JP5773731B2 - 真空処理装置 - Google Patents
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- 処理室内に設置される基板に対向配置されるマスクと、基板に対してマスクを相対移動させる移動手段と、基板からマスクに向かう方向を上、マスクから基板に向かう方向を下として、基板の上側に配置されて前記基板の片面に対してマスク越しに所定の処理を施す第1の処理手段と、基板の他面を覆うように当該基板の下側に配置される本体を有して前記基板の他面側から所定の処理を施す第2の処理手段と、を備え、
前記第2の処理手段の本体下側に撮像手段を設け、前記本体に上下方向の透孔を形成すると共に透孔内に透光性部材を埋め込んで撮像用光路を構成し、撮像用光路を通して前記撮像手段により基板に対するマスクの相対位置を撮像し、この撮像データを基に前記移動手段を制御するように構成し、
前記第2の処理手段は、基板の他面に面接触して伝熱により当該基板を所定温度に加熱する、上下方向に昇降自在な加熱プレートであり、加熱プレートを上昇させることにより、移動手段により移動させたマスクを加熱プレートで保持される基板に受け渡すように構成したことを特徴とする真空処理装置。 - 前記透光性部材をサファイヤ製としたことを特徴とする請求項1記載の真空処理装置。
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