JP2014164305A - 感光性樹脂造成物及びこれを用いた表示装置 - Google Patents

感光性樹脂造成物及びこれを用いた表示装置 Download PDF

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柄 郁 金
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Abstract

【課題】平坦化特性を向上させた有機平坦化層用の感光性樹脂造成物及びこれを用いた表示装置を提供する。
【解決手段】本発明の表示基板の製造方法は、ベース基板上に複数個の信号配線を形成する段階と、信号配線上に高沸騰点グリコール系溶媒を含む感光性樹脂造成物で構成された有機層を形成する段階と、有機層を乾燥させて平坦化層を形成する段階と、平坦化層上に第1電極を形成する段階と、を有する。
【選択図】図4

Description

本発明は、感光性樹脂造成物及びこれを用いた表示装置に関し、より詳細には、感光性樹脂造成物及び感光性樹脂造成物を硬化させた有機平坦化層を含む表示装置に関する。
平面表示装置には、液晶表示装置、有機発光表示装置等が含まれる。表示装置は一般的に表示素子及びこれらを駆動する駆動素子を含む。薄膜トランジスターのような駆動素子は各種配線を通じて表示素子、電源部、及び駆動部に連結される。高解像度の表示装置であるほど、駆動素子及び信号配線の数が増加して複雑に配置される。
表示装置は上面に平坦面を提供するために平坦化層を形成する。平坦化層は上部に積層される構成の安定性を確保して均一な表示品質を提供する。
米国特許第7,416,832号明細書 米国特許出願公開第2009/0324831号明細書
本発明は、上記従来技術に鑑みてなされたものであって、本発明の目的は、平坦化特性を向上させた有機平坦化層用の感光性樹脂造成物を提供することにある。
また、本発明の目的は、複雑な回路配線をカバーする均一な有機平坦化層を含む表示装置を提供することにある。
上記目的を達成するためになされた本発明の一態様による感光性樹脂造成物は、アクリル系共重合体100重量部及び1,2−キノンジアジド化合物5〜100重量部を含む溶質10〜50重量%と、沸騰点が190℃以上であるグリコール系物質を含有する残部の溶媒と、を有し、前記アクリル系共重合体は、不飽和カルボン酸又はその無水物、エポキシ基含有不飽和化合物、及びオレフィン系不飽和化合物が共重合される。
前記アクリル系共重合体は、前記共重合された不飽和カルボン酸又はその無水物5〜45重量部と、前記エポキシ基含有不飽和化合物10〜70重量部と、前記オレフィン系不飽和化合物10〜70重量部と、を含み得る。
前記溶媒は、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチレングリコールブチルエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチレングリコールターシャリーブチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルヘキシルエーテル、ジエチレングリコールメチルヘキシルエーテル、ジプロピレングリコールブチルメチルエーテル、ジプロピレングリコールエチルヘキシルエーテル、及びジプロピレングリコールメチルヘキシルエーテルの中から選択された少なくともいずれか1つを含み得る。
前記溶媒は、アルコール、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート、エチレングリコールアルキルエーテルプロピオネート、エチレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールアルキルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、メチルベータメトキシプロピオネート、及びエチルベータエトキシプロピオネートの中から選択された少なくともいずれか1つを更に含み得る。
前記グリコール系物質は、全体感光性樹脂造成物を100重量%とする場合、5重量%以上であり得る。
前記感光性樹脂造成物は、前記アクリル系共重合体100重量部に対して可塑剤0.0001重量部〜10重量部を更に含むことができる。
前記可塑剤は、ジオクチルフタレート、ジイソノニルフタレート、ジオクチルアジペート、トリクレジルホスフェート、及び2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオンモノイソブチレート、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオンジイソブチレートの中から選択された少なくともいずれか1つを含み得る。
上記目的を達成するためになされた本発明の一態様による表示装置は、透過領域及び該透過領域に隣接して複数個の信号配線が配置された遮光領域を含む第1ベース基板と、前記透過領域及び前記遮光領域に重畳し、前記複数個の信号配線をカバーして硬化された感光性樹脂造成物を含む有機平坦化層と、前記有機平坦化層上に配置されて前記透過領域に重畳する画素電極と、を備え、前記感光性樹脂造成物は、アクリル系共重合体100重量部及び1,2−キノンジアジド化合物5〜100重量部を含む溶質10重量%〜50重量%と、沸騰点が190℃以上であるグリコール系物質を含有する残部の溶媒と、を有し、前記アクリル系共重合体は、不飽和カルボン酸又はその無水物、エポキシ基含有不飽和化合物、及びオレフィン系不飽和化合物が共重合される。
前記感光性樹脂造成物は、前記アクリル系共重合体100重量部に対して可塑剤0.0001重量部〜10重量部を更に含み得る。
前記表示装置は、前記遮光領域に配置され、前記複数個の信号配線の中の対応する信号配線に連結されて前記画素電極に連結される薄膜トランジスターを更に含むことができ、前記有機平坦化層は、前記薄膜トランジスターをカバーし得る。
前記有機平坦化層は、上面に少なくとも1つの段差を含み、前記第1ベース基板の上面から前記有機平坦化層の上面までの高さの最小値及び最大値の差異は、5000Å以下であり得る。
前記有機平坦化層は、少なくとも1つのカラーを有し得る。
前記表示装置は、前記第1ベース基板の上側に配置されて前記第1ベース基板に対向する第2ベース基板と、前記第2ベース基板の下面上に配置されて前記透過領域に重畳する少なくとも1つのカラーパターンと、前記遮光領域に重畳して前記カラーパターンに隣接するブラックマトリックスを更に含むことができる。
前記表示装置は、前記第1ベース基板と前記第2ベース基板との間に封入されて前記画素電極上に配置された液晶層を更に含み、前記液晶層は、前記有機平坦化層の前記少なくとも1つの段差をカバーし得る。
本発明の表示装置の製造方法は、第1表示基板を形成する段階と、前記第1表示基板上に配置される第2表示基板を形成する段階と、を有し、前記第1表示基板を形成する段階は、複数個の信号配線及び該複数個の信号配線の中の対応する信号配線に連結される薄膜トランジスターが形成された第1ベース基板を形成する段階と、前記第1ベース基板上に前記複数個の信号配線及び前記薄膜トランジスターをカバーするように感光性樹脂造成物を含む有機層を塗布する段階と、前記有機層を硬化させて有機平坦化層を形成する段階と、前記平坦化層上に前記薄膜トランジスターに電気的に連結される画素電極を形成する段階と、を含む。
前記感光性樹脂造成物は、アクリル系共重合体100重量部及び1,2−キノンジアジド化合物5〜100重量部を含む溶質10〜50重量%と、沸騰点が190℃以上であるグリコール系物質を含有する残部の溶媒と、を有し、前記アクリル系共重合体は、不飽和カルボン酸又はその無水物、エポキシ基含有不飽和化合物、及びオレフィン系不飽和化合物が共重合されて形成され得る。
前記グリコール系物質は、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチレングリコールブチルエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチレングリコールターシャリーブチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルヘキシルエーテル、ジエチレングリコールメチルヘキシルエーテル、ジプロピレングリコールブチルメチルエーテル、ジプロピレングリコールエチルヘキシルエーテル、及びジプロピレングリコールメチルヘキシルエーテルの中から選択された少なくともいずれか1つを含み得る。
前記グリコール系物質は、全体感光性造成物の5重量%以上であり得る。
前記有機平坦化層を形成する段階は、前記溶媒を除去して前記感光性造成物を硬化させる段階を含み得る。
前記第2表示基板を形成する段階は、第2ベース基板を形成する段階と、前記第2ベース基板上に前記画素電極に重畳する開口部を含むブラックマトリックスを形成する段階と、前記ブラックマトリックス上に共通電極を形成する段階と、を含み得る。
前記表示装置の製造方法は、前記第1表示基板及び前記第2表示基板を所定の間隔を有するように合着する段階と、前記第1表示基板及び前記第2表示基板の間に液晶を注入する段階を含むことができる。
本発明によれば、表示基板の製造方法において高沸騰点グリコール系溶媒を含む感光性樹脂造成物を用いて平坦化層を形成する。高沸騰点グリコール系溶媒は、平坦化層を形成するための工程時間を延長させずに平坦化特性が高い平坦化層を形成させることができる。従って、信号配線や素子が配置された領域が増加しても比較的平坦な上面が提供されるため、表示品質を向上させた高解像度の表示基板を形成することができる。また、表示基板を含む表示装置の製造方法において大面積でも均一に分布する液晶層を形成することができ、表示装置の製造方法における工程時間が短縮され、均一な平坦度、感度、解像度、明暗比の特性を向上させた表示装置を提供することができる。
本発明の一実施形態による表示装置のブロック図である。 図1に示した表示パネルの斜視図である。 本発明の一実施形態による表示パネルの部分平面図である。 本発明の一実施形態による表示パネルの部分断面図である。 本発明の一実施形態による表示パネルの部分断面図である。 本発明の一実施形態による表示パネルの製造方法を示した断面図である。 本発明の一実施形態による表示パネルの製造方法を示した断面図である。 本発明の一実施形態による表示パネルの製造方法を示した断面図である。 本発明の一実施形態による表示パネルの製造方法を示した断面図である。 本発明の一実施形態による表示パネルの製造方法を示した断面図である。 本発明の一実施形態による表示パネルの製造方法を示した断面図である。 本発明の一実施形態による表示パネルの製造方法を示した断面図である。 本発明の一実施形態による表示パネルの製造方法を示した断面図である。
以下、本発明を実施するための形態の具体例を詳細に説明する。
本発明の一実施形態による感光性樹脂造成物は、アクリル系共重合体100重量部、1,2−キノンジアジド化合物5〜100重量部を含む溶質10〜50重量%、及びグリコール系物質を含有する残部の溶媒を含む。
アクリル系共重合体は、共重合された不飽和カルボン酸又はその無水物、エポキシ基含有不飽和化合物、及びオレフィン系不飽和化合物を含む。アクリル系共重合体は、不飽和カルボン酸又はその無水物、エポキシ基含有不飽和化合物、及びオレフィン系不飽和化合物を、共重合用溶媒及び重合開始剤の存在下でラジカル合成させる。
不飽和カルボン酸、その無水物、又はこれらの混合物は、アクリル酸、メタクリル酸等の不飽和モノカルボン酸、マイレン酸、フマル酸、シトラコン酸、メタコン酸(methaconicacid)、イタコン酸等の不飽和ジカルボン酸、又はこれらの不飽和ジカルボン酸の無水物等を単独又は2種以上混合して使用し、特にアクリル酸、メタクリル酸、又は無水マイレン酸を使用することが、共重合反応性と現像液であるアルカリ水溶液に対する溶解性においてより望ましい。
不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸無水物、又はこれらの混合物は、全体の総単量体に対して5〜45重量部である。その含量がこの範囲内である場合、アルカリ水溶液の溶解性が向上する。
エポキシ基含有不飽和化合物は、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸グリシジル、α−n−プロピルアクリル酸グリシジル、α−n−ブチルアクリル酸グリシジル、アクリル酸−β−メチルグリシジル、メタクリル酸−β−メチルグリシジル、アクリル酸−β−エチルグリシジル、メタクリル酸−β−エチルグリシジル、アクリル酸−3、4−エポキシブチル、メタクリル酸−3,4−エポキシブチル、アクリル酸−6,7−エポキシヘプチル、メタクリル酸−6,7−エポキシヘプチル、α−エチルアクリル酸−6,7−エポキシヘプチル、o−ビニールベンジルグリシジルエーテル、m−ビニールベンジルグリシジルエーテル、又はp−ビニールベンジルグリシジルエーテル、メタクリル酸3,4−エポキシシクロヘキシル等を用い、これらの化合物を単独又は2以上混合して使用する。
特に、エポキシ基含有不飽和化合物は、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸−β−メチルグリシジル、メタクリル酸−6,7−エポキシヘプチル、o−ビニールベンジルグリシジルエーテル、m−ビニールベンジルグリシジルエーテル、又はp−ビニールベンジルグリシジルエーテル、メタクリル酸3,4−シクロヘキシルの中の少なくともいずれか1つであり得る。この場合、エポキシ基不飽和化合物は共重合反応性が向上し、パターンの耐熱性が向上する。
エポキシ基含有不飽和化合物は、全体の総単量体に対して10〜70重量部である。この場合、感光性樹脂造成物の耐熱性及び保存安定性が向上する。
オレフィン系不飽和化合物は、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、n−ブチルメタクリレート、sec−ブチルメタクリレート、tert−ブチルメタクリレート、メチルアクリレート、イソプロパノールアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、2−メチルシクロヘキシルメタクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルメタクリレート、ジシクロペンタニルメタクリレート、1−アダマンチルアクリレート、1−アダマンチルメタクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート、2−メチルシクロヘキシルアクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチルアクリレート、イソボルニルアクリレート、フェニルメタクリレート、フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート、2−ヒドロキシルエチルメタクリレート、スチレン、σ−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、ビニールトルエン、p−メトキシスチレン、1,3−ブタジエン、イソプレン、又は2,3−ジメチル1,3−ブタジエン等を用い、これらの化合物を単独又は2以上混合して使用する。
例えば、オレフィン系不飽和化合物は、スチレン、ジシクロペンタニルメタクリレート、又はp−メトキシスチレンであり得る。この場合、オレフィン系不飽和化合物の共重合反応性が向上し、アルカリ水溶液に対する溶解性が向上して現像(Develop)工程が容易に進行する。
オレフィン系不飽和化合物は、全体の総単量体に対して10〜70重量部で含まれることが望ましい。その含量がこの範囲内である場合、現像工程の際に、膨潤形状(Swelling)が生じないようにし、現像液であるアルカリ水溶液に溶解性を理想的に維持する。
共重合用の溶媒は、メタノール、テトラヒドロキシフラン、トルエン、ジオキサン等である。重合開始剤は、ラジカル重合開始剤を使用する。具体的に、2,2−アゾビスイソブチロニトリル、2,2−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2−アゾビス(4−メトキシ2,4−ジメチルバレロニトリル)、1,1−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)、又はジメチル2,2’−アゾビスイソブチルレート等である。
ラジカル合成された溶液を沈殿及び濾過させた後、真空状態の乾燥工程を通じて未反応単量体を除去してアクリル系共重合体を形成する。この場合、アクリル系共重合体は、ポリスチレン換算重量の平均分子量(Mw)が5,000〜30,000である。
1,2−キノンジアジド化合物は、感光性樹脂造成物に使用される公知の化合物が使用され、具体的な例として、1,2−キノンジアジド4−スルホン酸エステル、1,2−キノンジアジド5−スルホン酸エステル、又は1,2−キノンジアジド6−スルホン酸エステル等を使用する。
本実施形態による感光性樹脂造成物は、全体感光性樹脂造成物内の固形分が10〜50重量%になるように残部を構成する溶媒を含む。溶媒は高沸騰点グリコール系物質を含む。高沸騰点グリコール系物質は、沸騰点が190℃以上1000℃以下であるグリコール系物質を意味する。
例えば、溶媒は、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチレングリコールブチルエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチレングリコールターシャリーブチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルヘキシルエーテル、ジエチレングリコールメチルヘキシルエーテル、ジプロピレングリコールブチルメチルエーテル、ジプロピレングリコールエチルヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、及びジプロピレングリコールメチルヘキシルエーテルの中から選択された少なくともいずれか1つを含む。
溶媒は、他の物質を更に含むことができる。例えば、溶媒は、メタノール、エタノール、ベンジルアルコール、ヘキシルアルコール等のアルコ−ル類、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート等のエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類、エチレングリコールメチルエーテルプロピオネート、エチレングリコールエチルエーテルプロピオネート等のエチレングリコールアルキルエーテルプロピオネート類、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル等のエチレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールエチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールプロピルエーテルプロピオネート等のプロピレングリコールアルキルエーテルプロピオネート類、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールエチルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル、プロピレングリコールブチルエーテル等のプロピレングリコールモノアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、メチルベータメトキシプロピオネート、エチルベータエトキシプロピオネートの中から選択された少なくともいずれか1つを更に含む。この場合、高沸騰点グリコール系物質は、全体感光性樹脂造成物の少なくとも5重量%以上である。
感光性樹脂造成物は、プリンティング又はパターニング等の多様な加工工程で使用される。特に、本実施形態による感光性樹脂造成物は、表示装置の製造過程で使用される。感光性樹脂造成物を硬化させて有機平坦化層を形成する際に、パターニングマスクとして活用される。
本実施形態による感光性樹脂造成物を利用する有機平坦化層は、平坦化特性が向上し、均一な表面を形成することができる。溶媒は、グリコール系物質を含むことによって、層間有機平坦化層の平坦化特性を向上させ、コーティングまだらの発生を抑制して均一なパターンプロフィール(pattern profile)を形成する。
本実施形態による感光性樹脂造成物は、可塑剤(Plasticizer)を更に含む。可塑剤は、感光性樹脂造成物のアクリル系共重合体100重量部に対して0.0001〜10重量部である。可塑剤は、感光性樹脂造成物の加工性を向上させる。例えば、可塑剤は、ジオクチルフタレート、ジイソノニルフタレート、ジオクチルアジペート、トリクレジルホスフェート、及び2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオンモノイソブチレート、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオンジイソブチレートの中から選択された少なくともいずれか1つを含む。
本実施形態による感光性樹脂造成物は、接着剤を更に含む。接着剤は、基板と感光性樹脂造成物との接着性を向上させる。接着剤は、感光性樹脂造成物全体に対して0.01〜10重量%で含まれる。
接着剤は、カルボキシル基、メタクリル基、イソシアナート基、又はエポキシ基等のような反応性置換基を有するシランカップリング剤等が選択される。例えば、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、又はβ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等を使用する。
或いは、本実施形態による感光性樹脂造成物は、界面活性剤を更に含む。界面活性剤は、感光性造成物の塗布性や現像性を向上させる作用をする。本実施形態による感光性樹脂造成物は、界面活性剤及び接着剤の中のいずれか1つを選択的に含む。
界面活性剤は、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、F171、F172、F173(商品名:大日本インキ社)、FC430、FC431(商品名:住友3M社)、又はKP341(商品名:信越化学工業社)等を使用する。
界面活性剤は、感光性樹脂造成物に対して0.0001〜2重量%で含まれる。この場合、本実施形態による感光性樹脂造成物は、塗布性が向上し、優れた現像性を有する。
本実施形態による感光性樹脂造成物は、接着力、耐熱性、絶縁性、平坦性、耐化学性等の性能が優れて液晶表示装置の画像形成用材料に適合し、特に液晶表示装置の絶縁膜形成の際に、感度、残膜率、解像度、明暗比の特性が優秀であるため、その硬化物は液晶表示装置の平坦化用有機平坦化層に適合する。これについて、図1及び図2を参照してより詳細に説明する。
図1は、本発明の一実施形態による表示装置のブロック図であり、図2は、図1に示した表示パネルの斜視図である。図1に示したように、本実施形態による表示装置は、信号制御部100、ゲート駆動部200、データ駆動部300、及び表示パネルDPを含む。
信号制御部100は、入力映像信号RGBを受信し、入力映像信号RGBを表示パネルDPの動作に相応しい映像データR’G’B’に変換する。また、信号制御部100は、各種制御信号CSを受信して第1及び第2制御信号CONT1、CONT2を出力する。制御信号CSは、例えば垂直同期信号、水平同期信号、メインクロック信号、及びデータイネーブル信号等である。
ゲート駆動部200は第1制御信号CONT1に応答して表示パネルDPにゲート信号を出力する。第1制御信号CONT1は、ゲート駆動部200の動作を開始する垂直開示信号、ゲート電圧の出力時期を決定するゲートクロック信号、及びゲート電圧のオンパルス幅を決定する出力イネーブル信号等を含む。
データ駆動部300は第2制御信号CONT2及び映像データR’G’B’を受信する。データ駆動部300は映像データR’G’B’をデータ電圧に変換して表示パネルDPに提供する。
第2制御信号CONT2は、データ駆動部300の動作を開始する水平開示信号、データ電圧の極性を反転させる反転信号、及びデータ駆動部300からデータ電圧が出力される時期を決定する出力指示信号等を含む。
表示パネルDPは複数個の信号配線及び複数個の信号配線に連結された複数個の画素PX11〜PXnmを含む。複数個の信号配線は複数個のゲートラインGL〜GL及び複数個のデータラインDL〜DLを含む。
複数個のゲートラインGL〜GLは、第1方向DR1に延長され、第1方向DR1と交差する第2方向DR2に配列される。複数個のゲートラインGL〜GLはゲート駆動部200に連結される。複数個のゲートラインGL〜GLはゲート駆動部200からゲート信号を受信する。
複数個のデータラインDL〜DLは複数個のゲートラインGL〜GLと絶縁されるように交差する。複数個のデータラインDL1〜DLはデータ駆動部300に連結される。複数個のデータラインDL〜DLはデータ駆動部300からデータ電圧を受信する。
複数個の信号配線は少なくとも1つの共通ラインを更に含む。共通ラインには基準電圧が印加される。基準電圧は後述する共通電極CEに印加される電圧と同じ電圧である。
複数個の画素PX11〜PXnmはマトリックス形態に配列される。複数個の画素PX11〜PXnmの各々は複数個のゲートラインGL〜GLの中の対応するゲートライン及び複数個のデータラインDL〜DLの中の対応するデータラインに連結される。
表示パネルDPは、特別に限定されるものではなく、例えば有機発光表示パネル(organic light emitting display panel)、液晶表示パネル(liquid crystal display panel)、プラズマ表示パネル(plasma display panel)、電気泳動表示パネル(electrophoretic display panel)、及びエレクトロ・ウェッティング表示パネル(electrowetting display panel)等が適用される。
表示パネルDPは平面上で表示領域DA及び表示領域に隣接する非表示領域NDAに区分される。表示領域DAには複数個の画素PX11〜PXnmが配置される。非表示領域NDAには、複数個の信号配線、ゲート駆動部200、及びデータ駆動部300が配置される。
本実施形態では、液晶表示パネルを含む液晶表示装置を例示的に説明する。液晶表示パネルは、2つの表示基板(DS1、DS2)及び2つの表示基板(DS1、DS2)の間に配置された液晶層(図示せず)を含む。但し、本実施形態による表示装置において、表示基板(DS1、DS2)は独立した表示基板である。
図1に示した複数個のゲートラインGL〜GL、複数個のデータラインDL〜DL、及び複数個の画素PX11〜PXnmは、第1表示基板DS1と第2表示基板DS2との中のいずれか1つに配置される。第1表示基板DS1及び第2表示基板DS2は表示基板の厚さ方向DR3(以下、第3方向)に離隔されて配置される。
第1表示基板DS1及び第2表示基板DS2の間にはシール部材SLが配置される。シール部材SLは非表示領域NDAに重畳して配置される。シール部材SLは第1表示基板DS1及び第2表示基板DS2を結合させ、第1表示基板DS1及び第2表示基板DS2の間に液晶層(図示せず)を封入する。
図示しないが、液晶表示装置は表示パネルDPに光を提供するバックライトユニット(図示せず)を更に含む。液晶表示パネルは、VA(Vertical Alignment)モード、PVA(Patterned Vertical Alignment)モード、IPS(In−Plane Switching)モード又はFFS(Fringe−Field Switching)モード、及びPLS(Plane to Line Switching)モード等から選択されたいずれか1つのパネルであり、特定モードのパネルに限定されない。
図3は、本発明の一実施形態による表示パネルDPの部分平面図であり、図4は、本発明の一実施形態による表示パネルDPの部分断面図である。図4には図3のI−I’に沿って切断した断面を図示した。本実施形態で、複数個のゲートラインGL〜GL、複数個のデータラインDL〜DL、及び複数個の画素PX11〜PXnmは、第1表示基板DS1に配置される。図3には、説明を容易にするために第1表示基板DS1の平面図を図示した。
第1表示基板DS1は、第1ベース基板SUB1、ゲートラインGL、データラインDL、DLj+1、共通ラインCL、及び画素PXijを含む。
図3及び図4は、複数個の画素PX11〜PXnm(図1参照)の中のi番目のゲートラインGL及びj番目のデータラインDLに連結された画素PXijを例示的に図示した。画素PXijは薄膜トランジスターTFT及び薄膜トランジスターTFTに連結された画素電極PEを含む。
薄膜トランジスターTFTはi番目のゲートラインGL及びj番目のデータラインDLに連結される。薄膜トランジスターTFTはi番目のゲートラインGLに印加されたゲート信号に応答してj番目のデータラインDLに印加されたデータ電圧を画素電極PEに出力する。画素電極PEはデータ電圧に応答する画素電圧を受信する。複数個の画素PX11〜PXnmは画素PXijと同一の構成を有する。また、画素PXijの構成は変更され得る。
第1ベース基板SUB1は、ガラス基板、プラスチック基板、シリコン基板等のような絶縁基板である。また、第1ベース基板SUB1は透明な基板である。薄膜トランジスターTFTのゲート電極GEとi番目のゲートラインGLとが第1ベース基板SUB1上に配置される。ゲート電極GEはi番目のゲートラインGLに連結される。
ゲート電極GEは、i番目のゲートラインGLと同一の物質で構成され、同一の層構造を有する。ゲート電極GEとi番目のゲートラインGLとは、銅Cu、アルミニウムAl、これらの合金、又は各々の合金を含む。ゲート電極GEとi番目のゲートラインGLとはアルミニウム層と他の金属層を含む多層構造を有する。
共通ラインCLiはi番目のゲートラインGLと同一層上に配置される。共通ラインCLiは、i番目のゲートラインGLと同一の物質で構成され、同一の層構造を有する。但し、本実施形態で共通ラインCLiは省略され得る。
第1ベース基板SUB1上に、ゲート電極GE、i番目のゲートラインGL、共通ラインCLiをカバーする絶縁層ILが配置される。絶縁層IL上にゲート電極GEに重畳する半導体層ALが配置される。絶縁層ILはゲート絶縁膜として説明される。
絶縁層IL上にデータラインDL、DLj+1が配置される。データラインDL、DLj+1は、銅Cu、アルミニウムAl、これらの合金、又は各々の合金を含む。データラインDL、DLj+1は、アルミニウム層と他の金属層、例えばクロム又はモリブデンを含む多層構造を有することができる。
絶縁層IL上に薄膜トランジスターTFTのソース電極SE及びドレイン電極DEが配置される。ソース電極SEはデータラインDL、DLj+1の中のj番目のデータラインDLに連結される。ソース電極SEはデータラインDL、DLj+1と同一の物質で構成され、同一の層構造を有する。
ソース電極SE及びドレイン電極DEは互いに離隔されて配置される。ソース電極SE及びドレイン電極DEの各々は半導体層ALの一部と重畳する。
絶縁層IL上に有機平坦化層OL(以下、平坦化層)が配置される。平坦化層OLはソース電極SE、ドレイン電極DE、及びデータラインDL、DLj+1をカバーする。平坦化層OLは薄膜トランジスターTFT及び共通ラインCLの上部を平坦化させる。平坦化層OLは感光性樹脂造成物で形成される。感光性樹脂造成物は高沸騰点グリコール系溶媒を含む。これに対する詳細な説明は後述する。
平坦化層OL上に画素電極PEが配置される。画素電極PEは平坦化層OLを貫通する貫通ホールCHを通じてドレイン電極DEに連結される。図示しないが、平坦化層OL及び画素電極PEの間に配置された無機絶縁膜を更に含む。無機絶縁膜は平坦化層OLから排出される水分を遮断して他の構成を保護する。無機絶縁膜はパッシベーション膜(Passivation layer)である。また、平坦化層OLの上には画素電極PEをカバーする保護層(図示せず)及び配向層(図示せず)が更に配置される。
一方、画素電極PEの形状は図3に示した形状に制限されない。他の実施形態で、画素電極PEは複数個のスリットを含むことができる。複数個のスリットは画素PXijを複数個のドメインに分ける。複数個のドメインは視野角を向上させる。
第2表示基板DS2は、第2ベース基板SUB2、ブラックマトリックスBM、カラーフィルターCF、及び共通電極CEを含む。第2ベース基板SUB2は、ガラス基板、プラスチック基板、又はシリコン基板等のような透明な基板である。
ブラックマトリックスBMが配置された領域は遮光領域SAとして定義される。ブラックマトリックスBMは複数個の開口部を含む。図4には1つの画素PXijに対応する1つの開口部を図示した。実質的に開口部は透過領域TAを定義する。
開口部にはカラーフィルターCFが配置される。カラーフィルターCFは複数個の画素PX11〜PXnmに各々対応する。画素PX11〜PXnmに配置されたカラーフィルターはそれぞれ異なるカラーを含む。例えば、カラーフィルターの中の一部は赤色、他の一部は緑色、その他の一部は青色を有する。
但し、図示しないが、他の実施形態で、平坦化層OLは少なくとも1つの色相を含むことができる。この場合、平坦化層OLはカラーフィルター層(Color Filter Layer)になる。カラーフィルター層OLが第1表示基板DS1に配置されることによって、画素整列が容易になり、製造工程が単純化される。この場合、第2表示基板DS2のカラーフィルターCFは省略される。
共通電極CEはブラックマトリックスBM及びカラーフィルターCF上に配置される。図示しないが、第2表示基板DS2はブラックマトリックスBMとカラーフィルターCFとをカバーする平坦化層を更に含む。共通電極CEは平坦化層上に配置される。
共通電極CEの上には共通電極CEをカバーする保護層(図示せず)及び配向膜(図示せず)が更に配置される。一方、他の実施形態で、共通電極CEは複数個のドメインを形成する複数個のスリットを含むことができ、第1ベース基板SUB1上に配置されることもある。
第1表示基板DS1と第2表示基板DS2との間には液晶層LCLが配置される。液晶層LCLは液晶分子と液晶分子の配向を制御する配向分子とを含む。液晶分子は画素電極PX及び共通電極CEが形成する電界によって配向分子の配列が変化されて表示パネルの階調を調節する。
図4に示したように、第1表示基板DS1は遮光領域SA及び遮光領域SAに隣接する透過領域TAに区分される。透過領域TAは図示しない光源から放出された光が透過する領域である。透過領域TAは映像が表示される領域である。
遮光領域SAは放出された光が遮断される領域である。遮光領域SAには薄膜トランジスターTFT、複数個の信号配線が配置される。薄膜トランジスターTFT、複数個の信号配線は放出された光を実質的に遮断する。
平坦化層OLの上面は遮光領域SAで不均一である。平坦化層OLの上面は遮光領域SAで少なくとも1つの段差が形成される。段差は薄膜トランジスターTFT及び複数個の信号配線によって形成される。これに対して、透過領域TAは平坦な第1ベース基板SUB1上に絶縁層ILが配置されるだけであり、別の素子が配置されないため、平坦化層OLの上面は透過領域TAで比較的均一な平坦面を形成する。
透過領域TAの上面と遮光領域SAの上面との間には薄膜トランジスターTFTの高さ又は共通ラインCLの高さに対応する段差が発生する。第1ベース基板SUB1から平坦化層OLの上面までの高さは透過領域TAと遮光領域SAとで互いに異なる。
段差解消のために平坦化層OLが配置される。段差は平坦化層OLの上面間の高さの差異を意味する。段差が解消されない場合、液晶層LCLが遮光領域SA及び透過領域TAに均一に形成され難いため、液晶層LCLを構成する配向分子の配列が不均一になる。
本実施形態による平坦化層OLは高沸騰点グリコール系溶媒を含む感光性樹脂造成物で形成される。高沸騰点グリコール系溶媒は沸騰点が約190℃以上であるグリコール系物質を含む。平坦化層OLは遮光領域SA及び透過領域TAの間の段差を約5000Å以下に平坦化させる。これに対する詳細な説明は後述する。
図5は、本発明の他の実施形態による表示パネルの部分断面図である。図5は、図4に対応する領域を図示した。一方、図1〜図4で説明した構成と同一の構成に対しては同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。
図5に示したように、第1表示基板DS1−1はカラー層CLを更に含む。カラー層CLは絶縁層IL及び平坦化層OLの間に配置される。カラー層CLは複数個の画素PX11〜PXnm(図1参照)に各々対応する。
カラー層CLは画素PX11〜PXnmに各々配置された複数個のカラーパターンを含む。複数個のカラーパターンはそれぞれ異なるカラーを含む。例えば、カラー層CLは、赤色カラーパターン、緑色カラーパターン、又は青色カラーパターンを含む。
第1表示基板DS1−1上に第2表示基板DS2−1が配置される。第2表示基板DS2−1は少なくとも1つの開口部BM−OPが定義されたブラックマトリックスBMを含む。この場合、第2表示基板DS2−1はカラーフィルターを含まない。カラー層CLが第1表示基板DS1−1の構成に含まれることで、第2表示基板DS2−1の工程が単純化され、カラーパターンと画素との間の誤整列不良が改善される。
本実施形態による平坦化層OLは比較的薄い厚さに形成されても平坦化度が高い平坦面を提供する。例えば、平坦化層OLは透過領域TA内で約3μm以下の厚さに形成される。一般的に平坦化層OLは厚さが薄いほど、平坦面を形成するのが難しい。本実施形態による平坦化層OLは薄い厚さでも平坦化特性が優れるため、カラー層が遮光領域に配置されたCoA(Color Filter on Array)構造でも厚さの増加無しに均一な平坦面を提供することができる。
平坦化層OLは本実施形態による感光性樹脂造成物によって形成される。平坦化層OLは感光性樹脂造成物の硬化物を含む。感光性樹脂造成物は、アクリル系共重合体、1、2−キノンジアジド化合物、及び高沸騰点グリコール系物質を含む溶媒を含む。本実施形態で高沸騰点グリコール系物質は少なくとも190℃以上の沸騰点を有する。可塑剤は多様な比率で構成される。例えば、可塑剤はアクリル系共重合体100重量部に対して0.0001〜10重量部で含まれる。
この範囲内の可塑剤を更に含む平坦化層は、均一度(Uniformity)、感度、解像度、接着力、透過度、明暗比(Contrast Ratio)特性が優れた表示パネルを形成することができる。可塑剤はアクリル系共重合体及び1,2キノンジアジド化合物と相互作用して平坦化特性を向上させるため、大面積高精度液晶表示装置の有機平坦化層を提供することができる。
本実施形態の有機平坦化層を構成する感光性樹脂造成物は接着剤又は界面活性剤を更に含む。接着剤は有機平坦化層と界面を形成する他の層構成、例えば絶縁層IL(図4参照)又はカラー層CL(図5参照)との接着性を向上させる。接着剤は全体感光性樹脂造成物に対して0.01〜10重量%の比率で含まれる。一方、平坦化層を構成する感光性樹脂造成物は0.1〜0.2μmのミリポアフィルター(Millipore filter)等で濾過した後、使用される。
本実施形態による平坦化層は溶媒の種類及び比率を調節することによって、平坦化特性が向上する。表1に本実施形態の平坦化層の平坦化特性を比較した実験データを示した。以下、下記の表1を参照して本実施形態による平坦化層の平坦化特性を説明する。
Figure 2014164305
第1有機膜R1は沸騰点が176℃であるジエチレングリコールメチルエチルエーテル(diethylene glycol methyl ethyl ether:MEDG)を含み、第2有機膜R2は沸騰点が189℃であるジエチレングリコールジエチルエーテル(diethylene glycol diethyl ether:DEDG)を含み、第3有機膜R3は沸騰点が212℃であるジエチレングリコールブチルメチルエーテル(diethylene glycol butyl methyl ether:MBDG)を含む。
有機膜R1〜R3は各々メチル3−メトキシプロピオネート(methyl 3−methoxy propionate:MMP)を低沸騰点溶媒に含む混合溶媒を有する感光性樹脂造成物を含む。表1は、基板上にそれぞれ異なる溶媒を含む感光性樹脂造成物を塗布し、乾燥して形成した平坦化層の表面段差を測定して平坦度を比較したものである。表1には平坦化層の上面に形成された段差の平均値をレベルリング段差で示した。
有機膜の平坦化特性が向上するほど、レベルリング段差は小さくなる。有機膜の平坦化特性は高沸騰点溶媒の含有量より高沸騰点溶媒の沸騰点によって更に大きい影響を受ける。例えば、第1有機膜R1及び第2有機膜R2を比較すると、第1有機膜R1が更に多い高沸騰点溶媒を含むが、沸騰点が更に高い高沸騰点グリコール溶媒を含む第2有機膜R2が向上した平坦化特性を有する。
第3有機膜R3は沸騰点が212℃である高沸騰点グリコール溶媒を含む。190℃以上の沸騰点を有するグリコール溶媒を含む場合、平坦化特性が著しく向上する。一般的にレベルリング段差が約5000Å又はそれ以下である場合、表示パネルの駆動及び表示品質に及ぼす影響が少ない。また、約5000Å又はそれ以下のレベルリング段差を有する表面は液晶のぼかし(blur noise)に対して及ぼす影響が減少する。本実施形態による表示パネルは表示パネルの全面に均一に形成された液晶層を具現することができる。
Figure 2014164305
表2にはジエチレングリコールブチルメチルエーテル(diethylene glycol butyl methyl ether:MBDG)を高沸騰点グリコール系溶媒に含む実施形態の平坦化特性を含有量に従って比較したものである。構成比率に従う平坦化特性を説明するために、高沸騰点グリコール系溶媒が含まれない第4有機膜R4、約5重量%の高沸騰点グリコール系溶媒が含まれる第5有機膜R5、及び15重量%の高沸騰点グリコール系溶媒が含まれる第6有機膜R6を比較して記載した。一方、本実験例で混合溶媒に含まれる溶媒は146℃の沸騰点を有するプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(Propylene glycol monomethyl ether acetate:PGMEA)を利用する。
表2に示したように、高沸騰点グリコール系溶媒を含まない第4有機膜R4と比較すると、高沸騰点グリコール系溶媒を含む有機膜R5、R6のレベルリング段差は著しく減少する。高沸騰点グリコール系溶媒を約5重量%のみ更に含んでもレベルリング段差は約900Å以上減少する効果が示される。
上述したように、一般的に約5000Å程度のレベルリング段差を有する場合、液晶のぼかし性の低下現象が減少し、表示品質低下が防止される。表2に示したように、高沸騰点グリコール系溶媒が15重量%の比率で含まれる場合、レベルリング段差は平均的に約5000Åの段差を有する。15重量%以上の高沸騰点グリコール系溶媒を含む感光性樹脂造成物で形成された有機平坦化層は表示品質が向上した表示パネルを具現することができる。
本実施形態による表示パネルは、高沸騰点グリコール系溶媒を含む感光性樹脂造成物を利用して、遮光領域SA及び透過領域TAの間の段差が解消された平坦化層を具現することができる。遮光領域SAの比重が高い高解像度表示パネルにも液晶が均一に分布されて表示品質が向上する。
図6A〜図6Hは、本発明の一実施形態による表示パネルの製造方法を示した断面図である。図6A〜図6Hは、図4に示した断面図に対応する実施形態について図示した。以下、図1〜図5に示した構成と同一の構成に対しては同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。
先ず、第1表示基板DS1と第2表示基板DS2とを製造する。第1表示基板DS1を製造した後、第2表示基板DS2を製造する。第1表示基板DS1と第2表示基板DS2との製造順序は制限されない。第1表示基板DS1と第2表示基板DS2とを同時に製造することもある。
図6Aに示したように、第1ベース基板SUB1上に薄膜トランジスターTFTを形成する。第1ベース基板SUB1上に、共通ラインCL、ゲートラインGL(図3参照)、及びゲートラインGLに連結されたゲート電極GEを形成する。スパッタリング方式によって導電層(図示せず)を形成した後、フォトリソグラフィー工程及びエッチング工程を遂行する。
第1ベース基板SUB1上に、共通ラインCL、ゲートラインGL、及びゲート電極GEをカバーする絶縁層ILを形成する。絶縁層ILはシリコン窒化物又はシリコン酸化物を含む。絶縁層ILはプラズマ加速化学気相蒸着法PECVDによって形成される。
絶縁層IL上に半導体層ALを形成する。半導体層ALは、プラズマ加速化学蒸着法PECVDによってシリコン層を形成した後、フォトリソグラフィー工程及びエッチング工程を遂行してシリコン層をパターニングして形成する。
半導体層AL上に導電層をパターニングしてソース電極SE及びドレイン電極DEを形成する。導電層(図示せず)は、蒸着、スパッタリング方式によって形成できるが、これに制限されない。導電層をフォトリソグラフィー工程及びエッチング工程を遂行してソース電極SE及びドレイン電極DEを形成する。
この場合、絶縁層IL、半導体層AL、又は電極(SE、DE)は平坦化特性が低い。絶縁層IL、半導体層AL、又は電極(SE、DE)は形成される界面の段差を解消しない。従って、絶縁層IL、半導体層AL、又は電極(SE、DE)の上面は段差を有する。
図6Bに示したように、薄膜トランジスターTFT及び共通ラインCL上に有機物層OL−Iを形成する。有機物層OL−Iは感光性樹脂造成物で構成される。感光性樹脂造成物は、アクリル系共重合体100重量部、1,2−キノンジアジド化合物5〜100重量部を含む溶質10〜50重量%、及び残部の溶媒を含む。
アクリル系共重合体は、不飽和カルボン酸又はその無水物、エポキシ基含有不飽和化合物、及びオレフィン系不飽和化合物を共重合して形成される。溶媒は高沸騰点グリコール系物質を含む。本実施形態で、高沸騰点グリコール系物質は沸騰点が約190℃以上1000℃以下のグリコール系物質を意味する。溶媒は、高沸騰点グリコール系物質単独で構成されるか、又は他の物質が混合される。
有機物層OL−Iは多様な方法によって形成される。例えば、スプレー法、ロールコータ法、回転塗布法等が利用されるが、これに限定されない。
図6C及び図6Dに示したように、第1ベース基板SUB1上に塗布された有機物層OL−Iは乾燥工程を経る。第1ベース基板SUB1上に比較的厚く形成された有機物層OL−Iは乾燥工程を経ながら溶媒が除去される。有機物層OL−Iは、溶媒が除去されながら厚さが薄くなり、有機平坦化層OL(以下、平坦化層)を形成する。乾燥工程は、例えば真空乾燥工程である。
有機物層OL−Iに含まれた溶媒が除去されながら有機物層OL−Iの粘性は低下し、徐々に乾燥して平坦化層OLが形成される。従って、有機物層OL−Iのぼかし性又は粘性は有機物層OL−Iに含まれる溶媒によって決定される。
乾燥工程で溶媒が除去される時間は平坦化層OLの平坦度に影響を及ぼす。有機物層OL−Iが第1ベース基板SUB1上に平坦な表面を形成する時間を確保するために圧力を徐々に減少させて溶媒が除去される時間を長くすることができるが、工程時間が長くなる。
本実施形態による平坦化層OLを形成する有機物層OL−Iは高沸騰点グリコール系溶媒を含む感光性樹脂造成物を含む。高沸騰点グリコール系溶媒は、真空乾燥工程で溶媒が乾燥しながら有機物の粘度が増加する現象を遅延させることができる。
例えば、揮発性が高い低粘度溶媒を主溶媒とし、高沸騰点グリコール系溶媒を少量添加する場合、溶媒の大部分を占める低沸騰点溶媒は真空乾燥工程の初期に乾燥する。少量添加された高沸騰点グリコール系溶媒は真空乾燥の後期まで残って平坦化処理を持続して最終平坦化層OLを形成する。高沸騰点グリコール系溶媒を含む有機物層OL−Iは乾燥時間を短く維持して生産性を確保でき、後期の平坦化を調節することによって平坦化特性が向上した平坦化層OLを形成することができる。
図6Dに示したように、溶媒が除去されて形成された平坦化層OLは薄膜トランジスターTFT及び共通ラインCLによって形成された段差を解消する。平坦化層OLは、高沸騰点グリコール系溶媒を含む感光性樹脂造成物で形成されることによって、平均レベルリング段差が約6000Å以下の上面を形成する。
また、図示しないが、平坦化層OLは少なくとも1つのパターンを有する。有機物層OL−Iをプリベーク(pre−bake)工程を通じて溶媒を除去する。溶媒を除去した後、第1ベース基板SUB1上にマスクを配置し、光を照射した後、現像工程を経て所定のパターンを形成する。
この場合、現像工程に使用される現像液は、アルカリ水溶液を使用することが良く、具体的に水酸化ナトリウム水酸化カリウム炭酸ナトリュ−ムを含む無機アルカリ類、エチルアミン、n−プロピルアミンを含む第1級アミン類、ジエチルアミン、n−プロピルアミン含む第2級アミン類、トリメチルアミン、メチルジエチルアミン、ジメチルエチルアミン、トリエチルアミン含む第3級アミン類、ジメチルエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどのアルコ−ルアミン類、又はテトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド含む第4級アンモニウム塩の水溶液等を使用する。この場合、現像液は、アルカリ性化合物を約0.1〜10重量%の濃度に溶解させて使用され、メタノール、エタノール等のような水溶性有機溶媒及び界面活性剤を適正量添加することもある。
また、上記のような現像液で現像した後、超純水で洗浄して不必要な部分を除去し乾燥してパターンを形成し、形成されたパターンに紫外線等の光を照射した後、パターンをオーブン等の加熱装置によって加熱処理して最終パターンを得る。
図6Eに示したように、平坦化層OL上に画素電極PEを形成して第1表示基板DS1を形成する。平坦化層OLのドレイン電極DEに重畳する領域にコンタクトホールCHを形成し、平坦化層OL上に電極層をパターニングして画素電極PEを形成する。画素電極PEはコンタクトホールCHを通じてドレイン電極DEに連結される。図示しないが、画素電極PEの上には画素電極PEをカバーする保護層(図示せず)及び配向膜(図示せず)が更に形成される。
図6Hに示したように、第1表示基板DS1と第2表示基板DS2とを合着する。第2表示基板DS2は第2ベース基板SUB2上にブラックマトリックスBMを形成する。ブラックマトリックスBMは、第2ベース基板SUB2上にブラックの有機層をコーティングした後、開口部をパターニングして形成する。本実施形態では開口部にカラーを有する有機層を充填してカラーフィルター層を形成する。
その後、ブラックマトリックスBM及びカラーフィルターCF上に共通電極CEを形成する。図示しないが、共通電極CE上に共通電極CEをカバーする保護層(図示せず)又は配向膜(図示せず)が更に形成される。
第1表示基板DS1と第2表示基板DS2との間にシール部材SL(図2参照)を形成し、第1表示基板DS1及び第2表示基板DS2を合着する。シール部材SLは第1表示基板DS1又は第2表示基板DS2上に形成される。第1表示基板DS1又は第2表示基板DS2の枠領域に接着性を有する絶縁膜を形成した後、パターニングするか、或いはインクジェットプリンティング方式でシール部材SLを形成する。シール部材SLは第1表示基板DS1と第2表示基板DS2との間にセルギャップを形成して維持させる。
図6Gに示したように、合着された第1表示基板DS1と第2表示基板DS2との間に液晶LCを注入する。液晶LCは、画素を基準に一方向に広がり、セルギャップを満たす。本実施形態による表示パネルは高沸騰点グリコール系溶媒を含む感光性樹脂造成物によって形成された平坦化層OLを含むことによって、液晶LCが注入される通路に平坦化された上面を提供する。
平坦化層OLは透過領域TAと薄膜トランジスターTFT及び複数個の信号配線が配置された遮光領域SAとの間の段差を約6000Å以下に減少させる。これによって、液晶LCは遮光領域SA上でも容易に通過する。
図6Hに示したように、液晶LC(図6G参照)は平坦化された平坦化層上に均一に塗布されて液晶層LCLを形成する。液晶層LCLは平坦化層OLによって表示パネルの全面で均一なセルギャップを維持することができる。液晶層LCLの配向分子が均一に配向されて表示パネル全面で均一な電界を形成でき、表示品質が向上する。
本実施形態による表示パネルは厚さが薄くて平坦化特性が高い有機平坦化層を含む。本実施形態による平坦化層OLは別の平坦化工程を経なくても液晶が均一に分布される平坦化面を提供する。平坦化層OLは、配線が多い構造、例えば遮光領域SAの分布が複雑化し、広い領域を有する高解像度UHDの表示パネルでも平坦化特性が高い平坦面を提供する。
高沸騰点グリコール系溶媒を含む感光性樹脂造成物で形成された平坦化層OLは平坦性とコーティングまだらとを発生しないようにして均一なパターンプロフィール(pattern profile)を形成する。
また、本実施形態による表示パネルは、高沸騰点グリコール系溶媒を使用して製造されることによって、均一な平坦度、感度、解像度、接着力、透過度、明暗比(Contrast Ratio)のような表示特性が向上する。特に高沸騰点グリコール系溶媒は、アクリル系共重合体及び1,2キノンジアジド化合物との商用性が優れ、平坦化特性が優れた大面積を有する高精度表示装置が製造され得る。
以下、本発明の理解を助けるために感光性樹脂造成物の望ましい実施例を提示する。但し、これは本発明の一実施例を例示するものであり、本発明の範囲が下記の実施例に限定されるものではない。
<合成例1(アクリル系共重合体製造)>
冷却器と攪拌器とが具備されたフラスコにテトラヒドロフラン約400重量部、メタクリル酸約30重量部とスチレン約30重量部、及びグリシジルメタクリレート約40重量部の混合溶液を投入した。液相造成物を混合容器で約600rpmにより十分に混合した後、2,2’−アゾビス2,4−ジメチルバレロニトリル約15重量部を添加した。重合混合溶液を約55℃まで緩やかに上昇させて、この温度で約24時間の間維持した後、常温に冷却し、重合禁止ゼロヒドロベンゾフェノンを約500ppm添加して固形分濃度が約30重量%である重合体溶液を得た。重合体溶液の未反応単量体を除去するためにn−Hexane約1000重量部を使用して重合体溶液約100重量部を沈殿させた。沈殿の後、メッシュ(Mesh)を利用するフィルタリング工程を通じて溶解度が低い貧溶媒(Poor solvent)を除去した。フィルタリング工程の後、約30℃以下で真空乾燥工程を進行して残っている未反応単量体を除去してアクリル系共重合体を製造した。アクリル系共重合体の重量平均分子量は約6,000であった。ここで、重量平均分子量はゲル浸透クロマトグラフィー(Gel Permeation Chromatography:GPC)を使用して測定したポリスチレン換算平均分子量である。
<合成例2(1,2−キノンジアジド化合物製造)>
4,4’−[1−[4−[1−[4−ヒドロキシフェニル]−1−メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビスフェノール約1モルと1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸[クロライド]約2モルを縮合反応させて4,4’−[1−[4−[1−[4ヒドロキシフェニル]−1−メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビスフェノール1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステルを製造した。
<実施例1(感光性樹脂造成物製造)>
上記合成例1で製造したアクリル系共重合体約10重量部に対して、上記合成例2で製造した4,4’−[1−[4−[1−[4−ヒドロキシフェニル]−1−メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビスフェノール1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル約30重量部及び混合物の固形分含量が約20重量%になるようにトリエチレングリコールジメチルエーテルで溶解させた後、約0.1μmのミリポアフィルターで濾過して感光性樹脂造成物を製造した。
<実施例2>
上記実施例1で感光性樹脂造成物の製造の際に、トリエチレングリコールジメチルエーテルの代わりにジエチレングリコールブチルメチルエーテルを使用したことを除外すれば、実施例1と同じ方法によって実施して感光性樹脂造成物を製造した。
<実施例3>
上記実施例1で感光性樹脂造成物の製造の際に、トリエチレングリコールジメチルエーテルの代わりにトリエチレングリコールブチルメチルエーテルを使用したことを除外すれば、実施例1と同じ方法によって実施して感光性樹脂造成物を製造した。
<実施例4>
上記実施例1で感光性樹脂造成物の製造の際に、トリエチレングリコールジメチルエーテルの代わりにジエチレングリコールターシャリーブチルエーテルを使用したことを除外すれば、実施例1と同じ方法によって実施して感光性樹脂造成物を製造した。
<実施例5>
上記実施例1で感光性樹脂造成物の製造の際に、トリエチレングリコールジメチルエーテルの代わりにテトラエチレングリコールジメチルエーテルを使用したことを除外すれば、実施例1と同じ方法によって実施して感光性樹脂造成物を製造した。
<実施例6>
上記実施例1で感光性樹脂造成物の製造の際に、トリエチレングリコールジメチルエーテルの代わりにジプロピレングリコールジエチルエーテルを使用したことを除外すれば、実施例1と同じ方法によって実施して感光性樹脂造成物を製造した。
<実施例7>
上記実施例1で感光性樹脂造成物の製造の際に、トリエチレングリコールジメチルエーテルの代わりにジエチレングリコールエチルヘキシルエーテルを使用したことを除外すれば、実施例1と同じ方法によって実施して感光性樹脂造成物を製造した。
<実施例8>
上記実施例1で感光性樹脂造成物の製造の際に、ジオクチルフタレートを追加に10重量部を使用したことを除外すれば、実施例1と同じ方法によって実施して感光性樹脂造成物を製造した。
<実施例9>
上記実施例8で感光性樹脂造成物の製造の際に、ジオクチルフタレートの代わりに2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオンジイソブチレートを使用したことを除外すれば、実施例1と同じ方法によって実施して感光性樹脂造成物を製造した。
<実施例10>
上記実施例1で感光性樹脂造成物の製造の際に、トリエチレングリコールジメチルエーテルの代わりにジエチレングリコールモノメチルエーテルとプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとの混合物を使用したことを除外すれば、実施例1と同じ方法によって実施して感光性樹脂造成物を製造した。但し、混合物の混合比率を異にして、ジエチレングリコールモノメチルエーテル100重量%である実施例10a、ジエチレングリコールモノメチルエーテル15重量%とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート85重量%である実施例10b、ジエチレングリコールモノメチルエーテル10重量%とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート90重量%である実施例10c、ジエチレングリコールモノメチルエーテル5重量%とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート95重量%である実施例10d、ジエチレングリコールモノメチルエーテル4重量%とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート96重量%である実施例10e、ジエチレングリコールモノメチルエーテル3重量%とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート97重量%である実施例10fを製造した。実施例10は実施例10a〜10fを含む。
<実施例11>
上記実施例1で感光性樹脂造成物の製造の際に、トリエチレングリコールジメチルエーテルの代わりにジエチレングリコールモノエチルエーテルとプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとの混合物を使用したことを除外すれば、実施例1と同じ方法によって実施して感光性樹脂造成物を製造した。但し、混合物の混合比率を異にして、ジエチレングリコールモノエチルエーテル100重量%である実施例11a、ジエチレングリコールモノエチルエーテル15重量%とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート85重量%である実施例11b、ジエチレングリコールモノエチルエーテル10重量%とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート90重量%である実施例11c、ジエチレングリコールモノエチルエーテル5重量%とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート95重量%である実施例11d、ジエチレングリコールモノエチルエーテル4重量%とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート96重量%である実施例11e、ジエチレングリコールモノエチルエーテル3重量%とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート97重量%である実施例11fを製造した。実施例11は実施例11a〜11fを含む。
<実施例12>
上記実施例1で感光性樹脂造成物の製造の際に、トリエチレングリコールジメチルエーテルの代わりにジエチレングリコールブチルメチルエーテルとプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとの混合物を使用したことを除外すれば、実施例1と同じ方法によって実施して感光性樹脂造成物を製造した。但し、混合物の混合比率を異にして、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル100重量%である実施例12a、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル15重量%とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート85重量%である実施例12b、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル10重量%とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート90重量%である実施例12c、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル5重量%とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート95重量%である実施例12d、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル4重量%とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート96重量%である実施例12e、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル3重量%とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート97重量%である実施例12fを製造した。実施例12は実施例12a〜12fを含む。
<実施例13>
上記実施例1で感光性樹脂造成物の製造の際に、トリエチレングリコールジメチルエーテルの代わりにトリエチレングリコールブチルメチルエーテルとプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとの混合物を使用したことを除外すれば、実施例1と同じ方法によって実施して感光性樹脂造成物を製造した。但し、混合物の混合比率を異にして、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル100重量%である実施例13a、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル15重量%とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート85重量%である実施例13b、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル10重量%とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート90重量%である実施例13c、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル5重量%とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート95重量%である実施例13d、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル4重量%とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート96重量%である実施例13e、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル3重量%とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート97重量%である実施例13fを製造した。実施例13は実施例13a〜13fを含む。
<比較例1>
上記実施例1で感光性樹脂造成物の製造の際に、トリエチレングリコールジメチルエーテルの代わりにプロピレングリコールメチルエーテルアセテートを使用したことを除外すれば、実施例1と同じ方法によって実施して感光性樹脂造成物を製造した。
<比較例2>
上記実施例1で感光性樹脂造成物の製造の際に、トリエチレングリコールジメチルエーテルの代わりにプロピレングリコールメチルエーテルプロピオネートを使用したことを除外すれば、実施例1と同じ方法によって実施して感光性樹脂造成物を製造した。
<比較例3>
上記実施例1で感光性樹脂造成物の製造の際に、トリエチレングリコールジメチルエーテルの代わりにエチレングリコールメチルエーテルを使用したことを除外すれば、実施例1と同じ方法によって実施して感光性樹脂造成物を製造した。
<比較例4>
上記実施例1で感光性樹脂造成物の製造の際に、トリエチレングリコールジメチルエーテルの代わりにジエチレングリコールメチルエチルエーテルとプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとの混合物を使用したことを除外すれば、実施例1と同じ方法によって実施して感光性樹脂造成物を製造した。但し、混合物の混合比率を異にして、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル100重量%である比較例4a、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル15重量%とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート85重量%である比較例4b、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル10重量%とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート90重量%である比較例4c、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル5重量%とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート95重量%である比較例4d、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル4重量%とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート96重量%である比較例4e、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル3重量%とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート97重量%である比較例4fを製造した。比較例4は比較例4a〜4fを含む。
<比較例5>
上記実施例1で感光性樹脂造成物の製造の際に、トリエチレングリコールジメチルエーテルの代わりにジエチレングリコールジエチルエーテルとプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとの混合物を使用したことを除外すれば、実施例1と同じ方法によって実施して感光性樹脂造成物を製造した。但し、混合物の混合比率を異にして、ジエチレングリコールジエチルエーテル100重量%である比較例5a、ジエチレングリコールジエチルエーテル15重量%とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート85重量%である比較例5b、ジエチレングリコールジエチルエーテル10重量%とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート90重量%である比較例5c、ジエチレングリコールジエチルエーテル5重量%とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート95重量%である比較例5d、ジエチレングリコールジエチルエーテル4重量%とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート96重量%である比較例5e、ジエチレングリコールジエチルエーテル3重量%とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート97重量%である比較例5fを製造した。比較例5は比較例5a〜5fを含む。
<比較例6>
上記実施例1で感光性樹脂造成物の製造の際に、トリエチレングリコールジメチルエーテルの代わりにジプロピレングリコールジメチルエーテルとプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとの混合物を使用したことを除外すれば、実施例1と同じ方法によって実施して感光性樹脂造成物を製造した。但し、混合物の混合比率を異にして、ジプロピレングリコールジメチルエーテル100重量%である比較例6a、ジプロピレングリコールジメチルエーテル15重量%とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート85重量%である比較例6b、ジプロピレングリコールジメチルエーテル10重量%とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート90重量%である比較例6c、ジプロピレングリコールジメチルエーテル5重量%とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート95重量%である比較例6d、ジプロピレングリコールジメチルエーテル4重量%とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート96重量%である比較例6e、ジプロピレングリコールジメチルエーテル3重量%とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート97重量%である比較例6fを製造した。比較例6は比較例6a〜6fを含む。
上記実施例1〜9及び比較例1〜3の感光性樹脂造成物の物性を下記のように測定して下記の表3に示した。
A)均一度−シリコン窒化物SiNxが蒸着された約370cm×470cmガラス基板上にスリットコータ(Slit coater)を使用して上記実施例1〜9、及び上記比較例1〜3で製造されたポジティブ形感光性樹脂造成物溶液を塗布した。その後、約0.5torrまで真空乾燥(Vacuum Conductive Drying:VCD)の後、約100℃で、約2分間ホットプレート上でプリベークして約4.0μmの塗布膜を形成した。本実施例では均一度(Unifomity)を評価するために塗布膜の各領域に従う厚さ差異を測定する。均一度が約3%未満である場合を○、約3%〜5%である場合を△、5%以上である場合を×で表示した。
B)感度−上記A)で得られた膜に対してコンタクトホールの臨界値(Contact Hole Critical Demension:Contact Hole CD)が約12μm×14μmであり、パッド部のハーフトーン(Half tone)透過率が約75%であるパターンマスクを使用して広帯域(Broadband)での強度が約25mW/cmである紫外線を約1秒間隔で1〜10秒間照射した。その後、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド約2.38重量%の水溶液に約23℃で70秒間現像した後、超純水で約60秒間洗浄した。最終硬化のためにオーブン中で約230℃約30分間加熱してパターン膜を得た。走査電子顕微鏡(Scanning Electron Microsope:SEM)を利用してコンタクトホール臨界値が約9.5μm×12.5μm形成される露光量を基準に感度を測定した。
C)限界解像度−上記B)の感度測定の際に、形成されたパターン膜のコンタクトホールを基準に最小大きさとして測定した。但し、臨界値偏向度(Critical Demension Bias)が同一である場合のみに限界解像度として示す。
D)Contact Hole Scum−上記A)の感度測定の際に、形成されたパターン膜のコンタクトホールを基準にスカム(Scum)を検査した。スカムが無い場合を○、スカムが観察される場合を×で表示した。
E)接着力−上記B)の感度測定の際に、形成されたパッド部パターン膜の最小スカムが約0.5μm未満である場合を○、約0.5μm〜1.5μmである場合を△、約1.5μm以上である場合を×で表示した。
F)透過度−透明性の評価は上記A)の感度測定の際に、形成されたパターン膜で進行した。分光光度計を利用してパターン膜の透過率を測定し、測定された透過率と約400nm〜800nmの透過率とを積算して実施例の透過率として算出して測定した。この時の透過率が約98%以上である場合を○、約95%〜98%である場合を△、約95%未満の場合を×で表示した。但し、透過度測定はベアガラス(bare glass)基板に基づいて測定した。
G)明暗比−上記E)の透明性評価の際の測定基板を、明暗測定器(Contrast Tester Model:CT−1)を利用してノーマリーホワイトモード(Normally white Mode)の偏光板の間に基板を装着した。本実験ではホワイト輝度、ブラック輝度を測定してブラック輝度に対するホワイト輝度の比(ホワイト輝度/ブラック輝度)で明暗比(Contrast Ratio)を測定した。この時の明暗比値が約2200以上である場合を○、約2000以上約22000未満である場合を△、約20000未満である場合を×で表示した。
H)平坦度−下部段差が約1.0μm〜1.5μmのTFT基板上に上記A)〜B)の条件下でコーティング、現像、硬化工程を進行した後、薄膜トランジスター基板のチャンネルが重畳する部分と画素が重畳する部分との段差差異を通じて平坦度を評価した。即ち、遮光領域と透過領域との段差差異が、コーティングの後、厚さ対比約5%未満である場合を○、約5%〜10%である場合を△、約10%以上である場合を×で表示した。
Figure 2014164305
また、上記実施例10〜13及び比較例4〜6の感光性樹脂造成物の平坦度を測定して下記の表4に示した。下部段差が約1.0μm〜1.5μmのTFT基板上に上記A)〜B)の条件下でコーティング、現像、硬化工程を進行した後、薄膜トランジスター基板のチャンネルが重畳する部分と画素が重畳する部分との段差差異を通じて平坦度を評価した。この時の段差差異が、コーティングの後、厚さ対比約5%未満である場合を○、約5%〜10%である場合を△、約10%以上である場合を×で表示した。
Figure 2014164305
以上、本発明の実施形態について図面を参照しながら詳細に説明したが、本発明は、上述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の技術的範囲から逸脱しない範囲内で多様に変更実施することが可能である。
100 信号制御部
200 ゲート駆動部
300 データ駆動部
AL 半導体層
BM ブラックマトリックス
BM−OP 開口部
CE 共通電極
CF カラーフィルター(カラー層)
CH 貫通ホール
CL 共通ライン
DA 表示領域
DP 表示パネル
DS1 第1表示基板
DS2 第2表示基板
DE ドレイン電極
DL データライン
GE ゲート電極
GL ゲートライン
IL 絶縁層
LCL 液晶層
NDA 非表示領域
OL 平坦化層
PE 画素電極
PX 画素
SA 遮光領域
SE ソース電極
SL シール部材
SUB1 第1ベース基板
SUB2 第2ベース基板
TA 透過領域
TFT 薄膜トランジスター

Claims (10)

  1. アクリル系共重合体100重量部及び1,2−キノンジアジド化合物5〜100重量部を含む溶質10〜50重量%と、
    沸騰点が190℃以上であるグリコール系物質を含有する残部の溶媒と、を有し、
    前記アクリル系共重合体は、不飽和カルボン酸又はその無水物、エポキシ基含有不飽和化合物、及びオレフィン系不飽和化合物が共重合されることを特徴とする感光性樹脂造成物。
  2. 前記アクリル系共重合体は、
    前記共重合された不飽和カルボン酸又はその無水物5〜45重量部と、
    前記エポキシ基含有不飽和化合物10〜70重量部と、
    前記オレフィン系不飽和化合物10〜70重量部と、を含むことを特徴とする請求項1に記載の感光性樹脂造成物。
  3. 前記溶媒は、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチレングリコールブチルエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチレングリコールターシャリーブチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルヘキシルエーテル、ジエチレングリコールメチルヘキシルエーテル、ジプロピレングリコールブチルメチルエーテル、ジプロピレングリコールエチルヘキシルエーテル、及びジプロピレングリコールメチルヘキシルエーテルの中から選択された少なくともいずれか1つを含むことを特徴とする請求項1に記載の感光性樹脂造成物。
  4. 前記溶媒は、アルコール、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート、エチレングリコールアルキルエーテルプロピオネート、エチレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールアルキルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、メチルベータメトキシプロピオネート、及びエチルベータエトキシプロピオネートの中から選択された少なくともいずれか1つを更に含むことを特徴とする請求項3に記載の感光性樹脂造成物。
  5. 前記グリコール系物質は、全体感光性樹脂造成物を100重量%とする場合、5重量%以上であることを特徴とする請求項4に記載の感光性樹脂造成物。
  6. 前記アクリル系共重合体100重量部に対して可塑剤0.0001重量部〜10重量部を更に含むことを特徴とする請求項1に記載の感光性樹脂造成物。
  7. 前記可塑剤は、ジオクチルフタレート、ジイソノニルフタレート、ジオクチルアジペート、トリクレジルホスフェート、及び2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオンモノイソブチレート、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオンジイソブチレートの中から選択された少なくともいずれか1つを含むことを特徴とする請求項6に記載の感光性樹脂造成物。
  8. 透過領域及び該透過領域に隣接して複数個の信号配線が配置された遮光領域を含む第1ベース基板と、
    前記透過領域及び前記遮光領域に重畳し、前記複数個の信号配線をカバーして硬化された感光性樹脂造成物を含む有機平坦化層と、
    前記有機平坦化層上に配置されて前記透過領域に重畳する画素電極と、を備え、
    前記感光性樹脂造成物は、
    アクリル系共重合体100重量部及び1,2−キノンジアジド化合物5〜100重量部を含む溶質10重量%〜50重量%と、
    沸騰点が190℃以上であるグリコール系物質を含有する残部の溶媒と、を有し、
    前記アクリル系共重合体は、不飽和カルボン酸又はその無水物、エポキシ基含有不飽和化合物、及びオレフィン系不飽和化合物が共重合されることを特徴とする表示装置。
  9. 前記感光性樹脂造成物は、前記アクリル系共重合体100重量部に対して可塑剤0.0001重量部〜10重量部を更に含むことを特徴とする請求項8に記載の表示装置。
  10. 前記遮光領域に配置され、前記複数個の信号配線の中の対応する信号配線に連結されて前記画素電極に連結される薄膜トランジスターを更に含み、
    前記有機平坦化層は、前記薄膜トランジスターをカバーすることを特徴とする請求項8に記載の表示装置。
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