JP2006171670A - 感光性樹脂組成物、薄膜表示板及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本発明は、基板、前記基板上に形成されている薄膜パターン、前記薄膜パターン上に形成され、アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物、界面活性剤及び溶剤を含有し、前記溶剤は、ジエチレングリコールジアルキルエーテル(アルキル基は1〜5個の炭素原子を有する)、3-エトキシプロピオン酸エチル、アルキルアセテート(アルキル基は3〜8個の炭素原子を有する)及びアルキルラクテート(アルキル基は1〜6個の炭素原子を有する)を含有する感光性樹脂組成物からなる絶縁膜を含む薄膜表示板及びその製造方法を提供する。
【選択図】なし
Description
本発明による感光性樹脂組成物は、アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド(Quinonediazide)化合物、界面活性剤及び溶剤を含んで構成される。
アミノエチル(メタ)アクリレートなどの不飽和カルボン酸アミノアルキルエステル;
酢酸ビニルまたはプロピオン酸ビニルなどのカルボン酸ビニルエステルなどから誘導される構成単位が含まれる。
(1)J.Polym.Sci.,Polym.Chem.(1968)、6(2)、p.257-267に記載のように、単量体及び重合開始剤を有機溶媒に混合し、必要に応じて連鎖移動剤を混合し、60〜300℃で溶液重合する方法、
(2)J.Polym.Sci.,Polym.Chem.(1983)、21(10)、p.2949-2960に記載のように、単量体が溶解されない溶媒を使用して、60〜300℃で懸濁重合または乳化重合する方法、
(3)特開平6-80735号に記載のように、60〜200℃で塊状重合する方法、
(4)特開平10-195111号に記載のように、使用する単量体等を連続的に重合容器に供給し、重合容器内に重合開始剤の存在又は非存在下で、180〜300℃で5〜60分間加熱し、得られた反応生成物を連続的に重合容器外に取出す方法等がある。
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンなどのケトン類;
エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジプロピルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、エチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、エーテルグリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、3-メトキシ-1-ブタノール、3-メチル-3-メトキシ-1-ブタノールなどのエーテル類;
エチルアセテート、ブチルアセテート、アミルアセテート(amyl acetate)、メチルラクテート、エチルラクテート、ブチルラクテート、3-メトキシブチルアセテート、3-メチル-3-メトキシ-1-ブチルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、1,3-プロパンジオールジアセテート、3-エトキシプロピオン酸エチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、2-ヒドロキシイソブタン酸メチル、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ブチロラクトンなどのエステル類;及び
トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素などがある。
構成単位(a1)及び(a2)を含む共重合体としては、例えば3-エチル-3-メタクリルオキシメチルオキセタン/ベンジルメタクリル酸/メタクリル酸共重合体、3-エチル-3-メタクリルオキシメチルオキセタン/ベンジルメタクリル酸/メタクリル酸/スチレン共重合体、3-エチル-3-メタクリルオキシメチルオキセタン/メタクリル酸/スチレン共重合体、3-エチル-3-メタクリルオキシメチルオキセタン/メタクリル酸/シクロヘキシルメタクリル酸共重合体、3-エチル-3-メタクリルオキシメチルオキセタン/メタクリル酸/メタクリル酸メチル共重合体、3-エチル-3-メタクリルオキシメチルオキセタン/メタクリル酸/メタクリル酸メチル/スチレン共重合体、3-エチル-3-メタクリルオキシメチルオキセタン/メタクリル酸/t-ブチルメタクリル酸共重合体、3-エチル-3-メタクリルオキシメチルオキセタン/メタクリル酸/イソボニルメタクリル酸共重合体、3-エチル-3-メタクリルオキシメチルオキセタン/メタクリル酸/ベンジルアクリル酸共重合体、3-エチル-3-メタクリルオキシメチルオキセタン/メタクリル酸/シクロヘキシルアクリル酸共重合体、3-エチル-3-メタクリルオキシメチルオキセタン/メタクリル酸/イソボニルアクリル酸共重合体、3-エチル-3-メタクリルオキシメチルオキセタン/メタクリル酸/ジシクロペンタニルメタクリル酸共重合体、または3-エチル-3-メタクリルオキシメチルオキセタン/メタクリル酸/t-ブチルアクリル酸共重合体、3-エチル-3-メタクリルオキシメチルオキセタン/メタクリル酸/フェニルマレイミド共重合体、3-エチル-3-メタクリルオキシメチルオキセタン/メタクリル酸/シクロヘキシルマレイミド共重合体などが挙げられる。
本発明による感光性樹脂組成物におけるキノンジアジド化合物としては、例えば1,2-ベンゾキノンジアジドスルホン酸エステル、1,2-ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル、1,2-ベンゾキノンジアジドスルホン酸アミドまたは1,2-ナフトキノンジアジドスルホン酸アミドなどが挙げられる。
2,2’,4,4’-テトラヒドロキシベンゾフェノン-1,2-ナフトキノンジアジド-4-スルホン酸エステル、2,2’,4,4’-テトラヒドロキシベンゾフェノン-1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸エステル、2,2’,4,3´-テトラヒドロキシベンゾフェノン-1,2-ナフトキノンジアジド-4-スルホン酸エステル、2,2’,4,3’-テトラヒドロキシベンゾフェノン-1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸エステル、2,3,4,4’-テトラヒドロキシベンゾフェノン-1,2-ナフトキノンジアジド-4-スルホン酸エステル、2,3,4,4’-テトラヒドロキシベンゾフェノン-1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸エステル、2,3,4,2’-テトラヒドロキシベンゾフェノン-1,2-ナフトキノンジアジド-4-スルホン酸エステル、2,3,4,2’-テトラヒドロキシベンゾフェノン-1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸エステル、2,3,4,4’-テトラヒドロキシ-3’-メトキシベンゾフェノン-1,2-ナフトキノンジアジド-4-スルホン酸エステル、または2,3,4,4’-テトラヒドロキシ-3’-メトキシベンゾフェノン-1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸エステルなどのテトラヒドロキシベンゾフェノン類の1,2-ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル;
2,3,4,2’,6’-ペンタヒドロキシベンゾフェノン-1,2-ナフトキノンジアジド-4-スルホン酸エステル、または2,3,4,2’,6’-ペンタヒドロキシベンゾフェノン-1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸エステルなどのペンタヒドロキシベンゾフェノン類の1,2-ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル;2,4,6,3’,4’,5’-ヘキサヒドロキシベンゾフェノン-1,2-ナフトキノンジアジド-4-スルホン酸エステル、2,4,6,3’,4’,5’-ヘキサヒドロキシベンゾフェノン-1,2-ナフトキノンジアジド-4-スルホン酸エステル、3,4,5,3’,4’,5’-ヘキサヒドロキシベンゾフェノン-1,2-ナフトキノンジアジド-4-スルホン酸エステル、または3,4,5,3’,4’,5’-ヘキサヒドロキシベンゾフェノン-1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸エステルなどのヘキサヒドロキシベンゾフェノン類の1,2-ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル;
ビス(2,4-ジヒドロキシフェニル)メタン-1,2-ナフトキノンジアジド-4-スルホン酸エステル、ビス(2,4-ジヒドロキシフェニル)メタン-1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸エステル、ビス(p-ヒドロキシフェニル)メタン-1,2-ナフトキノンジアジド-4-スルホン酸エステル、ビス(p-ヒドロキシフェニル)メタン-1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸エステル、1,1,1-トリ(p-ヒドロキシフェニル)エタン-1,2-ナフトキノンジアジド-4-スルホン酸エステル、1,1,1-トリ(p-ヒドロキシフェニル)エタン-1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸エステル、ビス(2,3,4-トリヒドロキシフェニル)メタン-1,2-ナフトキノンジアジド-4-スルホン酸エステル、ビス(2,3,4-トリヒドロキシフェニル)メタン-1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸エステル、2,2’-ビス(2,3,4-トリヒドロキシフェニル)プロパン-1,2-ナフトキノンジアジド-4-スルホン酸エステル、2,2’-ビス(2,3,4-トリヒドロキシフェニル)プロパン-1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸エステル、1,1,3-トリス(2,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニル)-3-フェニルプロパン-1,2-ナフトキノンジアジド-4-スルホン酸エステル、1,1,3-トリス(2,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニル)-3-フェニルプロパン-1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸エステル、
4,4’-[1-[4-[1-[4-ヒドロキシフェニル]-1-メチルエチル]フェニル]エチルリデン]ビスフェノール-1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸エステル、ビス(2,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニル)-2-ヒドロキシフェニルメタン-1,2-ナフトキノンジアジド-4-スルホン酸エステル、ビス(2,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニル)-2-ヒドロキシフェニルメタン-1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸エステル、3,3,3’,3’-テトラメチル-1,1’-スピロビインデン-5,6,7,5’,6’,7’-ヘキサノール-1,2-ナフトキノンジアジド-4-スルホン酸エステル、3,3,3’,3’-テトラメチル-1,1’-スピロビインデン-5,6,7,5’,6’,7’-ヘキサノール-1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸エステル、2,2,4-トリメチル-7,2’,4’-トリヒドロキシフラバン-1,2-ナフトキノンジアジド-4-スルホン酸エステル、または2,2,4-トリメチル-7,2’,4’-トリヒドロキシフラバン-1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸エステルなどの(ポリヒドロキシフェニル)アルカン類の1,2-ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルなどが含まれる。
本発明においてキノンジアジド化合物は、感光性樹脂組成物の総固形分に対して、好ましくは2〜50重量%、より好ましくは5〜40重量%含まれる。キノンジアジド化合物がこのような範囲で含まれる場合、未露光部と露光部との溶解速度差が大きくなり、現像後の残膜率が高く維持される。
有機フッ素系界面活性剤におけるのRf としては、パーフルオロn-ペンチレン基、パーフルオロn-ヘキシレン基、パーフルオロn-ヘプチレン基、パーフルオロn-オクチレン基、パーフルオロn-ノニレン基、パーフルオロn-デシレン基、パーフルオロ2-エチルヘキシレン基などが挙げられ、好ましくはパーフルオロn-ヘキシレン基、パーフルオロn-オクチレン基、パーフルオロn-デシレン基である。
Rとしては、エチレン基、n-プロピレン基、n-ブチレン基、ペンタメチレン基、イソプロピレン基、2-メチルn-プロピレン基、3-メチルn-プロピレン基、2-メチルn-ブチレン基、3-メチルn-ブチレン基及び2,2-ジメチルn-プロピレン基などが挙げられ、好ましくはエチレン基、n-プロピレン基及びイソプロピレン基が挙げられる。
yは、1〜20の整数があり、好ましくは5〜10の整数がある。
また、x及びyの組み合わせに関しては、上述した範囲内で任意に組み合わせることができ、上述した好ましい範囲内で組み合わせることが好ましい。
wは、1〜20の整数であり、好ましくは5〜10の整数である。
v及びwの組み合わせに関しては、上述した範囲内で任意に組み合わせることができ、好ましい範囲内で組み合わせることが好ましい。
lは、1〜20の整数であり、好ましくは1〜10の整数である。
m及びlの組み合わせに関しては、上述した範囲内で任意に組み合わせることができ、好ましい範囲内で組み合わせることが好ましい。
アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物及び界面活性剤は、溶剤を除く感光性樹脂組成物の総固形分に対して、それぞれ、50〜98重量%、2〜50重量%、3〜3,000ppm含まれることが好ましい。
この溶媒に、上述したアルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物及び界面活性剤を適正割合で混合することによって、塗布時に拡散性を向上させることができるとともに、乾燥時に適切な蒸発速度を維持することができる。
ジエチレングリコールメチルtert-ブチルエーテル、ジエチレングリコールメチルn-ペンチルエーテル、ジエチレングリコールエチルn-プロピルエーテル、ジエチレングリコールエチルイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールエチルn-ブチルエーテル、ジエチレングリコールエチルsec-ブチルエーテル、ジエチレングリコールエチルtert-ブチルエーテル、ジエチレングリコールエチルn-ペンチルエーテル、ジエチレングリコールn-プロピルイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールn-プロピルn-ブチルエーテル、ジエチレングリコールn-プロピルsec-ブチルエーテル、ジエチレングリコールn-プロピルtert-ブチルエーテル、ジエチレングリコールn-プロピルn-ペンチルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピルn-ブチルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピルsec-ブチルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピルtert-ブチルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピルn-ペンチルエーテル、ジエチレングリコールn-ブチルsec-ブチルエーテル、ジエチレングリコールn-ブチルtert-ブチルエーテル、ジエチレングリコールn-ブチルn-ペンチルエーテル、ジエチレングリコールsec-ブチルtert-ブチルエーテル、ジエチレングリコールsec-ブチルn-ペンチルエーテルが挙げられる。
溶剤は、他の有機溶剤と組み合わせて用いてもよい。
メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテートなどのエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類;
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類;
ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレンなどの芳香族炭化水素類;
メチルエチルケトン、アセトン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類;
エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、グリセリンなどのアルコール類;
3-メトキシプロピオン酸メチル、2-ヒドロキシイソブタン酸メチル、ラクテートエチル、アセテートアミル、ピロリン酸メチル、1,3-ブタンジオールジアセテートなどのエステル類などが挙げられる。
特に、スリット型ノズルを用いて感光性樹脂組成物を塗布する場合、このノズルが装備された塗布装置に適用する場合には、溶剤の含有量は、上記と同じ基準で75〜90重量%であるのが最も好ましい。また、スリット型ノズルで塗布する場合に感光性樹脂組成物が塗布される基板を回転させる場合、そのような機構が装備された塗布装置に適用する場合には、溶剤の含有量は、上記と同じ基準で65〜80重量%であるのが最も好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物は、アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物、界面活性剤及び溶剤の他に、カチオン重合開始剤、多価のフェノール化合物、架橋剤、重合性モノマー、シランカップリング剤等をさらに含有してもよい。
オニウムカチオンの例としては、ジフェニルヨード塩、ビス(p-トリル)ヨード塩、ビス(p-t-ブチルフェニル)ヨード塩、ビス(p-オクチルフェニル)ヨード塩、ビス(p-オクタデシルフェニル)ヨード塩、ビス(p-オクチルオキシフェニル)ヨード塩、ビス(p-オクタデシルオキシフェニル)ヨード塩、フェニル(p-オクタデシルオキシフェニル)ヨード塩、(p-トリル)(p-イソプロピルフェニル)ヨード塩、トリフェニルスルホン酸塩、トリス(p-トリル)スルホン酸塩、トリス(p-イソプロピルフェニル)スルホン酸塩、トリス(2,6-ジメチルフェニル)スルホン酸塩、トリス(p-t-ブチルフェニル)スルホン酸塩、トリス(p-シアノフェニル)スルホン酸塩、トリス(p-クロロフェニル)スルホン酸塩、
ジメチル(メトキシ)スルホン酸塩、ジメチル(エトキシ)スルホン酸塩、ジメチル(プロポキシ)スルホン酸塩、ジメチル(ブトキシ)スルホン酸塩、ジメチル(オクチルオキシ)スルホン酸塩、ジメチル(オクタデカンオキシ)スルホン酸、ジメチル(イソプロポキシ)スルホン酸塩、ジメチル(t-ブトキシ)スルホン酸塩、ジメチル(シクロペンチルオキシ)スルホン酸塩、ジメチル(シクロヘキシルオキシ)スルホン酸塩、ジメチル(フルオロメトキシ)スルホン酸塩、ジメチル(2-クロロエトキシ)スルホン酸塩、ジメチル(3-臭素プロポキシ)スルホン酸塩、ジメチル(4-シアノブトキシ)スルホン酸塩、ジメチル(8-ニトロオクチルオキシ)スルホン酸塩、ジメチル(18-トリフルオロメチルオクタデカンオキシ)スルホン酸塩、ジメチル(2-ヒドロキシイソプロポキシ)スルホン酸塩、またはジメチル(トリス(トリクロロメチル)メチル)スルホン酸塩などが挙げられる。
カチオン重合開始剤の具体的な例としては、ジフェニルヨード塩ヘキサフルオロホスファート、ビス(p-トリル)ヨード塩ヘキサフルオロホスファート、ビス(p-t-ブチルフェニル)ヨード塩ヘキサフルオロホスファート、ビス(p-オクチルフェニル)ヨード塩ヘキサフルオロホスファート、ビス(p-オクタデシルフェニル)ヨード塩ヘキサフルオロホスファート、ビス(p-オクチルオキシフェニル)ヨード塩ヘキサフルオロホスファート、ビス(p-オクタデシルオキシフェニル)ヨード塩ヘキサフルオロホスファート、フェニル(p-オクタデシルオキシフェンル)ヨード塩ヘキサフルオロホスファート、(p-トリル)(p-イソプロピルフェニル)ヨード塩ヘキサフルオロホスファート、メチルナフチルヨード塩ヘキサフルオロホスファート、
エチルナフチルヨード塩ヘキサフルオロホスファート、トリフェニルスルホン酸塩ヘキサフルオロホスファート、トリス(p-トリル)スルホン酸塩ヘキサフルオロホスファート、トリス(p-イソプロピルフェニル)スルホン酸塩ヘキサフルオロホスファート、トリス(2,6-ジメチルフェニル)スルホン酸塩ヘキサフルオロホスファート、トリス(p-t-ブチルフェニル)スルホン酸塩ヘキサフルオロホスファート、トリス(p-シアノフェニル)スルホン酸塩ヘキサフルオロホスファート、トリス(p-クロロフェニル)スルホン酸塩ヘキサフルオロホスファート、ジメチルナフチルスルホン酸塩ヘキサフルオロホスファート、ジエチルナフチルスルホン酸塩ヘキサフルオロホスファート、ジメチル(メトキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロホスファート、ジメチル(エトキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロホスファート、ジメチル(プロポキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロホスファート、ジメチル(ブトキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロホスファート、ジメチル(オクチルオキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロホスファート、ジメチル(オクタデカンオキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロホスファート、ジメチル(イソプロポキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロホスファート、
ジメチル(t-ブトキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロホスファート、ジメチル(シクロペンチルオキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロホスファート、ジメチル(シクロヘキシルオキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロホスファート、ジメチル(フルオロメトキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロホスファート、ジメチル(2-クロロエトキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロホスファート、ジメチル(3-臭素プロポキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロホスファート、ジメチル(4-シアノブトキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロホスファート、ジメチル(8-ニトロオクチルオキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロホスファート、ジメチル(18-トリフルオロメチルオクタデカンオキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロホスファート、ジメチル(2-ヒドロキシイソプロポキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロホスファート、ジメチル(トリス(トリクロロメチル)メチル)スルホン酸塩ヘキサフルオロホスファート、ジフェニルヨード塩ヘキサフルオロアルセナート、ビス(p-トリル)ヨード塩ヘキサフルオロアルセナート、ビス(p-オクチルフェニル)ヨード塩ヘキサフルオロアルセナート、ビス(p-オクタデシルフェニル)ヨード塩ヘキサフルオロアルセナート、ビス(p-オクチルオキシフェニル)ヨード塩ヘキサフルオロアルセナート、ビス(p-オクタデシルオキシフェニル)ヨード塩ヘキサフルオロアルセナート、フェニル(p-オクタデシルオキシフェニル)ヨード塩ヘキサフルオロアルセナート、
(p-トリル)(p-イソプロピルフェニル)ヨード塩ヘキサフルオロアルセナート、メチルナフチルヨード塩ヘキサフルオロアルセナート、エチルナフチルヨード塩ヘキサフルオロアルセナート、トリフェニルスルホン酸塩ヘキサフルオロアルセナート、トリス(p-トリル)スルホン酸塩ヘキサフルオロアルセナート、トリス(p-イソプロピルフェニル)スルホン酸塩ヘキサフルオロアルセナート、トリス(2,6-ジメチルフェニル)スルホン酸塩ヘキサフルオロアルセナート、トリス(p-t-ブチルフェニル)スルホン酸塩ヘキサフルオロアルセナート、トリス(p-シアノフェニル)スルホン酸塩ヘキサフルオロアルセナート、トリス(p-クロロフェニル)スルホン酸塩ヘキサフルオロアルセナート、ジメチルナフチルスルホン酸塩ヘキサフルオロアルセナート、ジエチルナフチルスルホン酸塩ヘキサフルオロアルセナート、ジメチル(メトキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロアルセナート、ジメチル(エトキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロアルセナート、
ジメチル(プロポキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロアルセナート、ジメチル(ブトキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロアルセナート、ジメチル(オクチルオキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロアルセナート、ジメチル(オクタデカンオキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロアルセナート、ジメチル(イソプロポキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロアルセナート、ジメチル(t-ブトキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロアルセナート、ジメチル(シクロペンチルオキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロアルセナート、ジメチル(シクロヘキシルオキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロアルセナート、ジメチル(フルオロメトキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロアルセナート、ジメチル(2-クロロエトキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロアルセナート、ジメチル(3-臭素プロポキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロアルセナート、ジメチル(4-シアノブトキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロアルセナート、ジメチル(8-ニトロオクチルオキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロアルセナート、ジメチル(18-トリフルオロメチルオクタデカンオキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロアルセナート、ジメチル(2-ヒドロキシイソプロポキシスルホン酸塩ヘキサフルオロアルセナート、
ジメチル(トリス(トリクロロメチル)メチル)スルホン酸塩ヘキサフルオロアルセナート、ジフェニルヨード塩ヘキサフルオロアンチモナート、ビス(p-トリル)ヨード塩ヘキサフルオロアンチモナート、ビス(p-t-ブチルフェニル)ヨード塩ヘキサフルオロアンチモナート、ビス(p-オクチルフェニル)ヨード塩ヘキサフルオロアンチモナート、ビス(p-オクタデシルフェニル)ヨード塩ヘキサフルオロアンチモナート、ビス(p-オクチルオキシフェニル)ヨード塩ヘキサフルオロアンチモナート、ビス(p-オクタデシルオキシフェニル)ヨード塩ヘキサフルオロアンチモナート、フェニル(p-オクタデシルオキシフェニル)ヨード塩ヘキサフルオロアンチモナート、(p-トリル)(p-イソプロピルフェニル)ヨード塩ヘキサフルオロアンチモナート、メチルナフチルヨード塩ヘキサフルオロアンチモナート、
エチルナフチルヨード塩ヘキサフルオロアンチモナート、トリフェニルスルホン酸塩ヘキサフルオロアンチモナート、トリス(p-トリル)スルホン酸塩フルオロアンチモナート、トリス(p-イソプロピルフェニル)スルホン酸塩ヘキサフルオロアンチモナート、トリス(2,6-ジメチルフェニル)スルホン酸塩ヘキサフルオロアンチモナート、トリス(p-t-ブチルフェニル)スルホン酸塩ヘキサフルオロアンチモナート、トリス(p-シアノフェニル)スルホン酸塩ヘキサフルオロアンチモナート、トリス(p-クロロフェニル)スルホン酸塩ヘキサフルオロアンチモナート、ジメチルナフチルスルホン酸塩ヘキサフルオロアンチモナート、ジエチルナフチルスルホン酸塩ヘキサフルオロアンチモナート、ジメチル(メトキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロアンチモナート、ジメチル(エトキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロアンチモナート、ジメチル(プロポキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロアンチモナート、ジメチル(ブトキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロアンチモナート、ジメチル(オクチルオキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロアンチモナート、ジメチル(オクタデカンオキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロアンチモナート、
ジメチル(イソプロポキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロアンチモナート、ジメチル(t-ブトキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロアンチモナート、ジメチル(シクロペンチルオキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロアンチモナート、ジメチル(シクロヘキシルオキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロアンチモナート、ジメチル(フルオロメトキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロアンチモナート、ジメチル(2-クロロエトキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロアンチモナート、ジメチル(3-臭素プロポキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロアンチモナート、ジメチル(4-シアノブトキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロアンチモナート、ジメチル(8-ニトロオクチルオキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロアンチモナート、ジメチル(18-トリフルオロメチルオクタデカンオキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロアンチモナート、ジメチル(2-ヒドロキシイソプロポキシ)スルホン酸塩ヘキサフルオロアンモネート、
ジメチル(トリス(トリクロロメチル)メチル)スルホン酸塩ヘキサフルオロアンチモナート、ジフェニルヨード塩テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ビス(p-トリル)ヨード塩テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ビス(p-t-ブチルフェニル)ヨード塩テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ビス(p-オクチルフェニル)ヨード塩テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ビス(p-オクタデシルフェニル)ヨード塩テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ビス(p-オクチルオキシフェニル)ヨード塩テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ビス(p-オクタデシルオキシフェニル)ヨード塩テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、フェニル(p-オクタデシルオキシフェニル)ヨード塩テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、(p-トリル)(p-イソプロピルフェニル)ヨード塩テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、メチルナフチルヨード塩テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、エチルナフチルヨード塩テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリフェニルスルホン酸塩テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリス(p-トリル)スルホン酸塩テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、
トリス(p-イソプロピルフェニル)スルホン酸塩テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリス(2,6-ジメチルフェニル)スルホン酸塩テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリス(p-t-ブチルフェニル)スルホン酸塩テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリス(p-シアノフェニル)スルホン酸塩テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリス(p-クロロフェニル)スルホン酸塩テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジメチルナフチルスルホン酸塩テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジエチルナフチルスルホン酸塩テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジメチル(メトキシ)スルホン酸塩テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジメチル(エトキシ)スルホン酸塩テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジメチル(プロポキシ)スルホン酸塩テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、
ジメチル(ブトキシ)スルホン酸塩テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジメチル(オクチルオキシ)スルホン酸塩テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジメチル(オクタデカンオキシ)スルホン酸塩テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジメチル(イソプロポキシ)スルホン酸塩テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジメチル(t-ブトキシ)スルホン酸塩テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジメチル(シクロペンチルオキシ)スルホン酸塩テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジメチル(シクロヘキシルオキシ)スルホン酸塩テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジメチル(フルオロメトキシ)スルホン酸塩テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジメチル(2-クロロエトキシ)スルホン酸塩テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジメチル(3-臭素プロポキシ)スルホン酸塩テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジメチル(4-シアノブトキシ)スルホン酸塩テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、
ジメチル(8-ニトロオクチルオキシ)スルホン酸塩テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジメチル(18-トリフルオロメチルオクタデカンオキシ)スルホン酸塩テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジメチル(2-ヒドロキシイソプロポキシ)スルホン酸塩テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジメチル(トリス(トリクロロメチル)メチル)スルホン酸塩テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートなどが挙げられる。
(p-トリル)(p-イソプロピルフェニル)ヨード塩ヘキサフルオロアンチモナート、ビス(p-t-ブチルフェニル)ヨード塩ヘキサフルオロアンチモナート、トリフェニルスルホン酸塩ヘキサフルオロアンチモナート、トリス(p-t-ブチルフェニル)スルホン酸塩ヘキサフルオロアンチモナート、ビス(p-トリル)ヨード塩テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、(p-トリル)(p-イソプロピルフェニル)ヨード塩テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ビス(p-t-ブチルフェニル)ヨード塩、トリフェニルスルホン酸塩テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリス(p-t-ブチルフェニル)スルホン酸塩テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートなどが挙げられる。
メチロール化合物としては、アルコキシメチル化メラミン樹脂及びアルコキシメチル化尿素樹脂などのアルコキシメチル化アミノ樹脂などが含まれる。
本発明の感光性樹脂組成物において架橋剤を用いるとき、感光性樹脂組成物の総固形分に対して、好ましくは0.01〜15重量%含まれる。架橋剤の含有量がこのような範囲であるとき、得られた膜の可視光透過率が増大し、硬化樹脂パターンとしての性能が向上する。
エポキシ基を含む化合物としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、フェノールノボラク型エポキシ樹脂、クレゾールノボラク型エポキシ樹脂、環状脂肪族エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂または複素環式エポキシ樹脂などが含まれる。
本発明の感光性樹脂組成物において重合性モノマーを使用するとき、感光性樹脂組成物の総固形分に対して、好ましくは0.001〜20重量%、より好ましくは0.01〜10重量%含まれている。
シランカップリング剤は、感光性樹脂組成物の全含量に対して、好ましくは0.01〜10重量%、より好ましくは0.1〜2重量%、最も好ましくは0.2〜1重量%含まれている。前記範囲のように含まれるとき、本発明の感光性樹脂組成物からなる硬化樹脂パターンと基材との密着性が向上する。
まず、透明ガラスなどからなる基板上に感光性樹脂組成物からなる層を形成した後、マスクによって露光し、現像する。この時、前記基板上には薄膜トランジスタ、カラーフィルタ、有機発光表示素子のような単一層または多層の薄膜パターンが形成されることもある。
現像液としては通常アルカリ水溶液を使用する。アルカリ水溶液としては、無機アルカリ性化合物または有機アルカリ性化合物を任意に選択することができる。
前記ノニオン系界面活性剤としては、例えばポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアリルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテルなどのポリオキシエチレン誘導体、オキシエチレン/オキシプロピレンブロック共重合体、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステルまたはポリオキシエチレンアルキルアミンなどが含まれる。
前記アンモニウム系界面活性剤としては、例えばラウリルアルコール硫酸エステルナトリウムまたはオレインアルコール硫酸エステルナトリウムなどの高級アルコール硫酸エステル塩;ラウリル硫酸ナトリウムまたはラウリル硫酸アンモニウムなどのアルキル硫酸塩;ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムまたはドデシルナフタレンスルホン酸ナトリウムなどのアルキルアリルスルホン酸塩などが含まれる。
実施例1:感光性樹脂組成物
(アルカリ可溶性樹脂の合成)
撹拌機、冷却管及び温度計を備えた200ml四角フラスコに、原料として、
メタクリル酸 6.8g
N-シクロヘキシルマレイミド 14.2g
3-エチル-3-メタクリルオキシメチルオクセタン 17.8g
3-エトキシプロピオン酸エチル 45.3g
ジエチレングリコールメチルエチルエーテル 45.3g
アゾビスイソブチロニトリル 1.1g
を入れた後、窒素(N2)雰囲気下で四角フラスコを油浴に浸漬してフラスコ内の温度を100〜110℃に維持して3時間攪拌することにより反応させた。その結果、アルカリ可溶性樹脂A1を得た。このアルカリ可溶性樹脂A1のポリスチレン換算重量平均分子量(Mw)は8,000であった。
装置:HLC-8120GPC
カラム:TSK-GELG4000HXL+TSK-GELG2000HXL(直列接続)
カラム温度:40℃
溶媒:THF
速度:1.0ml/分
注入量:50μl
検出器:RI
測定試料濃度:0.6重量%(溶媒:THF)
矯正用標準物質:TSK STANDARD POLYSTYRENE F-40、F-4、F-1、A-2500、A-500
(式(2)の第1のシリコン系化合物の合成)
フラスコ内に、下記式(4)で示された化合物、つまり分子鎖末端にアリル基を有し、他の末端がOH基で封鎖されているポリオキシエチレン204g、イソプロピルアルコール300g、塩化白金酸2%のイソプロピルアルコール溶液0.5g及び酢酸カリウム1gを入れて、これを均一に混合する。
滴下終了後、4時間反応させて、SiH基が形成されたことを確認し、その後、反応を終了した。
また、比較例として、以下の感光性樹脂組成物2〜6を製造した。
感光性樹脂組成物2の製造
溶剤として、エチル-s-乳酸557重量部及びブチルアセテート62重量部のみを含むこと以外は実施例1と同様に行い、感光性樹脂組成物2を得た。
感光性樹脂組成物3の製造
溶剤として、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル557重量部及びブチルアセテート62重量部のみを含むこと以外は実施例1と同様に行い、感光性樹脂組成物3を得た。
感光性樹脂組成物4の製造
溶剤として、3-エトキシプロピオン酸エチル251重量部、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル314重量部及びブチルアセテート63重量部のみを用いること以外は実施例1と同様に行い、感光性樹脂組成物4を得た。
感光性樹脂組成物5の製造
溶剤として、ブチルラクテート35重量部、3-エトキシプロピオン酸エチル314重量部及びジエチレングリコールメチルエチルエーテル349重量部のみを用いること以外は実施例1と同様に行い、感光性樹脂組成物5を得た。
感光性樹脂組成物6の製造
溶剤として、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル588重量部及びブチルアセテート31重量部のみを用いること以外は実施例1と同様に行い、感光性樹脂組成物組成物6を得た。
ムラ発生及び塗布均一性の評価
モリブデン金属が蒸着されているガラス基板6枚を用意して、大日本スクリーン社のスピン&スリットの感光性塗布装置を利用して感光性樹脂組成物1〜感光性樹脂組成物6をそれぞれ塗布した。その後、ホットプレートで100℃の温度にて、135秒間、プレベークして溶剤を除去した。
次いで、現像された基板を純水で洗浄し、乾燥した後、全面露光装置で2次露光を行った。その後、ホットプレートで130℃の温度にて160秒間ポストベークして、透明硬化樹脂パターンを形成した。
実施例2:薄膜表示板及びその製造方法
この実施例では、感光性樹脂組成物1からなる絶縁膜を含む薄膜トランジスタ表示板の製造方法について図面を参照して詳細に説明する。
図1は、本発明の一実施例による薄膜トランジスタ表示板の構造を示した配置図であり、図2は図1に示す薄膜トランジスタ表示板のII-II’線による断面図である。
ゲート絶縁膜140上には水素化非晶質シリコンなどからなる複数の線状半導体層151が形成されている。線状半導体層151は縦方向に延びており、ここから複数の突出部154がゲート電極124に向けて延びている。また、線状半導体層151は、ゲート線121と交差する領域付近で幅が大きくなってゲート線121の広い面積を覆っている。
島状オーミックコンタクト層163、165は、その下部の半導体層154とその上部のソース電極173及びドレイン電極175との間に存在し、接触抵抗を低くする役割をする。線状半導体層151は、ソース電極173とドレイン電極175間を始めとして、データ線171及びドレイン電極175で覆われずに露出された部分を有し、大部分の領域で線状半導体層151の幅がデータ線171の幅よりも小さいが、前記したように、ゲート線121と交差する部分で幅が大きくなってゲート線121とデータ線171との間の絶縁を強化する。
保護膜180は約1.0〜8.0μmの厚さに形成されている。
画素電極190は、コンタクトホール185、187を通じてドレイン電極175及びストレージキャパシタ用導電体177とそれぞれ物理的・電気的に連結されて、ドレイン電極175からデータ電圧が印加され、ストレージキャパシタ用導電体177にデータ電圧を伝達する。
図3A、図4A、図5A及び図6Aは、図1及び図2に示した薄膜トランジスタ表示板を本発明の一実施例によって製造する方法を工程順で示した薄膜トランジスタ表示板の配置図であり、図3Bは、図3Aに示すIIIB-IIIB’線による断面図であり、図4Bは、図4Aに示すIVB-IVB’線による断面図であり、図5Bは、図5Aに示すVB-VB’線による断面図であり、図6Bは、図6Aに示すVIB-VIB’線による断面図である。
ここで、金属層は、単一層または二層で形成することができるが、この実施例では、アルミニウム(Al)またはアルミニウムにネオジム(Nd)が所定量添加されたアルミニウム合金(Al-Nd)を含む第1の金属層124p、127p、129p及びモリブデン(Mo)を含む第2の金属層124q、127q、129qからなる二層で形成する。
保護膜180は、アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物、界面活性剤及びジエチレングリコールジアルキルエーテル(アルキル基は1〜5個の炭素原子を有する)、3-エトキシプロピオン酸エチル、アルキルアセテート(アルキル基は3〜8個の炭素原子を有する)及びアルキルラクテート(アルキル基は1〜6個の炭素原子を有する)を含有する溶剤を含む感光性樹脂組成物によって形成される。
乾燥後、得られたパターンの全面または一部に対して2次露光を行う。2次露光は、紫外線または遠紫外線を利用し、単位面積当り照射量が1次露光のときよりも多くなるように調節する。このような2次露光は、1次露光時に充分に露光されなかった部分を除去して、露光領域の残留物を最少化するためのものである。
この実施例は、前記した薄膜トランジスタ表示板の実施例にカラーフィルタがさらに加えられた構成である。
絶縁基板110上にゲート信号を伝達する複数のゲート線121が形成されている。ゲート線121は横方向に延びており、各ゲート線121の一部は、複数のゲート電極124、拡張部127及びゲート線の端部129を構成する。
ゲート絶縁膜140上には、水素化非晶質シリコンなどからなる複数の線状半導体層151が形成されている。線状半導体層151は縦方向に延びて、ここから複数の突出部154がゲート電極124に向けて延びている。また、線状半導体層151は、ゲート線121と交差する領域付近で幅が大きくなってゲート線121の広い面積を覆っている。
カラーフィルタ230R、230G、230Bは、データ線171によって区画される画素列に沿ってデータ線171と並ぶ方向に、赤、緑、青のカラーフィルタ230R、230G、230Bが長く延びて、画素列に交互に形成されている。
カラーフィルタ230R、230G、230B上には第2層間絶縁膜802が形成されている。第2層間絶縁膜802は、カラーフィルタ230R、230G、230Bの顔料が画素電極190に流入することを防止する。
まず、図9A及び図9Bのように、透明ガラスからなる絶縁基板110上に、アルミニウム(Al)またはアルミニウム合金からなる第1の金属層124p、127p、129pと、モリブデン(Mo)を含む第2の金属層124q、127q、129qを順次に積層して、ゲート電極124、拡張部127及びゲート線の端部129を含むゲート線121を形成する。次に、ゲート線121上にゲート絶縁膜140、半導体層151、154、オーミックコンタクト層161、163、165、データ線171及びドレイン電極175を形成する。
続いて、赤色、緑色、青色の顔料を含む感光性有機物質をそれぞれ順次に塗布し、それぞれのフォト工程によって赤、緑、青のカラーフィルタ230R、230G、230Bを順次に形成する。
乾燥後、得られたパターンの全面または一部に対して2次露光を行う。2次露光は、紫外線または遠紫外線を利用して、単位面積当り照射量が1次露光のときよりも多くなるように調節する。このような2次露光は、1次露光時に充分に露光されなかった部分を除去して、露光領域の残留物を最少化するためのものである。
最後に、図7及び図8に示すように、前記第2層間絶縁膜802上にITOまたはIZOをスパッタリング法で積層し、写真エッチング工程で複数の画素電極190及び複数の接触補助部材81、82を形成する。
110 絶縁基板
121 ゲート線
124 ゲート電極
129 ゲート線の端部
140 ゲート絶縁膜
150 真性非晶質シリコン層
160 不純物非晶質シリコン層
171 データ線
173 ソース電極
175 ドレイン電極
177 ストレージキャパシタ用導電体
179 データ線の端部
180 保護膜
181、182、185、187、189 コンタクトホール
190 画素電極
Claims (23)
- アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物、界面活性剤及び溶剤を含む感光性樹脂組成物であって、前記溶剤は、ジエチレングリコールジアルキルエーテル(アルキル基は1〜5個の炭素原子を有する)、3-エトキシプロピオン酸エチル、アルキルアセテート(アルキル基は3〜8個の炭素原子を有する)及びアルキルラクテート(アルキル基は1〜6個の炭素原子を有する)を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
- 前記溶剤は、溶剤の全含量に対して10〜70重量%のジエチレングリコールジアルキルエーテル、10〜70重量%の3-エトキシプロピオン酸エチル、1〜20重量%のアルキルアセテート及び1〜20重量%のアルキルラクテートを含有する請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記溶剤は、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、3-エトキシプロピオン酸エチル、ブチルアセテート及びブチルラクテートを含有する請求項1又は2に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記溶剤は、感光性樹脂組成物の全含量に対して50〜95重量%含まれてなる請求項1〜3のいずれか1つに記載の感光性樹脂組成物。
- 前記アルカリ可溶性樹脂は、感光性樹脂組成物の固形物(溶剤を除く)に対して50〜98重量%含まれてなる請求項1〜4のいずれか1つに記載の感光性樹脂組成物。
- 前記キノンジアジド化合物は、感光性樹脂組成物の固形物(溶剤を除く)に対して2〜50重量%含まれてなる請求項1〜5のいずれか1つに記載の感光性樹脂組成物。
- 前記界面活性剤は、感光性樹脂組成物の固形物に対して0.3重量%以下で含まれてなる請求項1〜6のいずれか1つに記載の感光性樹脂組成物。
- 前記感光性樹脂組成物は、カチオン重合開始剤、フェノール化合物、架橋剤、重合性モノマー及びシランカップリング剤のうちの少なくとも一つをさらに含有する請求項1〜7のいずれか1つに記載の感光性樹脂組成物。
- 前記界面活性剤は、式(1)で示される有機フッ素系化合物、式(2)で示される第1のシリコン系化合物及び式(3)で示される第2のシリコン系化合物
を含むことを特徴とする請求項1〜8のいずれか1つに記載の感光性樹脂組成物。 - 基板、
前記基板上に形成された薄膜パターン、
前記薄膜パターン上に、請求項1〜9のいずれか1つに記載の感光性樹脂組成物を用いて形成された絶縁膜を含むことを特徴とする薄膜表示板。 - 前記薄膜パターンは導電体からなる信号線を含む請求項10に記載の薄膜表示板。
- 前記薄膜パターンは、ゲート電極を備えるゲート線、前記ゲート線上に形成されてたゲート絶縁膜、前記ゲート絶縁膜上の所定領域に形成された半導体層、前記ゲート絶縁膜及び半導体層上に形成され、ソース電極を備えるデータ線及び前記ソース電極と所定間隔をおいて対向するドレイン電極を含む請求項10又は11に記載の薄膜表示板。
- 前記絶縁膜上に前記ドレイン電極と接続されている画素電極をさらに含む請求項12に記載の薄膜表示板。
- 前記絶縁膜上または下にカラーフィルタをさらに含む請求項10〜13のいずれか1つに記載の薄膜表示板。
- 基板上に薄膜パターンを形成する工程、
前記薄膜パターン上に、請求項1〜9のいずれか1つに記載の感光性樹脂組成物を塗布する工程、
前記感光性樹脂組成物を露光する工程及び
前記露光された感光性樹脂組成物を現像する工程を含むことを特徴とする薄膜表示板の製造方法。 - 前記感光性樹脂組成物を塗布する工程を、スリット型ノズルを用いて行う請求項15に記載の薄膜表示板の製造方法。
- 前記感光性樹脂組成物を1.0〜8.0μmの厚さに形成する請求項16に記載の薄膜表示板の製造方法。
- 前記感光性樹脂組成物を露光する工程以前に、前記感光性樹脂組成物から溶剤を除去する工程をさらに含む請求項16又は17に記載の薄膜表示板の製造方法。
- 前記感光性樹脂組成物を現像する工程以降に、露光する工程をさらに含む請求項16〜18のいずれか1つに記載の薄膜表示板の製造方法。
- 前記感光性樹脂組成物を現像する工程以降に、後硬化(post-bake)工程をさらに含む請求項16〜19のいずれか1つに記載の薄膜表示板の製造方法。
- 前記薄膜パターンを形成する工程は、基板上に導電体からなる信号線を設ける工程を含む請求項16〜20のいずれか1つに記載の薄膜表示板の製造方法。
- 前記薄膜パターンを形成する工程は、基板上にゲート電極を備えるゲート線を形成する工程、前記ゲート線上にゲート絶縁膜及び半導体層を順次に積層する工程、前記半導体層をエッチングする工程及び前記絶縁膜及び半導体層の上にソース電極を備えるデータ線と前記ソース電極と所定間隔を置いて対向しているドレイン電極とを形成する工程を含む請求項16〜21のいずれか1つに記載の薄膜表示板の製造方法。
- 前記感光性樹脂組成物を現像する工程において、感光性樹脂組成物が除去された領域を通じて前記ドレイン電極と接続される画素電極を形成する工程をさらに含む請求項22に記載の薄膜表示板の製造方法。
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