JP2006173354A - Soi基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】側面に絶縁体が露出していないSOI基板を製造するプロセスを簡略化する。
【解決手段】SOI基板の製造方法は、第1基板210と第2基板220との結合を経て半導体部材211の上に絶縁層204b及び半導体層203bを順に有する構造体230を形成する第1工程と、構造体230の絶縁層204bの端部を中心方向に後退させて、半導体層203cの端部を絶縁層204cの端部に対してオーバーハングさせる第2工程と、半導体層203dの端部が絶縁層204cの周囲を覆うとともに半導体部材211に接合するように、半導体層203cの端部を構成する原子を移動させる第3工程とを含む。
【選択図】図2
【解決手段】SOI基板の製造方法は、第1基板210と第2基板220との結合を経て半導体部材211の上に絶縁層204b及び半導体層203bを順に有する構造体230を形成する第1工程と、構造体230の絶縁層204bの端部を中心方向に後退させて、半導体層203cの端部を絶縁層204cの端部に対してオーバーハングさせる第2工程と、半導体層203dの端部が絶縁層204cの周囲を覆うとともに半導体部材211に接合するように、半導体層203cの端部を構成する原子を移動させる第3工程とを含む。
【選択図】図2
Description
本発明は、SOI基板の製造方法に関する。
2枚の基板を結合させる工程を経てSOI(Semiconductor On Insulator)基板を製造する方法の代表的として、次のような方法を挙げることができる。
第1の方法は、酸化膜を介して結合させた2枚の基板のうちの一方の基板を裏面から研削及び研磨して、酸化膜の上に所望の厚さの半導体層(SOI層)を残すものである。
第2の方法は、多孔質Siを用いる技術である(特許文献1参照)。この技術における代表的なプロセスは、シード基板に多孔質Si層、エピタキシャルSi層及び酸化膜を順に形成した後に、この基板をハンドル基板に結合させて結合基板を作製し、その後、多孔質層を利用して結合基板を分割するというものである。
第3の方法は、水素イオン注入を用いる技術である(特許文献2参照)。この技術における代表的なプロセスは、Si基板に酸化膜を形成した後に水素イオン又は希ガスイオンを注入してイオン注入層を形成し、この基板をハンドル基板に結合させて結合基板を作製し、熱処理によりイオン注入層を微小空洞層に変質させることにより結合基板を分割するというものである。
以上のような製造方法によって製造されるSOI基板は、その側面に絶縁膜(SiO2)が露出した構造を有する。その結果、SOI基板にトランジスタ等のデバイスを形成するプロセスにおいて、SOI基板の側面に露出している絶縁膜(SiO2)が選択的にエッチングされて、該絶縁層の上のSOI層がテラス状に浮いて強度が弱くなる。これによって、SOI層が剥離してSi破片が発生し、これが基板表面を損傷させて歩留まり低下の一要因となることが懸念される。
このような課題を解決する技術として、特許文献3には、Si基板の外周部をSi3N4膜でマスキングし、Si基板の中央部を酸化させた後に表面を研磨することによって、周辺部分がSiで囲まれた酸化膜を有する第1基板を作製し、これを第2基板と結合させてSOI基板を作製する技術が開示されている。
特開平5−21338号公報
特開平5−211128号公報
特開平8−195483号公報
特許文献3に記載された方法によれば、SOI基板の側面に酸化膜が露出しないので、デバイス製造プロセス中に酸化膜がエッチングされることに起因してSOI層が剥離する問題が解決されうる。
しかしながら、特許文献3に記載された方法では、Si基板の外周部をマスキングする工程や、酸化工程後の研磨工程が必要であるために、SOI基板の製造工程が複雑化する。
本発明は、上記の課題認識を基礎としてなされたものであり、例えば、側面に絶縁体が露出していないSOI基板を製造するプロセスを簡略化することを目的とする。
本発明は、SOI基板の製造方法に係り、該製造方法は、第1基板と第2基板との結合を経て半導体部材の上に絶縁層及び半導体層を順に有する構造体を形成する第1工程と、前記構造体の前記絶縁層の端部を中心方向に後退させて、前記半導体層の端部を前記絶縁層の端部に対してオーバーハングさせる第2工程と、前記半導体層の端部が前記絶縁層の周囲を覆うとともに前記半導体部材に接合するように、前記半導体層の端部を構成する原子を移動させる第3工程とを含む。
本発明の好適な実施形態によれば、前記第3工程は、前記第2工程を経た構造体を水素を含む還元性雰囲気中で熱処理する工程を含むことが好ましい。
本発明の好適な実施形態によれば、前記半導体層、或いは、前記半導体層及び前記半導体部材の双方がシリコンを含みうる。
本発明の好適な実施形態によれば、前記絶縁層はシリコン酸化物を含みうる。
本発明の好適な実施形態によれば、前記第2工程は、前記絶縁層を選択的にエッチングするエッチング液により前記構造体の側面に露出している絶縁層の端部をエッチングする工程を含みうる。
本発明の好適な実施形態によれば、前記第1工程は、第1基板と第2基板とを結合させて半導体部材の上に絶縁層及び第2半導体部材を順に有する結合基板を形成する工程と、前記第2半導体部材の一部を前記半導体層として残すように前記第2半導体部材の他の部分を除去する工程とを含みうる。
或いは、前記第1工程は、分離層の上に半導体層を有する第1基板と半導体部材を含む第2基板とを絶縁層を介して結合させて結合基板を形成する工程と、前記分離層を利用して前記結合基板を分割する工程とを含みうる。ここで、前記分離層は、例えば、陽極化成又はイオン注入によって形成されうる。
本発明によれば、例えば、側面に絶縁体が露出していないSOI基板を製造するプロセスを簡略化することができる。
以下、添付図面を参照して本発明の好適な実施の形態を詳細に説明する。
[第1実施形態]
以下、本発明の好適な第1実施形態に係る基板の作製方法について説明する。図1は、本発明の好適な第1の実施形態に係るSOI(Semiconductor On Insulator)基板の作製方法を模式的に示す図である。
以下、本発明の好適な第1実施形態に係る基板の作製方法について説明する。図1は、本発明の好適な第1の実施形態に係るSOI(Semiconductor On Insulator)基板の作製方法を模式的に示す図である。
まず、図1(a)に示す工程では、第1基板101を用意して、その主表面上に絶縁層102を形成する。第1基板101としては、例えば、単結晶Si層、多結晶Si層、非晶質Si層等のSi層、Ge層、SiGe層、SiC層、C層、GaAs層、GaN層、AlGaAs層、InGaAs層、InP層、InAs層等が好適である。絶縁層102の材料としては、例えば、酸化シリコン、窒化シリコン、酸化窒化シリコン、酸化アルミニウム、酸化タンタル、酸化ハフニウム、酸化チタン、酸化スカンジウム、酸化イットリウム、酸化ガドリニウム、酸化ランタン、酸化ジルコニウム、及びこれらの混合物ガラス等が好適である。絶縁層102は、例えば、第1基板101の表面を酸化させたり、CVD法又はPVD法により絶縁物質を堆積させたりすることにより形成され得る。なお、第2基板111がその表面に絶縁体を有する場合には、絶縁層102を形成する工程を省略してもよい。
次いで、図1(b)に示す工程では、第2基板111を準備する。第2基板111としては、例えば、Si基板、Ge基板、SiGe基板、SiC基板、C基板、GaAs基板、GaN基板、AlGaAs基板、InGaAs基板、InP基板、InAs基板、これらの基板上に絶縁層を形成した基板、石英等の光透過性の基板、サファイヤ等が好適である。しかし、第2基板111は、結合に供される面が十分に平坦であれば十分であり、他の種類の基板であってもよい。
次いで、図1(c)に示す工程では、第1基板101と第2基板111とを、第2基板111と絶縁層102とが面するように室温で密着させて結合基板120を形成する。なお、絶縁層102は、上記のように第1基板101側に形成してもよいし、第2基板111側に形成してもよく、両者に形成してもよい。次いで、第1基板101と第2基板111とが完全に密着した後、必要に応じて、両者の結合を強固にする処理を実施する。この処理の一例としては、例えば、1)N2雰囲気、1100℃、10minの条件で熱処理を実施し、2)O2/H2雰囲気、1100℃、50〜100minの条件で熱処理(酸化処理)を実施する処理が好適である。
次いで、図1(d)に示す工程では、第1基板101をその主表面の反対側の面から研削し薄膜化して半導体層101aを形成する。典型的には、第1基板101及び第2基板111は、ベベリング部を有し、結合基板120は、その周辺部に、第1基板101のベベリング部及び第2基板111のベベリング部によって形成される隙間を有する。したがって、研削によって第1基板101が薄膜化される際に、第1基板101の周辺部及び絶縁層102の周辺部(すなわち、第2基板111によって支持されていない部分)が失われて、半導体層101a及び絶縁層102aは、元の第1基板101及び絶縁層102よりも面積が小さくなり得る。この工程により、支持部材としての第2基板111の上に埋め込み絶縁体としての絶縁層102aを有し、その上に半導体層(SOI層)101aを有するSOI基板130が得られる。
次いで、図1(e)に示す工程では、絶縁層102aの周辺部をエッチング等によって除去することにより、絶縁層102aの端部の位置を内側(中心方向)に後退させる。この処理は、絶縁層102aを半導体層101aに対して選択エッチングすることができるエッチング液を用いて行うことができる。例えば、半導体層101aがSiで構成され、絶縁層102aがSiO2層で構成されている場合は、SOI基板130の端部にフッ化水素酸含有液を提供することにより、絶縁層102aの端部の位置を内側(中心方向)に後退させることができる。この工程により、半導体層101aが絶縁層102bに対してオーバーハングした構造を得ることができる。
次いで、図1(f)に示す工程では、半導体層101aの周辺部分を垂下させて第2基板111に接合させる。これにより、周辺部分がなだらかで、絶縁層102bの端部を覆い隠す半導体層(SOI層)101bを有するSOI基板130”を得ることができる。このようなSOI基板130”は、絶縁層102bの端部が半導体層101bで覆われているために、SOI基板130にトランジスタ等のデバイスを形成するデバイス製造プロセスにおいて、絶縁層102bがエッチング等されてその上の半導体層101bが剥がれ落ちるといった不具合を生じさせない点で優れている。
この工程は、水素を含む還元性雰囲気中でのSOI基板130’の熱処理を含みうる。例えば、1)N2/H2雰囲気、1050℃、3時間での熱処理を実施し、次いで、2)N2/H2雰囲気、1200℃、15分の条件で熱処理を実施する処理が好適である。
このような水素を含む還元性雰囲気中における熱処理により、絶縁層(例えば、SiO2層)102bの端部が還元反応(SiO2+H2→SiO↑+H2O↑)によってエッチングされるとともに、熱によって半導体層(例えば、Si層)101aの端部の原始が移動(マイグレーション)することによって該端部が垂下し第2基板(例えば、Si基板)111と結晶レベルで接合される。この熱処理は、SOI基板(SOI層)の表面の平坦性を向上させる効果もある。
[第2実施形態]
以下、本発明の好適な第2実施形態に係る基板の作製方法について説明する。図2は、本発明の好適な第2の実施形態に係るSOI基板の作製方法を示す概念図である。
以下、本発明の好適な第2実施形態に係る基板の作製方法について説明する。図2は、本発明の好適な第2の実施形態に係るSOI基板の作製方法を示す概念図である。
まず、図2(a)に示す工程では、Si基板等の第1基板201を用意して、その主表面上に分離層としての多孔質層(分離層)202を形成する。多孔質層202は、例えば、電解液(化成液)中で第1基板201に陽極化成処理(陽極処理)を施すことによって形成することができる。
ここで、電解液としては、例えば、(1)弗化水素を含む溶液、(2)弗化水素及びエタノールを含む溶液、又は、(3)弗化水素及びイソプロピルアルコールを含む溶液等が好適である。また、多孔質層202を互いに多孔度の異なる2層以上の層からなる多層構造としてもよい。ここで、多層構造の多孔質層202は、表面側に第1の多孔度を有する第1の多孔質層、その下に、第1の多孔度より大きい第2の多孔度を有する第2の多孔質層を含むことが好ましい。ここで、第1の多孔度としては、10%〜30%が好ましく、15%〜25%が更に好ましい。また、第2の多孔度としては、35%〜70%が好ましく、40%〜60%が更に好ましい。
次いで、多孔質Si層202上に第1非多孔質層としての半導体層203を形成する。半導体層203としては、例えば、単結晶Si層、多結晶Si層、非晶質Si層等のSi層、Ge層、SiGe層、SiC層、C層、GaAs層、GaN層、AlGaAs層、InGaAs層、InP層、InAs層等が好適である。
次いで、半導体層203の上に第2非多孔質層としての絶縁層204を形成する。絶縁層204の絶縁体材料としては、例えば、酸化シリコン、窒化シリコン、酸化窒化シリコン、酸化アルミニウム、酸化タンタル、酸化ハフニウム、酸化チタン、酸化スカンジウム、酸化イットリウム、酸化ガドリニウム、酸化ランタン、酸化ジルコニウム、及びこれらの混合物ガラス等が好適である。
次いで、図2(b)に示す工程では、第2基板211を準備する。第2基板211としては、例えば、Si基板、Ge基板、SiGe基板、SiC基板、C基板、GaAs基板、GaN基板、AlGaAs基板、InGaAs基板、InP基板、InAs基板、これらの基板上に絶縁層を形成した基板、石英等の光透過性の基板、サファイヤ等が好適である。しかし、第2の基板211は、結合に供される面が十分に平坦であれば十分であり、他の種類の基板であってもよい。
次いで、図2(c)に示す工程では、多孔質層202及び非多孔質層203、204が形成された第1基板210と第2の基板211とを、第2基板211と絶縁層204とが面するように室温で密着させて結合基板220を形成し、必要に応じて、両者の結合を強固にする処理を実施する。この処理は、上述の図1(c)に示す工程と同様にして実施されうる。
次いで、図2(c)に示す工程では、結合基板220を機械的強度が脆弱な多孔質層202を境として2分割する。この分割方法としては、各種の方法を採用しうるが、例えば、流体を多孔質層202に打ち込む方法、或いは、流体により多孔質層202に静圧を印加する方法など、流体を利用する方法が好ましい。
この分割工程により、半導体層203及び絶縁層204が第2基板211上に移設される。ここで、典型的には、第1基板201及び第2基板211は、ベベリング部を有し、結合基板220は、その周辺部に、第1基板201のベベリング部及び第2基板111のベベリング部によって形成される隙間を有する。分割工程では、最初に、ベベリング部によって形成された隙間に亀裂が生じ、その後に、その亀裂が多孔質層202に到達することが多い。したがって、分割工程において、半導体層203及び絶縁層204の周辺部が失われて、半導体層203b及び絶縁層204bは、元の半導体層203及び絶縁層204よりも面積が小さくなり得る。この工程により、支持部材としての第2基板211の上に埋め込み絶縁体としての絶縁層204bを有し、その上に半導体層203bを有するSOI基板230が得られる。
次いで、図2(e)に示す工程では、必要に応じて残留多孔質層202bを除去した後に、絶縁層204bの周辺部をエッチング等によって除去することにより、絶縁層204bの端部の位置を内側(中心方向)に後退させる。この処理は、絶縁層204bを半導体層203bに対して選択エッチングすることができるエッチング液を用いて行うことができる。例えば、半導体層203bがSiで構成され、絶縁層204bがSiO2層で構成されている場合は、SOI基板230の端部にフッ化水素酸含有液を提供することにより、絶縁層204bの端部の位置を内側(中心方向)に後退させることができる。この工程により、半導体層203cが絶縁層204cに対してオーバーハングした構造を得ることができる。図4は、図2(e)に示す処理がなされた後の基板230’の一例を示すSEM写真である。
次いで、図2(f)に示す工程では、半導体層203cの周辺部分を垂下させて第2基板211に接合させる。これにより、周辺部分がなだらかで、絶縁層204cの端部を覆い隠す半導体層(SOI層)203dを有するSOI基板230”を得ることができる。図5は、図2(f)に示す処理がなされた後のSOI基板20”の一例を示すSEM写真である。このようなSOI基板230”は、絶縁層204cの端部が半導体層203dで覆われているために、SOI基板230”にデバイスを形成するデバイス製造プロセスにおいて、絶縁層204cがエッチング等されてその上の半導体層203dが剥がれ落ちるといった不具合を生じさせない点で優れている。
この工程は、水素を含む還元性雰囲気中でのSOI基板230’の熱処理を含みうる。例えば、1)N2/H2雰囲気、1050℃、3時間での熱処理を実施し、次いで、2)N2/H2雰囲気、1200℃、15分の条件で熱処理を実施する処理が好適である。
このような水素を含む還元性雰囲気中における熱処理により、絶縁層(例えば、SiO2層)204cの端部が還元反応によってエッチングされるとともに、熱によって半導体層(例えば、Si層)203cの端部の原始が移動(マイグレーション)することによって該端部が垂下し第2基板(例えば、Si基板)211と結晶レベルで接合される。
[第3実施形態]
以下、本発明の第3実施の形態に係る基板の作製方法について説明する。図3は、本発明の好適な第3実施形態に係るSOI基板の作製方法を示す概念図である。
以下、本発明の第3実施の形態に係る基板の作製方法について説明する。図3は、本発明の好適な第3実施形態に係るSOI基板の作製方法を示す概念図である。
まず、図3(a)に示す工程では、Si等の半導体からなる第1基板201を用意して、まず、その主表面上に絶縁層204を形成し、次いで、第1基板201の所定深さの領域に水素イオン等のイオンを注入して分離層としてのイオン注入層(分離層)202を形成する。このとき、第1基板201の全体のうちイオン注入層202よりも浅い領域は半導体層203となる。イオン注入層202は、熱処理により微小空洞層(微小空洞層は、多孔質層の一種として考えることができる)となる。したがって、このような方法によっても第2実施形態における第1基板210とほぼ同様の構造体を得ることができる。
次いで、図3(b)に示す工程では、第2基板211を準備する。第2基板211としては、例えば、Si基板、Ge基板、SiGe基板、SiC基板、C基板、GaAs基板、GaN基板、AlGaAs基板、InGaAs基板、InP基板、InAs基板、これらの基板上に絶縁層を形成した基板、石英等の光透過性の基板、サファイヤ等が好適である。しかし、第2の基板211は、結合に供される面が十分に平坦であれば十分であり、他の種類の基板であってもよい。
次いで、図3(c)に示す工程では、イオン注入層202、半導体層203及び絶縁層204を有する第1基板210と第2の基板211とを、第2基板211と絶縁層204とが面するように室温で密着させて結合基板220を形成する。
次いで、図3(d)に示す工程では、結合基板220に450〜550℃の熱処理を加えることによって、イオン注入層202を微小空洞層に変質させ、微小空洞層において劈開性分離を生じさせることにより結合基板230を2分割する。ここで、典型的には、劈開性分離は、応力が発生し易い中央部(周辺部の内側)で起こり易く、結合基板220の分割は、周辺部分で劈開性分離が起こる前に完了することが多い。したがって、分割工程において、半導体層203及び絶縁層204の周辺部が失われて、分割工程後の半導体層203b及び絶縁層204bは、元の半導体層203及び絶縁層204よりも面積が小さくなり得る。この工程により、支持部材としての第2基板211の上に埋め込み絶縁体としての絶縁層204bを有し、その上に半導体層203bを有するSOI基板230が得られる。
次いで、図3(e)に示す工程では、必要に応じて残留微小空洞層(残留多孔質層)202bを除去した後に、絶縁層204bの周辺部をエッチング等によって除去することにより、絶縁層204bの端部の位置を内側(中心方向)に後退させる。この処理は、絶縁層204bを半導体層203bに対して選択エッチングすることができるエッチング液を用いて行うことができる。例えば、半導体層203bがSiで構成され、絶縁層204bがSiO2層で構成されている場合は、SOI基板230の端部にフッ化水素酸含有液を提供することにより、絶縁層204bの端部の位置を内側(中心方向)に後退させることができる。この工程により、半導体層203cが絶縁層204cに対してオーバーハングした構造を得ることができる。
次いで、図3(f)に示す工程では、半導体層203cの周辺部分を垂下させて第2基板211に接合させる。これにより、周辺部分がなだらかで、絶縁層204cの端部を覆い隠す半導体層(SOI層)203dを有するSOI基板230”を得ることができる。このようなSOI基板230”は、絶縁層204cの端部が半導体層203dで覆われているために、SOI基板230”にデバイスを形成するデバイス製造プロセスにおいて、絶縁層204cがエッチング等されてその上の半導体層203dが剥がれ落ちるといった不具合を生じさせない点で優れている。
この工程は、水素を含む還元性雰囲気中でのSOI基板230’の熱処理を含みうる。例えば、1)N2/H2雰囲気、1050℃、3時間での熱処理を実施し、次いで、2)N2/H2雰囲気、1200℃、15分の条件で熱処理を実施する処理が好適である。
このような水素を含む還元性雰囲気中における熱処理により、絶縁層(例えば、SiO2層)204cの端部が還元反応によってエッチングされるとともに、熱によって半導体層(例えば、Si層)203cの端部の原始が移動(マイグレーション)することによって該端部が垂下し第2基板(例えば、Si基板)211と結晶レベルで接合される。
以下、本発明の幾つかの実施例を挙げるが、これらの実施例は、本発明の範囲を制限することを意図したものではない。
(実施例1)
この実施例は、上記の第1実施形態に対応するものである。
まず、725μmの厚さを有するSi基板101を用意して、その主表面を熱酸化して75nmのSiO2層102を形成した(図1(a))。
この実施例は、上記の第1実施形態に対応するものである。
まず、725μmの厚さを有するSi基板101を用意して、その主表面を熱酸化して75nmのSiO2層102を形成した(図1(a))。
次いで、Si基板101のSiO2層102をSi基板110に結合させ、1000℃、130分の熱処理によりSiO2層102とSi基板111との結合を強化した(図1(b)、(c))。
次いで、Si基板101の裏面(露出面)をグラインダーによって715μm研削し、更にコロイダルシリカを砥粒として鏡面研磨を行い、SiO2層102の上にSi膜101が2μmの厚みで残るようにしてSOIウエハ130を得た(図1(d))。
次いで、フッ化水素酸によって絶縁層102aの端部の位置を内側(中心方向)に後退させ(図1(e))、更に、N2/H2雰囲気、1050℃、3時間の熱処理を実施して、半導体層101aの周辺部分をなだらかにしつつSi基板111に接合させた(図1(f))。これにより、周辺部分がなだらかで、絶縁層102bの端部を覆い隠す半導体層(SOI層)101bを有するSOI基板130”を得ることができた。
(実施例2)
この実施例は、上記の第2実施形態に対応するものである。
Si基板201として、P型(100)の比抵抗0.01ΩcmSi基板を準備し、Si基板201を洗浄した後に陽極化成を行った。陽極化成は、49%フッ化水素酸溶液とアルコール溶液を1:1の割合で混合した溶液を使用し、14分間、電流密度10mA/cm2という条件で行った。多孔質化されたSi層202の厚みは15μmであった(図2(a))。
この実施例は、上記の第2実施形態に対応するものである。
Si基板201として、P型(100)の比抵抗0.01ΩcmSi基板を準備し、Si基板201を洗浄した後に陽極化成を行った。陽極化成は、49%フッ化水素酸溶液とアルコール溶液を1:1の割合で混合した溶液を使用し、14分間、電流密度10mA/cm2という条件で行った。多孔質化されたSi層202の厚みは15μmであった(図2(a))。
次いで、酸素雰囲気で400℃、60分間の熱処理を行って多孔質Si層202の表面を安定化させた。その後、多孔質Si層202上にSiをエピタキシャル成長させて、1μmのエピタキシャルSi層203を形成した。エピタキシャル層203の結晶の品質を調べるためにseccoエッチングなどの結晶欠陥の評価を行ったが、欠陥は観察されなかった。次いで、エピタキシャルSi層203を熱酸化して、エピタキシャルSi層203上に75nmのSiO2膜204を形成した(図2(a))。
次いで、Si基板201上に形成されたSiO2膜204とSi基板211とを結合させ、その後、1000℃、130分の熱処理を行って、SiO2膜204とSi基板211との結合を強化した。(図2(b)、(c))
次いで、ウオータージェットによる流体くさびを多孔質Si層202に打ち込むことにより、多孔質Si層202を境として結合基板220を2分割し、多孔質Si層202b/エピタキシャルSi層203b/熱酸化膜層204b/Si基板211の積層構造を有する基板230を得た(図2(d))。
次いで、ウオータージェットによる流体くさびを多孔質Si層202に打ち込むことにより、多孔質Si層202を境として結合基板220を2分割し、多孔質Si層202b/エピタキシャルSi層203b/熱酸化膜層204b/Si基板211の積層構造を有する基板230を得た(図2(d))。
次いで、フッ化水素酸溶液と過酸化水素水溶液の混合液を用い、外部から超音波を与えて多孔質Si層202bをエッチングした。この溶液における多孔質Si層202bとエピタキシャルSi層203bのエッチング速度差は約10万倍程度であり、エピタキシャルSi層203bにダメージを与えることなく多孔質Si層202bをエッチングすることができた。
次いで、フッ化水素酸によって絶縁層204bの端部の位置を内側(中心方向)に後退させ(図2(e))、更に、N2/H2雰囲気、1050℃、3時間の熱処理を実施して、絶縁層203dの周辺部分をなだらかにしつつSi基板211に接合させた(図2(f))。これにより、周辺部分がなだらかで、絶縁層204cの端部を覆い隠す半導体層(SOI層)203dを有するSOI基板230”を得ることができた。
(実施例3)
この実施例は、上記の第2実施形態に対応するものである。
まず、725μmの厚みを持つSi基板201を準備し、熱酸化を行って表面に75nmのSiO2層204を形成した(図3(a))。次に、この基板の所定深さの領域に水素イオンを注入してイオン注入層202を形成した。第1基板201の全体のうちイオン注入層202よりも浅い領域は半導体層203となる。
次いで、Si基板301上のSiO2層204にSi基板211を結合させて結合基板220を得た(図3(b)、(c))。
この実施例は、上記の第2実施形態に対応するものである。
まず、725μmの厚みを持つSi基板201を準備し、熱酸化を行って表面に75nmのSiO2層204を形成した(図3(a))。次に、この基板の所定深さの領域に水素イオンを注入してイオン注入層202を形成した。第1基板201の全体のうちイオン注入層202よりも浅い領域は半導体層203となる。
次いで、Si基板301上のSiO2層204にSi基板211を結合させて結合基板220を得た(図3(b)、(c))。
次いで、結合基板220に450〜550℃の熱処理を加えることにより、イオン注入層202を微小空洞層に変質させ、この微小空洞層において劈開性分離を生じさせることにより結合基板220を2分割した(図3(d))。これにより、第2基板211の上に埋め込み絶縁体としての絶縁層204bを有し、その上に半導体層203bを有するSOI基板230が得られた。
次いで、残留微小空洞層202bを除去した後に、絶縁層204bの周辺部をエッチング等によって除去することにより、絶縁層204bの端部の位置を内側(中心方向)に後退させ(図3(e))、更に、N2/H2雰囲気、1050℃、3時間の熱処理を実施して、絶縁層203dの周辺部分をなだらかにしつつSi基板211に接合させた(図3(f))。これにより、周辺部分がなだらかで、絶縁層204cの端部を覆い隠す半導体層(SOI層)203dを有するSOI基板230”を得ることができた。
101:第1基板、102:絶縁層、111:第2基板、101a、101b:半導体層、102a、102b:絶縁層、120:結合基板、130、130’、130”:SOI基板、201:第1基板、202、202a、202b:分離層、203、203a、203b、203c、203d:半導体層、204、204a、204b、204c:絶縁層、230、230’、230”:SOI基板
Claims (9)
- SOI基板の製造方法であって、
第1基板と第2基板との結合を経て半導体部材の上に絶縁層及び半導体層を順に有する構造体を形成する第1工程と、
前記構造体の前記絶縁層の端部を中心方向に後退させて、前記半導体層の端部を前記絶縁層の端部に対してオーバーハングさせる第2工程と、
前記半導体層の端部が前記絶縁層の周囲を覆うとともに前記半導体部材に接合するように、前記半導体層の端部を構成する原子を移動させる第3工程と、
を含むことを特徴とするSOI基板の製造方法。 - 前記第3工程は、前記第2工程を経た構造体を水素を含む還元性雰囲気中で熱処理する工程を含むことを特徴とする請求項1に記載のSOI基板の製造方法。
- 前記半導体層は、シリコンを含むことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のSOI基板の製造方法。
- 前記半導体層及び前記半導体部材は、シリコンを含むことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のSOI基板の製造方法。
- 前記絶縁層は、シリコン酸化物を含むことを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載のSOI基板の製造方法。
- 前記第2工程は、前記絶縁層を選択的にエッチングするエッチング液により前記構造体の側面に露出している絶縁層の端部をエッチングする工程を含むことを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載のSOI基板の製造方法。
- 前記第1工程は、
第1基板と第2基板とを結合させて半導体部材の上に絶縁層及び第2半導体部材を順に有する結合基板を形成する工程と、
前記第2半導体部材の一部を前記半導体層として残すように前記第2半導体部材の他の部分を除去する工程と、
を含むことを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載のSOI基板の製造方法。 - 前記第1工程は、
分離層の上に半導体層を有する第1基板と半導体部材を含む第2基板とを絶縁層を介して結合させて結合基板を形成する工程と、
前記分離層を利用して前記結合基板を分割する工程と、
を含むことを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載のSOI基板の製造方法。 - 前記分離層は、陽極化成又はイオン注入によって形成されることを特徴とする請求項8に記載のSOI基板の製造方法。
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