JP2006235205A - 温度調整装置および温度調整方法 - Google Patents
温度調整装置および温度調整方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006235205A JP2006235205A JP2005049078A JP2005049078A JP2006235205A JP 2006235205 A JP2006235205 A JP 2006235205A JP 2005049078 A JP2005049078 A JP 2005049078A JP 2005049078 A JP2005049078 A JP 2005049078A JP 2006235205 A JP2006235205 A JP 2006235205A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- temperature
- cooling
- refrigerant
- heat generating
- cooling means
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
【解決手段】 チラー56から冷却部材52を環流する冷媒の供給管58に可変バルブ66を設け、冷媒の流量を制御装置(PID)64で制御する。また台部19に温度センサ62を設け、台部19の温度を検出し制御装置64へ入力する構成とすることで、チラー56における冷媒の温度制御(第一次温調)の変動によって冷却部材52の温度が変動すると、温度センサ62が台部19の温度変化として検出し、制御装置64へデータとして送る。制御装置64は入力された温度データから冷媒温度の変動を検出し、冷媒の温度が規定の値よりも低くなれば可変バルブ66を作動させ、冷媒の流量を制御することで、冷却部材52の温度が下がりすぎることを防ぎ台部19の温度を一定に保つ(第二次温調)。これにより光源部17の温度を一定に保つことができるので、光学性能を一定に維持することができる。
【選択図】 図2
Description
上記構成の発明では、温度検出手段によって検出された冷媒の温度に応じて加熱手段により冷却手段を通過する冷媒の温度を調節することで、冷媒の温度制御では補正しきれない温度変動を補正し、冷却手段の温度を一定に保つことができる。
<装置の概要>
図1には第1実施形態に係る光源用冷却装置50が搭載された露光描画装置10が示されている。
制御ユニット20によってリニア駆動機構40を駆動制御して、摺動操作板部材38と一体の各楔形部材44を走査方向(移動ステージ14の移動方向である矢印Y方向)に直交する方向(矢印X方向)に精密に移動することで、各支持ブロック48の露光面高さ(矢印Z方向)を調整するように構成されている。
<冷却装置の概要>
次に、上記露光描画装置10の光源ユニット16に搭載された光源用冷却装置50について説明する。
16 光源ユニット
17 光源部
18 露光ヘッドユニット
19 台部
50 光源用冷却装置(冷却装置)
52 冷却部材
54 パイプ
56 チラー(冷媒供給手段)
58 供給管
62 温度センサ
66 可変バルブ
68 ヒータ
70 ヒータ
Claims (14)
- 冷却を要する発熱部位の温度を調整する温度調整装置であって、
冷媒流路に冷媒を環流して前記発熱部位を冷却する冷却手段と、
前記冷却手段への冷媒流路に設けられた流量調節手段と、
前記発熱部位または前記冷却手段に設けられた温度検出手段と、
を備え、
前記温度検出手段によって検出された温度に応じて前記流量調節手段により前記冷却手段を通過する前記冷媒の流量を調節する制御装置を備えたことを特徴とする温度調整装置。
- 冷却を要する発熱部位の温度を調整する温度調整装置であって、
冷媒流路に冷媒を環流して前記発熱部位を冷却する冷却手段と、
前記冷却手段より上流側の前記冷媒流路に設けられた加熱手段と、
前記発熱部位または前記冷却手段に設けられた温度検出手段と、
を備え、
前記温度検出手段によって検出された温度に応じて前記加熱手段により前記冷却手段を通過する前記冷媒の温度を調節する制御装置を備えたことを特徴とする温度調整装置。
- 冷却を要する発熱部位の温度を調整する温度調整装置であって、
冷媒流路に冷媒を環流して前記発熱部位を冷却する冷却手段と、
前記冷却手段への冷媒流路に設けられた流量調節手段と、
前記冷却手段より上流側の前記冷媒流路に設けられた加熱手段と、
前記発熱部位または前記冷却手段に設けられた温度検出手段と、
を備え、
前記温度検出手段によって検出された温度に応じて前記流量調節手段により前記冷却手段を通過する前記冷媒の流量と温度の一方または両方を調節することを特徴とする温度調整装置。
- 冷却を要する発熱部位の温度を調整する温度調整装置であって、
前記発熱部位を載置する台と
冷媒流路に冷媒を環流して前記発熱部位を冷却する冷却手段と、
前記台または前記冷却手段に設けられた温度検出手段と、
前記台または前記冷却手段または前記台と冷却手段の間に設けられた加熱手段と、
を備え、
前記温度検出手段によって検出された温度に応じて前記加熱手段により前記台または前記冷却手段の温度を調節する制御装置を備えたことを特徴とする温度調整装置。
- 冷却を要する発熱部位の温度を調整する温度調整装置であって、
前記発熱部位を載置する台と
冷媒流路に冷媒を環流して前記発熱部位を冷却する冷却手段と、
前記台または前記冷却手段に設けられた温度検出手段と、
前記台または前記冷却手段または前記台と冷却手段の間に設けられた第1加熱手段と、
前記冷却手段への冷媒流路に設けられた流量調節手段と、
前記冷却手段より上流側の前記冷媒流路に設けられた第2加熱手段と、
を備え、
前記温度検出手段によって検出された温度に応じて
前記流量調節手段により前記冷却手段を通過する前記冷媒の流量と温度の一方または両方を調節し、
前記加熱手段により前記台または前記冷却手段の温度を調節する制御装置を備えたことを特徴とする温度調整装置。
- 前記発熱部位が露光用光源であることを特徴とする請求項1乃至請求項5の何れかに記載の温度調整装置。
- 前記露光用光源がレーザダイオードであることを特徴とする請求項6に記載の温度調整装置。
- 冷却を要する発熱部位の温度を調整する温度調整方法であって、
冷媒流路に冷媒を環流して前記発熱部位を冷却する冷却手段と、
前記冷却手段への冷媒流路に設けられた流量調節手段と、
前記発熱部位または前記冷却手段に設けられた温度検出手段と、
を用い、
前記温度検出手段によって検出された温度に応じて前記流量調節手段により前記冷却手段を通過する前記冷媒の流量を調節する制御を行うことを特徴とする温度調整方法。
- 冷却を要する発熱部位の温度を調整する温度調整方法であって、
冷媒流路に冷媒を環流して前記発熱部位を冷却する冷却手段と、
前記冷却手段より上流側の前記冷媒流路に設けられた加熱手段と、
前記発熱部位または前記冷却手段に設けられた温度検出手段と、
を用い、
前記温度検出手段によって検出された温度に応じて前記加熱手段により前記冷却手段を通過する前記冷媒の温度を調節する制御を行うことを特徴とする温度調整方法。
- 冷却を要する発熱部位の温度を調整する温度調整方法であって、
冷媒流路に冷媒を環流して前記発熱部位を冷却する冷却手段と、
前記冷却手段への冷媒流路に設けられた流量調節手段と、
前記冷却手段より上流側の前記冷媒流路に設けられた加熱手段と、
前記発熱部位または前記冷却手段に設けられた温度検出手段と、
を用い、
前記温度検出手段によって検出された温度に応じて前記流量調節手段により前記冷却手段を通過する前記冷媒の流量と温度の一方または両方を調節することを特徴とする温度調整方法。
- 冷却を要する発熱部位の温度を調整する温度調整方法であって、
前記発熱部位を載置する台と
冷媒流路に冷媒を環流して前記発熱部位を冷却する冷却手段と、
前記台または前記冷却手段に設けられた温度検出手段と、
前記台または前記冷却手段または前記台と冷却手段の間に設けられた加熱手段と、
を用い、
前記温度検出手段によって検出された温度に応じて前記加熱手段により前記台または前記冷却手段の温度を調節する制御を行うことを特徴とする温度調整方法。
- 冷却を要する発熱部位の温度を調整する温度調整方法であって、
前記発熱部位を載置する台と
冷媒流路に冷媒を環流して前記発熱部位を冷却する冷却手段と、
前記台または前記冷却手段に設けられた温度検出手段と、
前記台または前記冷却手段または前記台と冷却手段の間に設けられた第1加熱手段と、
前記冷却手段への冷媒流路に設けられた流量調節手段と、
前記冷却手段より上流側の前記冷媒流路に設けられた第2加熱手段と、
を用い、
前記温度検出手段によって検出された温度に応じて
前記流量調節手段により前記冷却手段を通過する前記冷媒の流量と温度の一方または両方を調節し、
前記加熱手段により前記台または前記冷却手段の温度を調節する制御を行うことを特徴とする温度調整方法。
- 前記発熱部位が露光用光源であることを特徴とする請求項8乃至請求項12の何れかに記載の温度調整方法。
- 前記露光用光源がレーザダイオードであることを特徴とする請求項13に記載の温度調整方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005049078A JP2006235205A (ja) | 2005-02-24 | 2005-02-24 | 温度調整装置および温度調整方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005049078A JP2006235205A (ja) | 2005-02-24 | 2005-02-24 | 温度調整装置および温度調整方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006235205A true JP2006235205A (ja) | 2006-09-07 |
Family
ID=37042927
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005049078A Pending JP2006235205A (ja) | 2005-02-24 | 2005-02-24 | 温度調整装置および温度調整方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2006235205A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010258168A (ja) * | 2009-04-23 | 2010-11-11 | Canon Inc | デバイス製造装置およびデバイス製造方法 |
JP2011237702A (ja) * | 2010-05-13 | 2011-11-24 | Hitachi High-Technologies Corp | 液晶露光装置 |
KR101287971B1 (ko) | 2011-09-28 | 2013-07-18 | 국방과학연구소 | 외부환경의 영향이 적은 냉각장치, 이를 구비하는 비행체 및 냉각방법 |
KR20130102007A (ko) * | 2012-03-06 | 2013-09-16 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 보조 노광 장치 |
KR20160059660A (ko) * | 2014-11-19 | 2016-05-27 | 양태허 | 부착식 등온장치 및 열전달 유체를 가진 온도제어 시스템 및 응용장치 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01155673A (ja) * | 1987-12-14 | 1989-06-19 | Canon Inc | レーザー波長制御装置及びそれを用いた露光装置 |
JPH05182635A (ja) * | 1991-12-27 | 1993-07-23 | Toshiba Lighting & Technol Corp | 紫外線照射装置 |
JPH0750237A (ja) * | 1993-08-05 | 1995-02-21 | Fujitsu Ltd | 紫外線露光装置 |
JPH07302747A (ja) * | 1994-05-02 | 1995-11-14 | Canon Inc | 駆動装置 |
JPH09172001A (ja) * | 1995-12-15 | 1997-06-30 | Sony Corp | 半導体製造装置の温度制御方法および装置 |
JPH1064985A (ja) * | 1996-08-23 | 1998-03-06 | Sony Corp | ウエハステージ、ウエハの温度調整方法及びドライエッチング装置 |
JP2001250765A (ja) * | 2000-03-07 | 2001-09-14 | Nikon Corp | 露光装置及び光源装置 |
WO2003079418A1 (fr) * | 2002-03-15 | 2003-09-25 | Nikon Corporation | Aligneur et procede de fabrication de dispositif |
JP2005043300A (ja) * | 2003-07-25 | 2005-02-17 | Nikon Corp | レーザ測長システム及び露光装置 |
JP2005040998A (ja) * | 2003-07-23 | 2005-02-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像記録装置 |
-
2005
- 2005-02-24 JP JP2005049078A patent/JP2006235205A/ja active Pending
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01155673A (ja) * | 1987-12-14 | 1989-06-19 | Canon Inc | レーザー波長制御装置及びそれを用いた露光装置 |
JPH05182635A (ja) * | 1991-12-27 | 1993-07-23 | Toshiba Lighting & Technol Corp | 紫外線照射装置 |
JPH0750237A (ja) * | 1993-08-05 | 1995-02-21 | Fujitsu Ltd | 紫外線露光装置 |
JPH07302747A (ja) * | 1994-05-02 | 1995-11-14 | Canon Inc | 駆動装置 |
JPH09172001A (ja) * | 1995-12-15 | 1997-06-30 | Sony Corp | 半導体製造装置の温度制御方法および装置 |
JPH1064985A (ja) * | 1996-08-23 | 1998-03-06 | Sony Corp | ウエハステージ、ウエハの温度調整方法及びドライエッチング装置 |
JP2001250765A (ja) * | 2000-03-07 | 2001-09-14 | Nikon Corp | 露光装置及び光源装置 |
WO2003079418A1 (fr) * | 2002-03-15 | 2003-09-25 | Nikon Corporation | Aligneur et procede de fabrication de dispositif |
JP2005040998A (ja) * | 2003-07-23 | 2005-02-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像記録装置 |
JP2005043300A (ja) * | 2003-07-25 | 2005-02-17 | Nikon Corp | レーザ測長システム及び露光装置 |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010258168A (ja) * | 2009-04-23 | 2010-11-11 | Canon Inc | デバイス製造装置およびデバイス製造方法 |
US8638416B2 (en) | 2009-04-23 | 2014-01-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Device manufacturing apparatus, including coolant temperature control, and method of manufacturing device |
JP2011237702A (ja) * | 2010-05-13 | 2011-11-24 | Hitachi High-Technologies Corp | 液晶露光装置 |
KR101287971B1 (ko) | 2011-09-28 | 2013-07-18 | 국방과학연구소 | 외부환경의 영향이 적은 냉각장치, 이를 구비하는 비행체 및 냉각방법 |
KR20130102007A (ko) * | 2012-03-06 | 2013-09-16 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 보조 노광 장치 |
CN103309170A (zh) * | 2012-03-06 | 2013-09-18 | 东京毅力科创株式会社 | 辅助曝光装置 |
JP2013186191A (ja) * | 2012-03-06 | 2013-09-19 | Tokyo Electron Ltd | 補助露光装置 |
KR102006504B1 (ko) * | 2012-03-06 | 2019-08-01 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 보조 노광 장치 |
KR20160059660A (ko) * | 2014-11-19 | 2016-05-27 | 양태허 | 부착식 등온장치 및 열전달 유체를 가진 온도제어 시스템 및 응용장치 |
KR102332994B1 (ko) * | 2014-11-19 | 2021-11-29 | 양태허 | 부착식 등온장치 및 열전달 유체를 가진 온도제어 시스템 및 응용장치 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6445213B2 (ja) | ラインビーム光源およびラインビーム照射装置ならびにレーザリフトオフ方法 | |
KR101258167B1 (ko) | 반도체 레이저 구동 방법 및 장치, 그리고 반도체 레이저의구동 전류 패턴 도출 방법 및 장치 | |
CN103576319B (zh) | 光偏转器、光源设备、图像投影装置和显示装置 | |
JP2006235205A (ja) | 温度調整装置および温度調整方法 | |
CN1940729A (zh) | 光刻装置、器件制造方法和由其制造的器件 | |
JP4196983B2 (ja) | 冷却装置、プロジェクタ及び冷却方法 | |
JP2008177240A (ja) | レーザリフロー装置 | |
KR20080031363A (ko) | 반도체 레이저의 구동 방법 및 장치, 그리고 반도체 레이저구동 전류 패턴의 도출 방법 및 장치 | |
US8070296B2 (en) | Illumination apparatus, display apparatus and projection display apparatus | |
WO2006118343A1 (en) | Exposure apparatus | |
JP2006184538A (ja) | 冷却装置、露光描画装置、及び冷媒供給方法 | |
JP2008288427A (ja) | 温度調節装置、ステージ装置、露光装置および露光方法 | |
JP2006238638A (ja) | ワーク搬送用ステージ駆動機構、ワーク搬送装置、ワーク描画装置、ワーク光学処理装置、ワーク露光描画装置、ワーク搬送用ステージの駆動方法、ワーク搬送方法、ワーク描画方法、ワーク光学処理方法及びワーク露光描画方法 | |
JP2006184539A (ja) | 冷却装置及び露光描画装置 | |
KR20070048613A (ko) | 레이저 빔 노광장치 및 그 방법 | |
TWI855790B (zh) | 光源單元、照明單元、曝光裝置、及曝光方法 | |
WO2024038537A1 (ja) | 光源ユニット、照明ユニット、露光装置、及び露光方法 | |
JPH11312632A (ja) | 温度制御装置および露光装置 | |
WO2023282214A1 (ja) | 空間光変調ユニットおよび露光装置 | |
JP2019152819A (ja) | パターン描画方法およびパターン描画装置 | |
KR20240140776A (ko) | 묘화 장치 | |
KR100717284B1 (ko) | 웨이퍼 스테이지 시스템 | |
JP2006235335A (ja) | ワーク搬送用ステージ、ワーク搬送装置、ワーク描画装置、ワーク光学処理装置及びワーク露光描画装置 | |
JP5146417B2 (ja) | 露光装置 | |
JP3635792B2 (ja) | 位置検出装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20070222 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070615 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100201 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100511 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100914 |