JP2006229062A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2006229062A5
JP2006229062A5 JP2005042698A JP2005042698A JP2006229062A5 JP 2006229062 A5 JP2006229062 A5 JP 2006229062A5 JP 2005042698 A JP2005042698 A JP 2005042698A JP 2005042698 A JP2005042698 A JP 2005042698A JP 2006229062 A5 JP2006229062 A5 JP 2006229062A5
Authority
JP
Japan
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2005042698A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4471865B2 (ja
JP2006229062A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2005042698A priority Critical patent/JP4471865B2/ja
Priority claimed from JP2005042698A external-priority patent/JP4471865B2/ja
Priority to US11/139,465 priority patent/US7547614B2/en
Priority to KR1020060014997A priority patent/KR101010158B1/ko
Publication of JP2006229062A publication Critical patent/JP2006229062A/ja
Publication of JP2006229062A5 publication Critical patent/JP2006229062A5/ja
Priority to US12/434,919 priority patent/US7736498B2/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4471865B2 publication Critical patent/JP4471865B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

JP2005042698A 2005-02-18 2005-02-18 液処理装置及びその方法 Expired - Lifetime JP4471865B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005042698A JP4471865B2 (ja) 2005-02-18 2005-02-18 液処理装置及びその方法
US11/139,465 US7547614B2 (en) 2005-02-18 2005-05-31 Solution treatment apparatus and solution treatment method
KR1020060014997A KR101010158B1 (ko) 2005-02-18 2006-02-16 액처리 장치 및 액처리 방법
US12/434,919 US7736498B2 (en) 2005-02-18 2009-05-04 Solution treatment apparatus and solution treatment method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005042698A JP4471865B2 (ja) 2005-02-18 2005-02-18 液処理装置及びその方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2006229062A JP2006229062A (ja) 2006-08-31
JP2006229062A5 true JP2006229062A5 (enExample) 2007-02-08
JP4471865B2 JP4471865B2 (ja) 2010-06-02

Family

ID=36913298

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005042698A Expired - Lifetime JP4471865B2 (ja) 2005-02-18 2005-02-18 液処理装置及びその方法

Country Status (3)

Country Link
US (2) US7547614B2 (enExample)
JP (1) JP4471865B2 (enExample)
KR (1) KR101010158B1 (enExample)

Families Citing this family (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19917051A1 (de) * 1999-04-15 2000-10-19 Basf Ag Verfahren zur Hydrierung von unsubstituierten oder alkylsubstituierten Aromaten unter Verwendung eines Makroporen aufweisenden Katalysators
JP4471865B2 (ja) * 2005-02-18 2010-06-02 東京エレクトロン株式会社 液処理装置及びその方法
KR100883368B1 (ko) 2007-02-28 2009-02-12 세메스 주식회사 배기유닛 및 상기 배기유닛의 배기량 조절방법, 그리고 상기 배기유닛을 가지는 기판 처리 장치
JP5195010B2 (ja) * 2008-05-13 2013-05-08 東京エレクトロン株式会社 塗布装置、塗布方法及び記憶媒体
JP5369538B2 (ja) 2008-08-12 2013-12-18 東京エレクトロン株式会社 液処理装置及び液処理方法並びに記憶媒体
JP5545693B2 (ja) * 2008-10-01 2014-07-09 株式会社Ｓｏｋｕｄｏ 現像処理装置
JP4816747B2 (ja) * 2009-03-04 2011-11-16 東京エレクトロン株式会社 液処理装置及び液処理方法
JP5218450B2 (ja) * 2010-03-03 2013-06-26 東京エレクトロン株式会社 液処理装置及び液処理方法
JP5454407B2 (ja) 2010-07-23 2014-03-26 東京エレクトロン株式会社 液処理装置及び液処理方法
JP5122028B2 (ja) 2010-12-13 2013-01-16 パナソニック株式会社 発電システム及びその運転方法
JP2012151500A (ja) * 2012-04-02 2012-08-09 Tokyo Electron Ltd 基板処理装置及び基板処理方法並びに基板処理装置の用力供給装置及び基板処理装置の用力供給方法
JP5620530B2 (ja) * 2013-02-15 2014-11-05 株式会社Ｓｃｒｅｅｎセミコンダクターソリューションズ 基板処理ユニットおよび基板処理装置
JP6119293B2 (ja) * 2013-02-18 2017-04-26 株式会社リコー 回転塗布装置および回転塗布装置の洗浄方法
KR102096948B1 (ko) * 2013-07-04 2020-04-06 세메스 주식회사 기판 처리 설비
JP6281161B2 (ja) * 2013-09-27 2018-02-21 東京エレクトロン株式会社 液処理装置
JP6482979B2 (ja) * 2015-07-29 2019-03-13 東京エレクトロン株式会社 液処理装置
JP6503281B2 (ja) * 2015-11-13 2019-04-17 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理装置
JP6468213B2 (ja) * 2016-02-19 2019-02-13 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体
WO2018051825A1 (ja) 2016-09-13 2018-03-22 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理装置
JP7023065B2 (ja) * 2016-09-13 2022-02-21 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理装置
US10438828B2 (en) * 2016-10-03 2019-10-08 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus to prevent interference between processing chambers
JP7224806B2 (ja) * 2018-08-07 2023-02-20 芝浦メカトロニクス株式会社 基板処理装置及び基板処理方法
US11047050B2 (en) 2018-10-30 2021-06-29 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Semiconductor tool having controllable ambient environment processing zones
KR102343637B1 (ko) * 2019-06-13 2021-12-28 세메스 주식회사 기판 처리 장치 및 방법
KR102576155B1 (ko) 2021-06-07 2023-09-07 세메스 주식회사 기판 처리 장치
KR102594076B1 (ko) * 2021-07-08 2023-10-25 세메스 주식회사 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
JP7424424B2 (ja) * 2021-11-02 2024-01-30 東京エレクトロン株式会社 液処理装置

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3512270B2 (ja) * 1995-07-10 2004-03-29 大日本スクリーン製造株式会社 回転式基板塗布装置
TW333658B (en) * 1996-05-30 1998-06-11 Tokyo Electron Co Ltd The substrate processing method and substrate processing system
JP3562743B2 (ja) 1996-12-18 2004-09-08 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置
JPH10312952A (ja) 1997-05-14 1998-11-24 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
TW418452B (en) * 1997-10-31 2001-01-11 Tokyo Electron Ltd Coating process
JP3561644B2 (ja) 1998-11-18 2004-09-02 東京エレクトロン株式会社 液処理システム及び液処理方法
JP3587776B2 (ja) * 2000-10-10 2004-11-10 東京エレクトロン株式会社 塗布装置及び塗布方法
JP3616748B2 (ja) * 2000-11-07 2005-02-02 東京エレクトロン株式会社 現像処理方法，現像処理装置及び処理装置
JP4471865B2 (ja) * 2005-02-18 2010-06-02 東京エレクトロン株式会社 液処理装置及びその方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
BE2021C519I2 (enExample)
BE2021C524I2 (enExample)
BE2013C074I2 (enExample)
BE2013C014I2 (enExample)
BE2012C042I2 (enExample)
BRPI0601358B8 (pt) Aplicador de clipe cirúrgico
BRPI0601402B8 (pt) Aplicador de grampos cirúrgicos
BR122017004707A2 (enExample)
BE2019C013I2 (enExample)
BR122020005056A2 (enExample)
AP2140A (enExample)
BR122016029989A2 (enExample)
JP2006200999A5 (enExample)
JP2006278365A5 (enExample)
JP2006194863A5 (enExample)
BE2017C062I2 (enExample)
CN300734658S (zh) 桌子
CN300726015S (zh) 鞋底
CN300725994S (zh) 鞋底
CN300725995S (zh) 鞋帮
CN300726007S (zh) 鞋底
CN300725996S (zh) 鞋帮
CN300725997S (zh) 鞋帮
CN300726016S (zh) 鞋帮
CN300726591S (zh) 冷冰食品制作器