JP2006200927A - Tftアレイ検査装置、及びデータ抽出方法 - Google Patents
Tftアレイ検査装置、及びデータ抽出方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006200927A JP2006200927A JP2005010386A JP2005010386A JP2006200927A JP 2006200927 A JP2006200927 A JP 2006200927A JP 2005010386 A JP2005010386 A JP 2005010386A JP 2005010386 A JP2005010386 A JP 2005010386A JP 2006200927 A JP2006200927 A JP 2006200927A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pixel
- data
- measurement data
- region
- search
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
【解決手段】 TFTアレイ検査装置1は、二次元の測定データから欠陥データを抽出するTFTアレイ検査装置であり、二次元の測定データからピクセルに割り付ける測定データを選択する探索手段6と、探索結果を記憶する記憶手段7と、探索結果を参照して未割り付けのピクセルに測定データを割り付ける割り付け手段8とを備えた構成とする。割り付け手段8は、二次元の測定データから検査対象パネルのピクセル単位のデータへデータ再構築して割り付けデータを構成し、割り付けデータに基づいて各ピクセルの欠陥データを抽出する。
【選択図】 図1
Description
Claims (3)
- TFTアレイ検査装置により二次元の測定データから欠陥データを抽出するデータ抽出方法において、
二次元の測定データからピクセルに割り付ける測定データを選択する探索工程と、
前記探索結果を記憶する記憶工程と、
前記探索結果を参照して未割り付けのピクセルに測定データを割り付ける割り付け工程とを備え、
前記測定データの割り付けにより、二次元の測定データから検査対象パネルのピクセル単位のデータへデータ再構築し、
前記割り付けデータに基づいて各ピクセルの欠陥データを抽出することを特徴とする、TFTアレイ検査装置における欠陥データ抽出方法。 - 前記探索工程は、対象ピクセル及び当該対象ピクセルの周囲の領域の測定データから信号強度に基づいて当該対象ピクセルに割り付ける領域及び測定データを選択し、
前記記憶工程は、前記探索工程で選択した領域及び測定データを探索結果として記憶し、
前記割り付け工程は、未割り付けのピクセルの周囲に割り付けられた領域の測定データと、当該未割り付けピクセルの測定データとの強度比較により、当該未割り付けピクセルに測定データを割り付けることを特徴とする請求項1に記載のTFTアレイ検査装置における欠陥データ抽出方法。 - 二次元の測定データから欠陥データを抽出するTFTアレイ検査装置において、
二次元の測定データからピクセルに割り付ける測定データを選択する探索手段と、
前記探索結果を記憶する記憶手段と、
前記探索結果を参照して未割り付けのピクセルに測定データを割り付ける割り付け手段とを備え、
前記割り付け手段によって、二次元の測定データから検査対象パネルのピクセル単位のデータへデータ再構築して割り付けデータを構成し、前記割り付けデータに基づいて各ピクセルの欠陥データを抽出することを特徴とする、TFTアレイ検査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005010386A JP4534768B2 (ja) | 2005-01-18 | 2005-01-18 | Tftアレイ検査装置、及び欠陥データ抽出方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005010386A JP4534768B2 (ja) | 2005-01-18 | 2005-01-18 | Tftアレイ検査装置、及び欠陥データ抽出方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006200927A true JP2006200927A (ja) | 2006-08-03 |
JP4534768B2 JP4534768B2 (ja) | 2010-09-01 |
Family
ID=36959080
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005010386A Expired - Fee Related JP4534768B2 (ja) | 2005-01-18 | 2005-01-18 | Tftアレイ検査装置、及び欠陥データ抽出方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4534768B2 (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008089476A (ja) * | 2006-10-03 | 2008-04-17 | Shimadzu Corp | Tftアレイ検査における電子線走査方法 |
JP2010107423A (ja) * | 2008-10-31 | 2010-05-13 | Shimadzu Corp | Tftアレイ検査装置および画素の信号強度計算方法 |
JP2010271237A (ja) * | 2009-05-22 | 2010-12-02 | Shimadzu Corp | Tftアレイの検査方法、およびtftアレイの検査装置 |
JP2011021927A (ja) * | 2009-07-14 | 2011-02-03 | Shimadzu Corp | Tftアレイ検査装置およびtftアレイ検査方法 |
JP2011209217A (ja) * | 2010-03-30 | 2011-10-20 | Shimadzu Corp | Tftアレイ検査方法 |
JP2012018047A (ja) * | 2010-07-07 | 2012-01-26 | Shimadzu Corp | Tftアレイ検査装置および欠陥強度算出方法 |
JP2012202863A (ja) * | 2011-03-25 | 2012-10-22 | Shimadzu Corp | Tftアレイ検査装置およびtftアレイ検査方法 |
WO2013065142A1 (ja) * | 2011-11-02 | 2013-05-10 | 株式会社島津製作所 | 液晶アレイ検査装置および液晶アレイ検査装置の信号処理方法 |
CN103217816A (zh) * | 2013-04-01 | 2013-07-24 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 阵列基板的检测方法、检测台和检测设备 |
WO2021028755A1 (ja) * | 2019-08-09 | 2021-02-18 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 表示装置の動作方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0979946A (ja) * | 1995-09-18 | 1997-03-28 | Sanyo Electric Co Ltd | 表示装置の検査装置 |
JP2004271516A (ja) * | 2003-03-04 | 2004-09-30 | Shimadzu Corp | 基板検査装置及び基板検査方法 |
-
2005
- 2005-01-18 JP JP2005010386A patent/JP4534768B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0979946A (ja) * | 1995-09-18 | 1997-03-28 | Sanyo Electric Co Ltd | 表示装置の検査装置 |
JP2004271516A (ja) * | 2003-03-04 | 2004-09-30 | Shimadzu Corp | 基板検査装置及び基板検査方法 |
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008089476A (ja) * | 2006-10-03 | 2008-04-17 | Shimadzu Corp | Tftアレイ検査における電子線走査方法 |
JP2010107423A (ja) * | 2008-10-31 | 2010-05-13 | Shimadzu Corp | Tftアレイ検査装置および画素の信号強度計算方法 |
JP2010271237A (ja) * | 2009-05-22 | 2010-12-02 | Shimadzu Corp | Tftアレイの検査方法、およびtftアレイの検査装置 |
JP2011021927A (ja) * | 2009-07-14 | 2011-02-03 | Shimadzu Corp | Tftアレイ検査装置およびtftアレイ検査方法 |
JP2011209217A (ja) * | 2010-03-30 | 2011-10-20 | Shimadzu Corp | Tftアレイ検査方法 |
JP2012018047A (ja) * | 2010-07-07 | 2012-01-26 | Shimadzu Corp | Tftアレイ検査装置および欠陥強度算出方法 |
JP2012202863A (ja) * | 2011-03-25 | 2012-10-22 | Shimadzu Corp | Tftアレイ検査装置およびtftアレイ検査方法 |
WO2013065142A1 (ja) * | 2011-11-02 | 2013-05-10 | 株式会社島津製作所 | 液晶アレイ検査装置および液晶アレイ検査装置の信号処理方法 |
CN104024837A (zh) * | 2011-11-02 | 2014-09-03 | 株式会社岛津制作所 | 液晶阵列检查装置及液晶阵列检查装置的信号处理方法 |
JPWO2013065142A1 (ja) * | 2011-11-02 | 2015-04-02 | 株式会社島津製作所 | 液晶アレイ検査装置および液晶アレイ検査装置の信号処理方法 |
CN103217816A (zh) * | 2013-04-01 | 2013-07-24 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 阵列基板的检测方法、检测台和检测设备 |
CN103217816B (zh) * | 2013-04-01 | 2016-01-20 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 阵列基板的检测方法、检测台和检测设备 |
WO2021028755A1 (ja) * | 2019-08-09 | 2021-02-18 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 表示装置の動作方法 |
US11790817B2 (en) | 2019-08-09 | 2023-10-17 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for operating display device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4534768B2 (ja) | 2010-09-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4534768B2 (ja) | Tftアレイ検査装置、及び欠陥データ抽出方法 | |
US10249264B2 (en) | Controller for compensating mura defects, display apparatus having the same, and method for compensating mura defects | |
JP6100246B2 (ja) | 全原画像を使用した欠陥検出システムおよび方法 | |
US11972583B2 (en) | Fluorescence image registration method, gene sequencing instrument, and storage medium | |
KR20150103706A (ko) | 템플릿 이미지 매칭을 이용한 웨이퍼 상의 결함 검출 | |
JP5692691B2 (ja) | 表示装置の検査方法と検査装置及び表示装置用基板と表示装置 | |
JP2007334262A (ja) | Tftアレイ基板の欠陥検出方法、およびtftアレイ基板の欠陥検出装置 | |
WO2011070663A1 (ja) | Tft基板検査装置およびtft基板検査方法 | |
TW471016B (en) | Defect detection using gray level signatures | |
JP2010271237A (ja) | Tftアレイの検査方法、およびtftアレイの検査装置 | |
JP5077544B2 (ja) | Tftアレイの検査方法及びtftアレイ検査装置 | |
JP5429458B2 (ja) | Tftアレイの検査方法、およびtftアレイの検査装置 | |
CN102803940B (zh) | Tft阵列检查方法以及tft阵列检查装置 | |
JP5182595B2 (ja) | Tftアレイ検査方法およびtftアレイ検査装置 | |
JP7023425B1 (ja) | 情報処理装置、情報処理方法、および情報処理プログラム | |
JP2006215493A (ja) | 液晶アレイ検査装置 | |
JP5163948B2 (ja) | 走査ビーム検査装置、および欠陥検出の信号処理方法 | |
JP5494303B2 (ja) | Tftアレイ検査装置および欠陥強度算出方法 | |
JP2010281688A (ja) | Tftアレイ検査装置およびピクセル座標位置決定方法 | |
JP2005326163A (ja) | Tftアレイ検査装置及びtftアレイ検査方法 | |
JP2010107423A (ja) | Tftアレイ検査装置および画素の信号強度計算方法 | |
JP5637502B2 (ja) | Tftアレイ検査装置およびtftアレイ検査方法 | |
JP5459491B2 (ja) | Tftアレイ検査装置およびtftアレイ検査方法 | |
JP2012113509A (ja) | 画像処理装置、画像処理方法、プログラムおよび記録媒体 | |
JP4788904B2 (ja) | Tftアレイの欠陥検出方法及びtftアレイ欠陥検出装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070402 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090930 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091104 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091225 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100305 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100428 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100525 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100607 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130625 Year of fee payment: 3 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4534768 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130625 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140625 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |