前記冷媒の流量を調節する制御を行うことを特徴とする。
上記構成の発明では、温度検出手段によって検出された冷媒の温度に応じて流量調節手段により冷却手段を通過する冷媒の流量を調節することで、冷媒の温度制御では補正しきれない温度変動を補正し、冷却手段の温度を一定に保つことができる。
請求項9に記載の温度調整方法は、冷却を要する発熱部位の温度を調整する温度調整方法であって、冷媒流路に冷媒を環流して前記発熱部位を冷却する冷却手段と、前記冷却手段より上流側の前記冷媒流路に設けられた加熱手段と、前記発熱部位または前記冷却手段に設けられた温度検出手段と、を用い、前記温度検出手段によって検出された温度に応じて前記加熱手段により前記冷却手段を通過する前記冷媒の温度を調節する制御を行うことを特徴とする
上記構成の発明では、温度検出手段によって検出された冷媒の温度に応じて加熱手段により冷却手段を通過する冷媒の温度を調節することで、冷媒の温度制御では補正しきれない温度変動を補正し、冷却手段の温度を一定に保つことができる。
請求項10に記載の温度調整方法は、冷却を要する発熱部位の温度を調整する温度調整方法であって、冷媒流路に冷媒を環流して前記発熱部位を冷却する冷却手段と、前記冷却手段への冷媒流路に設けられた流量調節手段と、前記冷却手段より上流側の前記冷媒流路に設けられた加熱手段と、前記発熱部位または前記冷却手段に設けられた温度検出手段と、を用い、前記温度検出手段によって検出された温度に応じて前記流量調節手段により前記冷却手段を通過する前記冷媒の流量と温度の一方または両方を調節することを特徴とする。
上記構成の発明では、温度検出手段によって検出された冷媒の温度に応じて流量調節手段と加熱手段とにより冷却手段を通過する冷媒の流量と温度を調節することで、冷媒の温度制御では補正しきれない温度変動を補正し、冷却手段の温度を一定に保つことができる。
請求項11に記載の温度調整方法は、冷却を要する発熱部位の温度を調整する温度調整方法であって、前記発熱部位を載置する台と冷媒流路に冷媒を環流して前記発熱部位を冷却する冷却手段と、前記台または前記冷却手段に設けられた温度検出手段と、前記台または前記冷却手段または前記台と冷却手段の間に設けられた加熱手段と、を用い、前記温度検出手段によって検出された温度に応じて前記加熱手段により前記台または前記冷却手段の温度を調節する制御を行うことを特徴とする。
上記構成の発明では、温度検出手段によって検出された冷媒の温度に応じて加熱手段により冷却手段の温度を調節することで、冷媒の温度制御では補正しきれない温度変動を補正し、冷却手段の温度を一定に保つことができる。
請求項12に記載の温度調整方法は、冷却を要する発熱部位の温度を調整する温度調整方法であって、前記発熱部位を載置する台と冷媒流路に冷媒を環流して前記発熱部位を冷却する冷却手段と、前記台または前記冷却手段に設けられた温度検出手段と、前記台または前記冷却手段または前記台と冷却手段の間に設けられた第1加熱手段と、前記冷却手段への冷媒流路に設けられた流量調節手段と、前記冷却手段より上流側の前記冷媒流路に設けられた第2加熱手段と、を用い、前記温度検出手段によって検出された温度に応じて前記流量調節手段により前記冷却手段を通過する前記冷媒の流量と温度の一方または両方を調節し、前記加熱手段により前記台または前記冷却手段の温度を調節する制御を行うことを特徴とする。
上記構成の発明では、温度検出手段によって検出された冷媒の温度に応じて冷媒流路に設けられた流量調節手段と第2加熱手段と、さらに冷却部材に設けられた第1加熱手段とにより冷却手段を通過する冷媒の流量と温度を調節することで、冷媒の温度制御では補正しきれない温度変動を補正し、冷却手段の温度を一定に保つことができる。
請求項13に記載の温度調整方法は、前記発熱部位が露光用光源であることを特徴とする。
上記構成の発明では、冷媒の温度制御では補正しきれない温度変動を補正し、冷却手段の温度を一定に保つことができるので、露光用光源温度を一定に保つことができる。
請求項14に記載の温度調整方法は、前記露光用光源がレーザダイオードであることを特徴とする。
上記構成の発明では、冷媒の温度制御では補正しきれない温度変動を補正し、冷却手段の温度を一定に保つことができるので、温度変動に影響されやすいレーザダイオードの温度を一定に保つことができる。
本発明は上記構成としたので、外乱の影響を受けにくく安定した温度制御が行える温度調整装置および温度調整方法を提供することができた。
以下、本発明に係る冷却装置の実施形態を図面に基づいて説明する。
<装置の概要>
図1には第1実施形態に係る光源用冷却装置50が搭載された露光描画装置10が示されている。
この露光描画装置10は、いわゆるフラットベッド型の面露光方式のマルチビーム露光装置に構成したものであり、基台11上の4本の脚部材12Aに支持されたプレート基体12と、このプレート基体12上に設けられた図中Yで示す送り方向(走査方向)に移動操作可能に装着された移動台座15と、この移動台座15上に設置され、例えばプリント基板(PCB)、カラーの液晶ディスプレイ(LCD)やプラズマ・ディスプレイ・パネル(PDP)といったガラス基板の表面に感光材料を形成したもの等である感光材料21を載置固定すると共に、図中Zで示す高さ方向の位置調整を行う移動ステージ14と、一方向に延在したマルチビームをレーザ光として射出する光源ユニット16と、このマルチビームを、所望の画像データに基づきマルチビームの位置に応じて空間変調し、マルチビームの波長領域に感度を有する感光材料に、この変調されたマルチビームを露光ビームとして照射する露光ヘッドユニット18と、移動ステージ14の移動に伴って露光ヘッドユニット18の各露光ヘッド26にそれぞれ供給する変調信号を画像データから生成する制御ユニット20とを主に有して構成される。
この露光描画装置10には、移動ステージ14の上方に感光材料を露光するための露光ヘッドユニット18が配置されており、この露光ヘッドユニット18内に設置された各露光ヘッド26には、光源ユニット16からそれぞれ引き出されたバンドル状光ファイバ28が接続される。
この露光描画装置10には、プレート基体12を跨ぐように門型フレーム22が設けられ、その両面にそれぞれ一対の位置検出センサ24が取り付けられる。この位置検出センサ24は、移動ステージ14の通過を検知したときの検出信号を制御ユニット20に供給する。
この露光描画装置10では、プレート基体12の上面に、ステージ移動方向に沿って延びた2本のガイド30が設置される。この2本のガイド30上には、スライダ31を介して移動台座15が往復移動可能に装着される。
この露光描画装置10では、固定された露光ヘッドユニット18に対して、移動台座15上に移動ステージ14を介して載置された被露光材料である感光材料(基板)21を送り方向へ移動しながら、感光材料面に走査露光する。
また、移動台座15上には、図示しないガイドレールを介して摺動操作板部材38が配置され、リニア駆動機構40によって、走査方向(移動ステージ14の移動方向である矢印Y方向)に直交する方向(矢印X方向)に精密に移動調整される。摺動操作板部材38上には、走査方向(移動ステージ14の移動方向である矢印Y方向)に直交する方向(矢印X方向)に沿って、一対の楔形部材44を平行に配置する。一対の楔形部材44上には、三角形状の支持ブロック48が配置され、支持ブロック48の上側に設置される移動ステージ14が移動台座15と平行に支受されるように構成される。各支持ブロック48は、楔形部材44上を重力で滑り落ちないように図示しない支持部材によって支持される。そして、
制御ユニット20によってリニア駆動機構40を駆動制御して、摺動操作板部材38と一体の各楔形部材44を走査方向(移動ステージ14の移動方向である矢印Y方向)に直交する方向(矢印X方向)に精密に移動することで、各支持ブロック48の露光面高さ(矢印Z方向)を調整するように構成されている。
また、光源ユニット16には、4つの光源装置16A〜16Dが、上下方向にほぼ平行に2つずつ配置されている。図3に示すように、光源装置16Bには、複数のLDチップを有する多数のレーザモジュール112が配列された光源部17Bと、各レーザモジュール112に接続され、各レーザモジュール112から射出されたレーザ光を導光して射出するマルチモード光ファイバ113と、多数のマルチモード光ファイバ113が接続され、多数のマルチモード光ファイバから射出されたレーザ光を集束して射出するコネクタ部114と、各レーザモジュール112を駆動制御する駆動制御部115と、各レーザモジュール112と各駆動制御部115とを接続する配線116とを備えている。また、レーザモジュール112は、レーザ光の射出方向を同一にして2列の光源列112a,112bに分けられて配置されている。そして、光源列112a,112bはレーザ光の射出方向に対して前後に位置するように配置されている。また、コネクタ部114においてマルチモード光ファイバ113がバンドルされてバンドル状光ファイバ28が形成されている。バンドル状光ファイバ28はコネクタ部114から外部に取り出され、このバンドル状光ファイバ28から、多数のマルチモード光ファイバ113から射出されたレーザ光を集束した集束光が射出される。
このような露光描画装置10では、図1に示すように、光源ユニット16は、レーザ光をバンドル状光ファイバ28から射出する。また、露光パターンに応じた画像データが制御ユニット20に入力され、制御ユニット20内のメモリに一旦記憶される。
感光材料21を表面に吸着した移動ステージ14は、露光面位置が露光ヘッドユニット18に対して所定高さ(所定間隔)となるように昇降動作されて調整される。また移動ステージ14は、図示しない駆動装置により、ガイド30に沿って搬送方向上流側から下流側に一定速度で移動される。移動ステージ14が門型フレーム22の下を通過する際に、門型フレーム22に取り付けられた位置検出センサ24により感光材料21の先端が検出されると、メモリに記憶された画像データが複数ライン分ずつ順次読み出され、制御ユニット20によって制御信号(制御データ)が各露光ヘッド26毎に生成される。
そして、この生成された制御信号に基づいて各露光ヘッド26毎に空間光変調素子(図示せず)のマイクロミラーの各々がオンオフ制御される。光源ユニット16から空間光変調素子にレーザ光が照射されると、マイクロミラーがオン状態のときに反射されたレーザ光は、所要の露光ビームスポット位置に結像される。このようにして光源ユニット16から出射されたレーザ光が画素毎にオンオフされて、感光材料21が露光処理される。
また、感光材料21は、移動ステージ14と共に一定速度で移動され、露光ヘッドユニット18により走査され、各露光ヘッド26毎に帯状の露光済み領域が形成される。露光ヘッドユニット18による感光材料21の走査が終了し、位置検出センサ24で感光材料21の後端が検出されると、移動ステージ14は、図示しない駆動装置により、ガイド30に沿って搬送方向最上流側にある原点に復帰し、再度、ガイド30に沿って搬送方向上流側から下流側に一定速度で移動される。
<冷却装置の概要>
次に、上記露光描画装置10の光源ユニット16に搭載された光源用冷却装置50について説明する。
図2には本発明の第1実施形態に係る冷却装置が示されている。
図2に示すように光源装置16A〜16Dは、レーザモジュールなどの光源が配列された光源部17を備えており、光源部17A〜17Dは台部19に固定され、台部19の下部には、それぞれ板状の冷却部材(ラジエータ)52が配設されている。あるいは台部19を設けず、光源部17を冷却部材52に直接設けてもよい。
光源用冷却装置50は、冷媒を所定の温度に冷却するとともに循環供給するチラー56を備えている。チラー56には、冷媒を流す1本の供給管58が連結され、この供給管58は、冷却部材(ラジエータ)52の内部を貫通し、冷媒を流しながら熱交換を行うことで冷却部材52を冷却する。
冷却部材52は供給管58を環流する冷媒によって冷却され、光源部17を冷却する。このとき、図8に示すようにチラー56における冷媒の温度制御が行われている(第一次温調)が、チラー56における温度制御は完全ではなく、冷媒温度は図8のように変動する。また冷却部材52ごとの冷却能力もまた同一ではなく、図9のように冷却部材52の間においても温度差が存在する。
このため冷却部材52の冷却能力もまた変動し、結果として光源部17の温度もまた変動してしまう。光源部17を冷却することは熱による破損を防ぐことに加え、光源部17の温度を一定に保ち光学性能を安定させる意味がある。
すなわち光源部17にレーザダイオードなどを光源として用いた場合、レーザダイオードから射出されるレーザ光の波長は温度依存性があり、光源部17の温度が変動すれば射出されるレーザ光の波長も変動してしまうため、安定した光学性能が発揮できなくなる。レーザダイオード以外にも白熱灯やハロゲンランプにおいても温度による影響があり、光学性能を安定させるためには光源部17の安定した温度制御は不可欠なものとなる。
本願発明では図4のようにチラー56における冷媒の温度変動T1を補正し、あるいは図5に示すような冷却部材52間の冷却能力格差を解消し、冷却部材52において安定した温度T2を維持することを目的としている。
すなわち本実施形態においては図2に示すようにチラー56から冷却部材52を環流する冷媒の供給管58に可変バルブ66を設け、冷媒の流量を制御装置(PID)64で制御する。また台部19に温度センサ62を設け、台部19の温度を検出し制御装置64へ入力する構成となっている。
上記の構成とすることで、チラー56における冷媒の温度制御(第一次温調)の変動によって冷却部材52の温度が図4のT1のように変動すると、温度センサ62が台部19の温度変化として検出し、制御装置64へデータとして送る。
制御装置64は入力された温度データから冷媒温度の変動を検出し、冷媒の温度が規定の値よりも低くなれば可変バルブ66を作動させ、冷媒の流量を制御する(この場合は減少させる)ことで、冷却部材52の温度が下がりすぎることを防ぎ台部19の温度を一定に保つ(第二次温調)。これにより光源部17の温度を一定に保つことができるので、光学性能を一定に維持することができる。
あるいは台部19と冷却部材52の間にヒータ70を設けてもよい。このヒータ70は制御装置64にてON/OFF制御(あるいはインバータ制御)され、冷却部材52の温度が下がりすぎることを温度センサ62が検知すれば制御装置64がヒータ70を駆動することで台部19あるいは冷却部材52を加熱し、図4に矢印で示すように冷却部材52の温度が下がりすぎることを防ぎ、台部19の温度を一定に保つ(第二次温調)。
これにより光源部17の温度を一定に保つことができるので、光学性能を一定に維持することができる。
あるいは上記ヒータ70を台部19の中や冷却部材52の中に設けてもよく、可変バルブ66とヒータ70を併用しても単独で使用しても、あるいは場合に応じて使い分けてもよい。
また複数の冷却部材52を使用している場合、チラー56からの距離や装置内部の位置、光源部17の配置などによって図5に示すように冷却部材52ごとの冷却能力に格差が生じる。
この格差はチラー56側の冷媒温度制御(第一次温調)では解消することができない。このため例えば2基のチラー56であるR1とR2の冷却能力格差を、例えば制御装置64がR2側に設けた可変バルブ66を作動させることで、冷媒の流量を制御する(この場合は減少させる)。これにより、図5に矢印で示すようにR2の温度低下をR1と同様に制御する(第二次温調)。
これにより複数の冷却部材52間の冷却能力格差を解消し、複数の光源部17の温度を一様に保つことができるので、光学性能を一定に維持することができる。
図3には本発明の第2実施形態に係る冷却装置が示されている。
図3に示すように光源用冷却装置50は、冷媒を所定の温度に冷却するとともに循環供給するチラー56を備えている。チラー56には、冷媒を流す1本の供給管58が連結され、この供給管58は、冷却部材(ラジエータ)52の内部を貫通し、冷媒を流しながら熱交換を行うことで冷却部材52を冷却する点は第1実施形態と同様である。図3のように台部19を設けず、光源部17を冷却部材52に直接設けてもよい。
本実施形態においては図3に示すようにチラー56から冷却部材52を環流する冷媒の供給管58にヒータ68を設け、冷媒の温度を制御装置(PID)64で制御する。また冷却部材52に温度センサ62を設け、台部19の温度を検出し制御装置64へ入力する構成となっている。
上記の構成とすることで、チラー56における冷媒の温度制御(第一次温調)の変動によって冷却部材52の温度が図4のT1のように変動すると、温度センサ62が冷却部材52の温度変化として検出し、制御装置64へデータとして送る。
制御装置64は入力された温度データから冷媒温度の変動を検出し、冷媒の温度が規定の値よりも低くなればヒータ68を駆動し、冷媒を加熱して温度制御することで、冷却部材52の温度が下がりすぎることを防ぎ冷却部材52の温度を一定に保つ(第二次温調)。これにより光源部17の温度を一定に保つことができるので、光学性能を一定に維持することができる。
また冷却部材52にヒータ70を設けてもよい。このヒータ70は制御装置64にてON/OFF制御(あるいはインバータ制御)され、冷却部材52の温度が下がりすぎることを温度センサ62が検知すれば制御装置64がヒータ70を駆動することで冷却部材52を加熱し、冷却部材52の温度が下がりすぎることを防ぎ温度を一定に保つ(第二次温調)。これにより光源部17の温度を一定に保つことができるので、光学性能を一定に維持することができる。
あるいはヒータ68とヒータ70とを併用しても単独で使用しても、あるいは場合に応じて使い分けてもよい。
また第1実施形態と同様、図5に示すような複数の冷却部材52間の冷却能力格差を解消し、複数の光源部17の温度を一様に保つことができるので、光学性能を一定に維持することができる。
図6には本発明の第3実施形態に係る冷却装置が示されている。
図6に示すように、冷却部材52には冷媒を循環供給する供給管58が連結され、この供給管58は、冷却部材52の内部を貫通し、冷媒を流しながら熱交換を行うことで冷却部材52を冷却する点は第1実施形態と同様である。図2のように台部19を設け、光源部17を台部19に設けてもよい。
本実施形態においては図6に示すように冷却部材52上に、複数に分割されたヒータ70と、分割された各領域ごとに温度センサ62を設け、冷却部材52の温度を検出して図示しない制御装置64へ入力し、冷却部材52の温度に応じてヒータ70のON/OFFを制御装置(PID)64で制御する構成となっている。
上記の構成とすることで、チラー56における冷媒の温度制御(第一次温調)の変動によって冷却部材52の温度が図4のT1のように変動し、また冷却部材52内の場所によって異なる(上流側は低温、下流側は高温etc)温度となるとき、温度センサ62が冷却部材52の各部分における温度変化として検出し、制御装置64へ温度分布データとして送る。
制御装置64は入力された温度分布データから冷却部材52の場所毎の温度の変動を検出し、温度が規定の値よりも低い箇所があれば当該箇所のヒータ70を駆動し、加熱して温度制御することで、冷却部材52の温度が下がりすぎることを防ぎ冷却部材52の温度を一定に保つ(第二次温調)。これにより光源部17の温度を一定に保つことができるので、光学性能を一定に維持することができる。
また供給管58にヒータ68を設けてもよい。このヒータ68は制御装置64にてON/OFF制御(あるいはインバータ制御)され、冷媒の温度が下がりすぎたことを温度センサ62が検知すれば制御装置64がヒータ68を駆動することで冷媒を加熱し、冷却部材52の温度が下がりすぎることを防ぎ温度を一定に保つ(第二次温調)。これによりヒータ70の加熱と併せて光源部17の温度を一定に保つことができるので、光学性能を一定に維持することができる。
さらに供給管58に可変バルブ66を設けてもよい。制御装置64が入力された温度データから冷媒温度の変動を検出し、冷媒の温度が規定の値よりも低くなれば可変バルブ66を作動させ、冷媒の流量を制御する(この場合は減少させる)ことで、冷却部材52の温度が下がりすぎることを防ぎ台部19の温度を一定に保つ(第二次温調)。これによりこれによりヒータ70の加熱と併せて光源部17の温度を一定に保つことができるので、光学性能を一定に維持することができる。
図7には本発明の第4実施形態に係る冷却装置が示されている。
図7に示すように、冷却部材52には冷媒を循環供給する供給管58が連結され、この供給管58は、冷却部材52の内部を貫通し、冷媒を流しながら熱交換を行うことで冷却部材52を冷却する点は第1実施形態と同様である。また図2のように台部19を設け、光源部17を台部19に設けてもよい。
本実施形態においては図7に示すように冷却部材52を複数の領域に分割し、供給管58を分岐させ各領域ごとに通し、かつ分岐した供給管58にはそれぞれ可変バルブ66が設けられている。
また本実施形態では分割された各領域ごとに温度センサ62を設け、冷却部材52の温度を検出して図示しない制御装置64へ入力し、冷却部材52の温度に応じてヒータ70のON/OFF制御(あるいはインバータ制御)を制御装置(PID)64で行う構成となっている。
上記の構成とすることで、チラー56における冷媒の温度制御(第一次温調)の変動によって冷却部材52の温度が図4のT1のように変動し、また冷却部材52内の各領域によって異なる温度となるとき、温度センサ62が冷却部材52の各領域における温度変化として検出し、制御装置64へ温度分布データとして送る。
制御装置64は入力された温度分布データから冷却部材52の各領域毎の温度の変動を検出し、温度が規定の値よりも低い箇所があれば当該領域に冷媒を環流させる供給管58に設けられた可変バルブ66を駆動し、冷媒の流量を調節することで、冷却部材52の温度が下がりすぎることを防ぎ冷却部材52の温度を一定に保つ(第二次温調)。これにより光源部17の温度を一定に保つことができるので、光学性能を一定に維持することができる。
また分岐した供給管58にヒータ68を設けてもよい。このヒータ68は制御装置64にてON/OFF制御(あるいはインバータ制御)され、冷媒の温度が下がりすぎたことを温度センサ62が検知すれば制御装置64がヒータ68を駆動することで冷媒を加熱し、冷却部材52の温度が下がりすぎることを防ぎ温度を一定に保つ(第二次温調)。これにより可変バルブ66と併せて光源部17の温度を一定に保つことができるので、光学性能を一定に維持することができる。
あるいは冷却部材52にヒータ70を設けてもよい。このヒータ70は制御装置64にてON/OFF制御(あるいはインバータ制御)され、冷却部材52の温度が下がりすぎたことを温度センサ62が検知すれば制御装置64がヒータ70を駆動することで冷却部材52を加熱し、冷却部材52の温度が下がりすぎることを防ぎ温度を一定に保つ(第二次温調)。これにより可変バルブ66による冷媒の流量調節と併せて光源部17の温度を一定に保つことができるので、光学性能を一定に維持することができる。
なお、上記各実施形態では、冷却部材によって複数の光源部17を冷却したが、この構成に限定するものではなく、複数の発熱部材を冷却する冷却装置として用いてもよい。発熱部材としては、例えば、制御基板やモータなどが挙げられる。これにより、複数の発熱部材をほぼ均一かつ均等に冷却することができる。
本発明に係る露光装置を示す斜視図である。 本発明の第1形態に係る光源ユニットを示す図である。 本発明の第2形態に係る光源ユニットを示す図である。 本発明に係る冷媒温度の変動を示す図である。 本発明に係る冷却ユニット間の能力差補正を示す図である。 本発明の第3形態に係る光源ユニットを示す図である。 本発明の第4形態に係る光源ユニットを示す図である。 従来の冷媒温度の変動を示す図である。 従来の冷却ユニット間の能力差を示す図である。
符号の説明
10 露光描画装置
16 光源ユニット
17 光源部
18 露光ヘッドユニット
19 台部
50 光源用冷却装置(冷却装置)
52 冷却部材
54 パイプ
56 チラー(冷媒供給手段)
58 供給管
62 温度センサ
66 可変バルブ
68 ヒータ
70 ヒータ

Claims (14)

  1. 冷却を要する発熱部位の温度を調整する温度調整装置であって、
    冷媒流路に冷媒を環流して前記発熱部位を冷却する冷却手段と、
    前記冷却手段への冷媒流路に設けられた流量調節手段と、
    前記発熱部位または前記冷却手段に設けられた温度検出手段と、
    を備え、
    前記温度検出手段によって検出された温度に応じて前記流量調節手段により前記冷却手段を通過する前記冷媒の流量を調節する制御装置を備えたことを特徴とする温度調整装置。
  2. 冷却を要する発熱部位の温度を調整する温度調整装置であって、
    冷媒流路に冷媒を環流して前記発熱部位を冷却する冷却手段と、
    前記冷却手段より上流側の前記冷媒流路に設けられた加熱手段と、
    前記発熱部位または前記冷却手段に設けられた温度検出手段と、
    を備え、
    前記温度検出手段によって検出された温度に応じて前記加熱手段により前記冷却手段を通過する前記冷媒の温度を調節する制御装置を備えたことを特徴とする温度調整装置。
  3. 冷却を要する発熱部位の温度を調整する温度調整装置であって、
    冷媒流路に冷媒を環流して前記発熱部位を冷却する冷却手段と、
    前記冷却手段への冷媒流路に設けられた流量調節手段と、
    前記冷却手段より上流側の前記冷媒流路に設けられた加熱手段と、
    前記発熱部位または前記冷却手段に設けられた温度検出手段と、
    を備え、
    前記温度検出手段によって検出された温度に応じて前記流量調節手段により前記冷却手段を通過する前記冷媒の流量と温度の一方または両方を調節することを特徴とする温度調整装置。
  4. 冷却を要する発熱部位の温度を調整する温度調整装置であって、
    前記発熱部位を載置する台と
    冷媒流路に冷媒を環流して前記発熱部位を冷却する冷却手段と、
    前記台または前記冷却手段に設けられた温度検出手段と、
    前記台または前記冷却手段または前記台と冷却手段の間に設けられた加熱手段と、
    を備え、
    前記温度検出手段によって検出された温度に応じて前記加熱手段により前記台または前記冷却手段の温度を調節する制御装置を備えたことを特徴とする温度調整装置。
  5. 冷却を要する発熱部位の温度を調整する温度調整装置であって、
    前記発熱部位を載置する台と
    冷媒流路に冷媒を環流して前記発熱部位を冷却する冷却手段と、
    前記台または前記冷却手段に設けられた温度検出手段と、
    前記台または前記冷却手段または前記台と冷却手段の間に設けられた第1加熱手段と、
    前記冷却手段への冷媒流路に設けられた流量調節手段と、
    前記冷却手段より上流側の前記冷媒流路に設けられた第2加熱手段と、
    を備え、
    前記温度検出手段によって検出された温度に応じて
    前記流量調節手段により前記冷却手段を通過する前記冷媒の流量と温度の一方または両方を調節し、
    前記加熱手段により前記台または前記冷却手段の温度を調節する制御装置を備えたことを特徴とする温度調整装置。
  6. 前記発熱部位が露光用光源であることを特徴とする請求項1乃至請求項5の何れかに記載の温度調整装置。
  7. 前記露光用光源がレーザダイオードであることを特徴とする請求項6に記載の温度調整装置。
  8. 冷却を要する発熱部位の温度を調整する温度調整方法であって、
    冷媒流路に冷媒を環流して前記発熱部位を冷却する冷却手段と、
    前記冷却手段への冷媒流路に設けられた流量調節手段と、
    前記発熱部位または前記冷却手段に設けられた温度検出手段と、
    を用い、
    前記温度検出手段によって検出された温度に応じて前記流量調節手段により前記冷却手段を通過する前記冷媒の流量を調節する制御を行うことを特徴とする温度調整方法。
  9. 冷却を要する発熱部位の温度を調整する温度調整方法であって、
    冷媒流路に冷媒を環流して前記発熱部位を冷却する冷却手段と、
    前記冷却手段より上流側の前記冷媒流路に設けられた加熱手段と、
    前記発熱部位または前記冷却手段に設けられた温度検出手段と、
    を用い、
    前記温度検出手段によって検出された温度に応じて前記加熱手段により前記冷却手段を通過する前記冷媒の温度を調節する制御を行うことを特徴とする温度調整方法。
  10. 冷却を要する発熱部位の温度を調整する温度調整方法であって、
    冷媒流路に冷媒を環流して前記発熱部位を冷却する冷却手段と、
    前記冷却手段への冷媒流路に設けられた流量調節手段と、
    前記冷却手段より上流側の前記冷媒流路に設けられた加熱手段と、
    前記発熱部位または前記冷却手段に設けられた温度検出手段と、
    を用い、
    前記温度検出手段によって検出された温度に応じて前記流量調節手段により前記冷却手段を通過する前記冷媒の流量と温度の一方または両方を調節することを特徴とする温度調整方法。
  11. 冷却を要する発熱部位の温度を調整する温度調整方法であって、
    前記発熱部位を載置する台と
    冷媒流路に冷媒を環流して前記発熱部位を冷却する冷却手段と、
    前記台または前記冷却手段に設けられた温度検出手段と、
    前記台または前記冷却手段または前記台と冷却手段の間に設けられた加熱手段と、
    を用い、
    前記温度検出手段によって検出された温度に応じて前記加熱手段により前記台または前記冷却手段の温度を調節する制御を行うことを特徴とする温度調整方法。
  12. 冷却を要する発熱部位の温度を調整する温度調整方法であって、
    前記発熱部位を載置する台と
    冷媒流路に冷媒を環流して前記発熱部位を冷却する冷却手段と、
    前記台または前記冷却手段に設けられた温度検出手段と、
    前記台または前記冷却手段または前記台と冷却手段の間に設けられた第1加熱手段と、
    前記冷却手段への冷媒流路に設けられた流量調節手段と、
    前記冷却手段より上流側の前記冷媒流路に設けられた第2加熱手段と、
    を用い、
    前記温度検出手段によって検出された温度に応じて
    前記流量調節手段により前記冷却手段を通過する前記冷媒の流量と温度の一方または両方を調節し、
    前記加熱手段により前記台または前記冷却手段の温度を調節する制御を行うことを特徴とする温度調整方法。
  13. 前記発熱部位が露光用光源であることを特徴とする請求項8乃至請求項12の何れかに記載の温度調整方法。
  14. 前記露光用光源がレーザダイオードであることを特徴とする請求項13に記載の温度調整方法。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010258168A (ja) * 2009-04-23 2010-11-11 Canon Inc デバイス製造装置およびデバイス製造方法
JP2011237702A (ja) * 2010-05-13 2011-11-24 Hitachi High-Technologies Corp 液晶露光装置
KR101287971B1 (ko) 2011-09-28 2013-07-18 국방과학연구소 외부환경의 영향이 적은 냉각장치, 이를 구비하는 비행체 및 냉각방법
KR20130102007A (ko) * 2012-03-06 2013-09-16 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 보조 노광 장치
KR20160059660A (ko) * 2014-11-19 2016-05-27 양태허 부착식 등온장치 및 열전달 유체를 가진 온도제어 시스템 및 응용장치

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01155673A (ja) * 1987-12-14 1989-06-19 Canon Inc レーザー波長制御装置及びそれを用いた露光装置
JPH05182635A (ja) * 1991-12-27 1993-07-23 Toshiba Lighting & Technol Corp 紫外線照射装置
JPH0750237A (ja) * 1993-08-05 1995-02-21 Fujitsu Ltd 紫外線露光装置
JPH07302747A (ja) * 1994-05-02 1995-11-14 Canon Inc 駆動装置
JPH09172001A (ja) * 1995-12-15 1997-06-30 Sony Corp 半導体製造装置の温度制御方法および装置
JPH1064985A (ja) * 1996-08-23 1998-03-06 Sony Corp ウエハステージ、ウエハの温度調整方法及びドライエッチング装置
JP2001250765A (ja) * 2000-03-07 2001-09-14 Nikon Corp 露光装置及び光源装置
WO2003079418A1 (fr) * 2002-03-15 2003-09-25 Nikon Corporation Aligneur et procede de fabrication de dispositif
JP2005043300A (ja) * 2003-07-25 2005-02-17 Nikon Corp レーザ測長システム及び露光装置
JP2005040998A (ja) * 2003-07-23 2005-02-17 Fuji Photo Film Co Ltd 画像記録装置

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01155673A (ja) * 1987-12-14 1989-06-19 Canon Inc レーザー波長制御装置及びそれを用いた露光装置
JPH05182635A (ja) * 1991-12-27 1993-07-23 Toshiba Lighting & Technol Corp 紫外線照射装置
JPH0750237A (ja) * 1993-08-05 1995-02-21 Fujitsu Ltd 紫外線露光装置
JPH07302747A (ja) * 1994-05-02 1995-11-14 Canon Inc 駆動装置
JPH09172001A (ja) * 1995-12-15 1997-06-30 Sony Corp 半導体製造装置の温度制御方法および装置
JPH1064985A (ja) * 1996-08-23 1998-03-06 Sony Corp ウエハステージ、ウエハの温度調整方法及びドライエッチング装置
JP2001250765A (ja) * 2000-03-07 2001-09-14 Nikon Corp 露光装置及び光源装置
WO2003079418A1 (fr) * 2002-03-15 2003-09-25 Nikon Corporation Aligneur et procede de fabrication de dispositif
JP2005040998A (ja) * 2003-07-23 2005-02-17 Fuji Photo Film Co Ltd 画像記録装置
JP2005043300A (ja) * 2003-07-25 2005-02-17 Nikon Corp レーザ測長システム及び露光装置

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010258168A (ja) * 2009-04-23 2010-11-11 Canon Inc デバイス製造装置およびデバイス製造方法
US8638416B2 (en) 2009-04-23 2014-01-28 Canon Kabushiki Kaisha Device manufacturing apparatus, including coolant temperature control, and method of manufacturing device
JP2011237702A (ja) * 2010-05-13 2011-11-24 Hitachi High-Technologies Corp 液晶露光装置
KR101287971B1 (ko) 2011-09-28 2013-07-18 국방과학연구소 외부환경의 영향이 적은 냉각장치, 이를 구비하는 비행체 및 냉각방법
KR20130102007A (ko) * 2012-03-06 2013-09-16 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 보조 노광 장치
CN103309170A (zh) * 2012-03-06 2013-09-18 东京毅力科创株式会社 辅助曝光装置
JP2013186191A (ja) * 2012-03-06 2013-09-19 Tokyo Electron Ltd 補助露光装置
KR102006504B1 (ko) * 2012-03-06 2019-08-01 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 보조 노광 장치
KR20160059660A (ko) * 2014-11-19 2016-05-27 양태허 부착식 등온장치 및 열전달 유체를 가진 온도제어 시스템 및 응용장치
KR102332994B1 (ko) * 2014-11-19 2021-11-29 양태허 부착식 등온장치 및 열전달 유체를 가진 온도제어 시스템 및 응용장치

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