JP2006173344A - 基板保持装置及び基板保持方法並びに基板加熱装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 基板1が保持される保持テーブル21と、保持テーブル21を加熱する加熱手段と、保持テーブル21上に基板1を吸着させる吸着手段とを具備し、加熱手段によって加熱された保持テーブル21上に反りを生じた基板1が載置された際に、吸着手段28が、保持テーブル21の熱による基板1の反りの減少量に応じて、基板1の複数の領域をそれぞれ異なるタイミングで吸着保持させるようにする。
【選択図】 図3
Description
かかる第1の態様では、基板に割れ等を発生させることなく基板の反りを矯正して、基板を効率的に平坦化して保持テーブルに吸着保持させることができる。
かかる第2の態様では、基板の反りを良好に矯正して、基板をさらに効率的に平坦化して保持テーブルに吸着保持させることができる。
かかる第3の態様では、真空吸引等により基板を保持テーブルに吸着させることで、比較的簡単に、基板の異なる領域を異なるタイミングで保持テーブルに吸着保持させることができる。
かかる第4の態様では、基板の反りをさらに良好に矯正することができ、基板の割れ等の発生を確実に防止することができる。
かかる第5の態様では、基板上に形成されたレジスト等の膜を均一に加熱して、良好な膜を形成することができる。
かかる第6の態様では、基板に割れ等を発生させることなく基板の反りを矯正して、基板を効率的に平坦化して保持テーブルに吸着保持せることができる。
かかる第7の態様では、比較的割れやすい材料からなる基板を保持テーブル上に保持する場合でも、基板の割れ等を確実に防止して反りを矯正することができる。
かかる第8の態様では、基板の反りを効果的に矯正することができる。また、基板から容易に除去することができるため、製造効率を低下させることもない。
図1は、本発明の一実施形態に係るスリットコート式塗布装置の概略構成を示す斜視図であり、図2は、基板保持装置の平面図及び断面図である。なお、本実施形態では、このスリットコート式塗布装置によって、シリコンウェハである基板の表面に形成された例えば、金(Au)等からなる金属膜のパターニングに用いられるレジスト膜を形成している。また、この基板には、その表面に金属膜が形成されて基板と当該金属膜との応力関係が発生していること等により、裏面側が凸となるように反りが生じており、本発明では、この基板の反りを矯正しながら保持テーブルに吸着させることで効率的に基板を平坦化させ、保持テーブル上に基板を良好に吸着保持させるようにしている。
Claims (8)
- 基板が保持される保持テーブルと、該保持テーブルを加熱する加熱手段と、前記保持テーブル上に前記基板を吸着させる吸着手段とを具備し、前記加熱手段によって加熱された前記保持テーブル上に反りを生じた前記基板が載置された際に、前記吸着手段が、前記保持テーブルの熱による前記基板の反りの減少量に応じて、前記基板の複数の領域をそれぞれ異なるタイミングで吸着保持させることを特徴とする基板保持装置。
- 請求項1において、前記吸着手段が、複数の同心領域をそれぞれ異なるタイミングで吸着させることを特徴とする基板保持装置。
- 請求項1又は2において、前記保持テーブルには、一端が保持テーブルの表面に開口する複数の吸引孔を有し、前記吸着手段が前記吸引孔を介して前記基板を吸引する吸引手段であることを特徴とする基板保持装置。
- 請求項1〜3の何れかにおいて、少なくとも前記基板の周縁部での反り量を測定する測定手段をさらに具備することを特徴とする基板保持装置。
- 請求項1〜4の何れかの基板保持装置を具備することを特徴とする基板加熱装置。
- 保持テーブル上に基板を吸着保持させる基板保持方法であって、一方面側に基板の反りを矯正するための矯正用フィルムを貼着すると共に当該基板を前記矯正用フィルムが下側となるように前記保持テーブル上に載置し、この状態で前記基板を加熱し、この加熱による前記基板の反りの減少量に応じて当該基板の複数の領域をそれぞれ異なるタイミングで前記保持テーブル上に吸着させることを特徴とする基板保持方法。
- 請求項6において、前記基板が、シリコンウェハ又はガラス基板であることを特徴とする基板保持方法。
- 請求項7又は8において、前記反り矯正用フィルムが、加熱剥離フィルムであることを特徴とする基板保持方法。
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