JP2005326163A - Tftアレイ検査装置及びtftアレイ検査方法 - Google Patents
Tftアレイ検査装置及びtftアレイ検査方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005326163A JP2005326163A JP2004142197A JP2004142197A JP2005326163A JP 2005326163 A JP2005326163 A JP 2005326163A JP 2004142197 A JP2004142197 A JP 2004142197A JP 2004142197 A JP2004142197 A JP 2004142197A JP 2005326163 A JP2005326163 A JP 2005326163A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- line
- defect
- point
- signal distribution
- tft array
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000007689 inspection Methods 0.000 title claims abstract description 45
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 20
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims abstract description 147
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims abstract description 29
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 26
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 63
- 238000000605 extraction Methods 0.000 abstract description 15
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 12
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 5
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 4
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 3
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 3
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 2
- 238000011157 data evaluation Methods 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Testing Electric Properties And Detecting Electric Faults (AREA)
- Tests Of Electronic Circuits (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
【解決手段】 TFTアレイ検査装置1は、TFT基板2の各画素を駆動して得られる二次元の測定データに基づいてTFTアレイを検査するTFTアレイ検査装置において、TFT基板2の二次元の測定データから線欠陥の欠陥点を求めるデータ処理手段5を備える。データ処理手段5は、x方向及びy方向の各ラインの測定データから同ラインの特性を表す信号分布プロファイルを求め、x方向のライン特性を表す信号分布プロファイルから欠陥点のy方向位置を求め、y方向のライン特性を表す信号分布プロファイルからx方向位置を求め、x方向位置及びy方向位置から線欠陥の欠陥点を求める。
【選択図】図10
Description
Claims (6)
- TFT基板の各画素を駆動して得られる二次元の測定データに基づいてTFTアレイを検査するTFTアレイ検査装置において、
TFT基板の二次元の測定データから線欠陥の欠陥点を求めるデータ処理手段を備え、
前記データ処理手段は、x方向及びy方向の各ラインの測定データから同ラインの特性を表す信号分布プロファイルを求め、
x方向のライン特性を表す信号分布プロファイルから欠陥点のy方向位置を求め、
y方向のライン特性を表す信号分布プロファイルからx方向位置を求め、
当該x方向位置及びy方向位置から線欠陥の欠陥点を求めることを特徴とするTFTアレイ検査装置。 - 前記データ処理手段は、二次元の測定データの一方の方向の各ラインについて、測定データの平均強度、積算値、分散値のいずれかを他方の方向に沿って求めることにより、各方向の信号分布プロファイルを求めることを特徴とする、請求項1に記載のTFTアレイ検査装置。
- 前記データ処理手段は、各方向の信号分布プロファイルと当該信号分布プロファイルのベースラインとから差分プロファイルを求め、当該差分プロファイルのピーク位置から求めることにより、欠陥点の各方向の位置を求めることを特徴とする、請求項1又は2に記載のTFTアレイ検査装置。
- 前記データ処理手段は、x方向位置とy方向位置の交差点における相関値差から線欠陥の欠陥点を特定することを特徴とする、請求項1乃至3の何れかに記載のTFTアレイ検査装置。
- TFT基板の各画素を駆動して得られる二次元の測定データについて、
x方向及びy方向の各ラインの測定データから同ラインの特性を表す信号分布プロファイルを求め、
前記信号分布プロファイルから線欠陥を含むラインを特定することを特徴とするTFTアレイ検査方法。 - 前記ラインが交差する点をクロス線欠陥の候補点とし、当該候補点における測定データのx方向及びy方向の相関値差からクロス線欠陥の欠陥点を求めることを特徴とする、請求項5に記載のTFTアレイ検査方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004142197A JP4292409B2 (ja) | 2004-05-12 | 2004-05-12 | Tftアレイ検査装置及びtftアレイ検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004142197A JP4292409B2 (ja) | 2004-05-12 | 2004-05-12 | Tftアレイ検査装置及びtftアレイ検査方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005326163A true JP2005326163A (ja) | 2005-11-24 |
JP4292409B2 JP4292409B2 (ja) | 2009-07-08 |
Family
ID=35472642
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004142197A Expired - Lifetime JP4292409B2 (ja) | 2004-05-12 | 2004-05-12 | Tftアレイ検査装置及びtftアレイ検査方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4292409B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010070755A1 (ja) * | 2008-12-18 | 2010-06-24 | 株式会社島津製作所 | Tftアレイ検査方法およびtftアレイ検査装置 |
WO2010079607A1 (ja) * | 2009-01-09 | 2010-07-15 | 株式会社島津製作所 | 液晶アレイ検査装置および液晶アレイ検査装置の信号処理方法 |
WO2010079608A1 (ja) * | 2009-01-09 | 2010-07-15 | 株式会社島津製作所 | 液晶アレイ検査装置および液晶アレイ検査装置の信号処理方法 |
WO2015136589A1 (ja) * | 2014-03-14 | 2015-09-17 | 株式会社Joled | 表示パネルの製造方法 |
-
2004
- 2004-05-12 JP JP2004142197A patent/JP4292409B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010070755A1 (ja) * | 2008-12-18 | 2010-06-24 | 株式会社島津製作所 | Tftアレイ検査方法およびtftアレイ検査装置 |
JP5182595B2 (ja) * | 2008-12-18 | 2013-04-17 | 株式会社島津製作所 | Tftアレイ検査方法およびtftアレイ検査装置 |
WO2010079607A1 (ja) * | 2009-01-09 | 2010-07-15 | 株式会社島津製作所 | 液晶アレイ検査装置および液晶アレイ検査装置の信号処理方法 |
WO2010079608A1 (ja) * | 2009-01-09 | 2010-07-15 | 株式会社島津製作所 | 液晶アレイ検査装置および液晶アレイ検査装置の信号処理方法 |
CN102272587A (zh) * | 2009-01-09 | 2011-12-07 | 株式会社岛津制作所 | 液晶阵列检查装置以及液晶阵列检查装置的信号处理方法 |
JP5093539B2 (ja) * | 2009-01-09 | 2012-12-12 | 株式会社島津製作所 | 液晶アレイ検査装置および液晶アレイ検査装置の信号処理方法 |
JP5152606B2 (ja) * | 2009-01-09 | 2013-02-27 | 株式会社島津製作所 | 液晶アレイ検査装置および液晶アレイ検査装置の信号処理方法 |
WO2015136589A1 (ja) * | 2014-03-14 | 2015-09-17 | 株式会社Joled | 表示パネルの製造方法 |
CN106133818A (zh) * | 2014-03-14 | 2016-11-16 | 株式会社日本有机雷特显示器 | 显示面板的制造方法 |
JPWO2015136589A1 (ja) * | 2014-03-14 | 2017-04-06 | 株式会社Joled | 表示パネルの製造方法 |
US9702919B2 (en) | 2014-03-14 | 2017-07-11 | Joled Inc. | Method for manufacturing display panel |
CN106133818B (zh) * | 2014-03-14 | 2019-04-02 | 株式会社日本有机雷特显示器 | 显示面板的制造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4292409B2 (ja) | 2009-07-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP2907157B1 (en) | Detecting defects on a wafer using defect-specific information | |
JP5537282B2 (ja) | 欠陥検査装置および欠陥検査方法 | |
JP6100246B2 (ja) | 全原画像を使用した欠陥検出システムおよび方法 | |
WO2011068056A1 (ja) | 欠陥検査方法及び欠陥検査装置 | |
KR20170024024A (ko) | 결함 정량화 방법, 결함 정량화 장치 및 결함 평가값 표시 장치 | |
US20080175466A1 (en) | Inspection apparatus and inspection method | |
JP2008175549A (ja) | 欠陥検出装置および欠陥検出方法 | |
CN1839306B (zh) | 使用微检查输入的宏缺陷检测 | |
JP2006010392A (ja) | 貫通穴計測システム及び方法並びに貫通穴計測用プログラム | |
JP2007334262A (ja) | Tftアレイ基板の欠陥検出方法、およびtftアレイ基板の欠陥検出装置 | |
JP2010133744A (ja) | 欠陥検出方法およびその方法を用いた視覚検査装置 | |
JP2011008482A (ja) | 欠陥検出方法、欠陥検出装置、および欠陥検出プログラム | |
JP4292409B2 (ja) | Tftアレイ検査装置及びtftアレイ検査方法 | |
JP4386175B2 (ja) | Tftアレイ検査方法 | |
KR20210087100A (ko) | 광 신호를 포인트 확산 함수에 피팅하는 것에 의한 결함 분류 | |
KR100792687B1 (ko) | 반도체 기판 패턴 결함 검출 방법 및 장치 | |
JP2010054246A (ja) | 接合部検出方法およびそれを用いた接合部外観検査方法 | |
KR102188568B1 (ko) | 인공지능 기반의 디스플레이 패널 검사방법 | |
JP4622560B2 (ja) | 液晶アレイ検査装置 | |
JP5182595B2 (ja) | Tftアレイ検査方法およびtftアレイ検査装置 | |
KR20010055119A (ko) | 표면 검사 장치 및 그 방법 | |
WO2022208620A1 (ja) | 情報処理装置、情報処理方法、および情報処理プログラム | |
JP5637502B2 (ja) | Tftアレイ検査装置およびtftアレイ検査方法 | |
CN116823714A (zh) | 工件的检查装置及方法 | |
JP2013062281A (ja) | 半導体検査装置、および半導体検査方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060714 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20081205 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081222 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090219 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090311 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090324 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120417 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120417 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120417 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130417 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130417 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140417 Year of fee payment: 5 |