JP4817188B2 - 感光性樹脂組成物 - Google Patents
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Description
又、本発明の感光性樹脂組成物は、感度、解像度、耐熱性、透明性、及び耐熱変色性に優れており、従って、本発明の感光性樹脂組成物を利用してフォトレジストパターンを形成する場合、パターニングに有利であるという効果がある。
本発明の一実施形態による感光性樹脂組成物は、アクリル系共重合体10〜35重量%と、キノンジアジド化合物5〜10重量%と、シラン系界面活性剤0.01〜0.5重量%と、溶媒55〜80重量%とを含む。
アクリル系共重合体は、現像過程でフォトレジスト膜の表面にスカム(scum)が発生しないようにする役割を果たす。
本発明の感光性樹脂組成物において、感光性化合物としてキノンジアジド化合物を使用する。
界面活性剤は、感光性組成物の塗布性や現像性を向上させるために使用する。本発明の感光性樹脂組成物は、下記の一般式1で示されるシリコン(Si)系界面活性剤を含む。
本発明の感光性樹脂組成物の製造には、ジエチレングリコール類の溶媒を使用する。ジエチレングリコール類の具体的な例としては、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル等がある。これらは、単独又は混合して使用することができる。ジエチルグリコール類の溶媒は、溶解性、各成分との反応性、塗布膜の流動性、及びコーティング安定性面で有利である。
次に、本発明による感光性樹脂組成物を使用したフォトレジストパターンの形成方法を具体的に説明する。
図4は、本発明による感光性樹脂組成物で形成したオーバーコーティング層を含む反射−透過型液晶表示パネルに対する概略的な平面図である。
図7〜図11は、図6に示した表示基板の製造工程を説明するための工程断面図である。
(合成例1)
冷却管と攪拌器を具備したフラスコに、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)10重量部、及びジエチレングリコールジメチルエーテル300重量部、メタクリル酸20重量部、メタクリル酸グリシジル10重量部、2−ヒドロキシエチルアクリレート25重量部、イソボルニルアクリレート30重量部、シクロヘキシルメタクリレート15重量部を入れた後、窒素置換した後、徐々に攪拌を始めた。反応溶液を62℃まで上昇させて、この温度を5時間維持して共重合体を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形粉濃度は25重量%で、重合体の重量平均分子量は10000であった。ここで、重量平均分子量はゲル浸透クロマトグラフィ(Gel Permeation Chromatography;GPC)を使用して測定したポリスチレン換算平均分子量である。
(合成例2)
溶剤として適当量のアセトンと塩基として約2モルのトリエチルアミンの存在下で、4,4’−[1−[4−[1−[4−ヒドロキシフェニル]−1−メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビスフェノール1molと、1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸[クロライド]2molを縮合反応させて、[4,4’−[1−[4−[1−[4−ヒドロキシフェニル]−1−メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビスフェノール・1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル]を得た。具体的に、縮合反応は室温で進行され、約12時間攪拌された。反応物は濾過され副産物であるトリエチルアンモニウム塩化物を除去した。アセトン溶液を水で希釈させて精製していないキノンジアジドが沈殿し、キノンジアジドはじょうごで採集し、水で洗浄された後、室温で約24時間真空乾燥した。
(実施例1)
合成例1で得られた重合体溶液100重量部と、縮合物[4,4’−[1−[4−[1−[4−ヒドロキシフェニル]−1−メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビスフェノール・1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル]8重量部とを混合して、固形粉の濃度が27重量%になるようにジエチレングリコールジメチルエーテルで溶解させ、下記の一般式2で表現される界面活性剤を全体感光性樹脂組成物に対して0.15重量%を入れた後、0.2μmのミリポアフィルタで濾過して感光性樹脂組成物を製造した。
合成例1で得られた重合体溶液100重量部と、縮合物[4,4’−[1−[4−[1−[4−ヒドロキシフェニル]−1−メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビスフェノール・1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル]8重量部とを混合して、固形粉の濃度が27重量%になるようにジエチレングリコールメチルエチルエーテルで溶解させ、一般式2で表現される界面活性剤を全体感光性樹脂組成物に対して0.15重量%を入れた後、0.2μmのミリポアフィルタで濾過して感光性樹脂組成物を製造した。
合成例1で得られた重合体溶液100重量部と、縮合物[4,4’−[1−[4−[1−[4−ヒドロキシフェニル]−1−メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビスフェノール・1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル]8重量部とを混合して、全体感光性樹脂組成物に対して固形粉の濃度が27重量%になるようにジエチレングリコールジエチルエーテルで溶解させ、一般式2で表現される界面活性剤を全体感光性樹脂組成物に対して0.15重量%を入れた後、0.2μmのミリポアフィルタで濾過して感光性樹脂組成物を製造した。
合成例1で得られた重合体溶液100重量部と、縮合物[4,4’−[1−[4−[1−[4−ヒドロキシフェニル]−1−メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビスフェノール・1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル]8重量部とを混合して、固形粉の濃度が27重量%になるようにジエチレングリコールジメチルエーテルで溶解させ、下記の一般式3で表現される界面活性剤を全体感光性樹脂組成物に対して0.15重量%を入れた後、0.2μmのミリポアフィルタで濾過して感光性樹脂組成物を製造した。
合成例1で得られた重合体溶液100重量部と、縮合物[4,4’−[1−[4−[1−[4−ヒドロキシフェニル]−1−メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビスフェノール・1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル]8重量部とを混合して、固形粉の濃度が27重量%になるようにジエチレングリコールジメチルエーテルで溶解させ、下記の一般式4で表現される界面活性剤を全体感光性樹脂組成物に対して0.15重量%を入れた後、0.2μmのミリポアフィルタで濾過して感光性樹脂組成物を製造した。
合成例1で得られた重合体溶液100重量部と、縮合物[4,4’−[1−[4−[1−[4−ヒドロキシフェニル]−1−メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビスフェノール・1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル]8重量部とを混合して、固形粉の濃度が27重量%になるようにプロピレングリコールメチルエーテルアセテートで溶解させ、界面活性剤としてポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテルを全体感光性樹脂組成物に対して0.15重量%を入れた後、0.2μmのミリポアフィルタで濾過して感光性樹脂組成物を製造した。
上記実施例1〜実施例5及び比較例1で製造した感光性樹脂組成物の流動性を評価するための方法は次のようである。
KRUSS社のDSA−100装置のSessile Drop Methodを利用して、それぞれの感光性樹脂組成物を基板上に落とした後、それぞれの感光性樹脂組成物の基板に対する接触角を測定する。基板としては、窒化シリコン(SiNx)基板を使用した。これによる結果を下記の表1に記載した。
実施例1〜実施例5及び比較例1で製造した感光性樹脂組成物で形成したフォトレジスト膜のコーティング安定性を評価するための方法は次のようである。
まず、スピンコーターを利用して感光性樹脂組成物を下記の表2に記載したそれぞれのコーティングRPM(Revolutions Per Minute、分当り回転数)で基板上に塗布する。その後、85〜95℃で2分間プリベークしてフォトレジスト膜を形成した後、ナノスペクトロメータを利用してプリベーク温度別厚み変化を測定した。
実施例1〜実施例5及び比較例1で準備した感光性樹脂組成物で形成したフォトレジストパターンの感度評価のための方法は次のようである。
それぞれの感光性樹脂組成物で形成したフォトレジストパターンの解像度評価方法は次のようである。
実施例1〜実施例5及び比較例1の感光性樹脂組成物で形成したフォトレジストパターンの耐熱性評価方法は次のようである。
実施例1〜実施例5及び比較例1の感光性樹脂組成物で形成したフォトレジストパターンの透明性評価方法は次のようである。
実施例1〜実施例5及び比較例1の感光性樹脂組成物で形成したフォトレジストパターンの耐熱変色性評価方法は次のようである。
20 フォトレジスト膜
30 マスク
40 フォトレジストパターン
100 表示基板
101 第1ベース基板
102 ゲート絶縁層
104 第1オーバーコーティング層
104a 凹凸
155,165 スイッチング素子
157、167 (第1、第2)画素電極
158、168 (第1、第2)反射電極
200 カラーフィルタ基板
201 第2ベース基板
210 遮光層
220 カラーフィルタ層
230 第2オーバーコーティング層
240 共通電極層
300 液晶層
Claims (10)
- 前記不飽和カルボン酸は、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、及びイタコン酸からなる群より選択される少なくとも1つを含むことを特徴とする請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記エポシキ基含有不飽和化合物は、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、α−エチルグリシジルアクリレート、α−n−プロピルグリシジルアクリレート、α−n−ブチルグリシジルアクリレート、β−メチルグリシジルアクリレート、β−メチルグリシジルメタクリレート、β−エチルグリシジルアクリレート、β−エチルグリシジルメタクリレート、3,4−エポシキブチルアクリレート、3,4−エポシキブチルメタクリレート、6,7−エポシキヘプチルアクリレート、6,7−エポシキヘプチルメタクリレート、α−エチル−6,7−エポキシヘプチルアクリレート、o−ビニルベンジルグリシジルエーテル、m−ビニルベンジルグリシジルエーテル、及びp−ビニルベンジルグリシジルエーテルからなる群より選択される少なくとも1つを含むことを特徴とする請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記オレフィン系不飽和化合物は、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、n−ブチルメタクリレート、sec−ブチルメタクリレート、tert−ブチルメタクリレート、メチルアクリレート、イソプロピルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、2−メチルシクロヘキシルメタクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート、2−メチルシクロヘキシルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルメタクリレート、ジシクロペンタニルメタクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチルアクリレート、イソボルニルアクリレート、フェニルメタクリレート、フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、スチレン、α−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、ビニルトルエン、1,3−ブタジエン、イソプレン、及び2,3−ジメチル−1,3−ブタジエンからなる群より選択される少なくとも1つを含むことを特徴とする請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記キノンジアジド化合物は、1,2−キノンジアジド−4−スルホン酸エステル、1,2−キノンジアジド−5−スルホン酸エステル、及び1,2−キノンジアジド−6−スルホン酸エステルからなる群より選択される少なくとも1つを含むことを特徴とする請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記溶媒は、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、及びジエチレングリコールジエチルエーテルからなる群より選択される少なくとも1つを含むことを特徴とする請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記アクリル系共重合体の重量平均分子量は、5000〜30000であることを特徴とする請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記感光性樹脂組成物は、メラミン樹脂、接着剤、及びアクリル系化合物からなる群より選択される少なくとも1つの添加剤を更に含むことを特徴とする請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記感光性樹脂組成物は、前記添加剤を2〜3重量%含むことを特徴とする請求項8に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記添加剤は、添加剤総重量に対して前記メラミン樹脂20〜30重量%と、接着剤45〜55重量%と、アクリル系化合物25〜30重量%とを含むことを特徴とする請求項9に記載の感光性樹脂組成物。
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---|---|
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014164305A (ja) * | 2013-02-27 | 2014-09-08 | Samsung Display Co Ltd | 感光性樹脂造成物及びこれを用いた表示装置 |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100701641B1 (ko) * | 2004-08-02 | 2007-03-30 | 도레이새한 주식회사 | 진공증착에 의해 구리도금층을 형성하는 연성회로기판용 적층구조체의 제조방법 및 그 장치 |
JP4849251B2 (ja) * | 2007-01-18 | 2012-01-11 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法 |
JP4352085B2 (ja) | 2007-12-18 | 2009-10-28 | 株式会社東芝 | 情報処理装置および切断制御方法 |
KR101378439B1 (ko) * | 2008-08-20 | 2014-03-28 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 및 그 제조 방법 |
KR101669085B1 (ko) * | 2009-01-28 | 2016-10-25 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 감방사선성 수지 조성물 및, 층간 절연막 및 그의 형성 방법 |
KR101290057B1 (ko) * | 2010-07-19 | 2013-07-26 | 주식회사 엘지화학 | 코팅성과 재코팅성이 우수한 열경화성 보호막 조성물 |
KR101229960B1 (ko) * | 2011-01-28 | 2013-02-06 | 한양대학교 산학협력단 | 광산발생제를 포함하는 테트라 폴리머 레지스트 및 이의 제조 방법 |
JP5727350B2 (ja) * | 2011-10-26 | 2015-06-03 | 信越化学工業株式会社 | リソグラフィー用レジスト組成物の製造方法、レジスト保護膜形成用組成物の製造方法、ケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物の製造方法、及び有機レジスト下層膜形成用組成物の製造方法 |
KR102025099B1 (ko) * | 2011-12-13 | 2019-09-25 | 주식회사 동진쎄미켐 | 포토레지스트 조성물 |
US9772558B2 (en) | 2013-09-24 | 2017-09-26 | International Business Machines Corporation | Sulfonic acid ester containing polymers for organic solvent based dual-tone photoresists |
KR102059225B1 (ko) | 2015-11-27 | 2019-12-26 | 주식회사 엘지화학 | 경화형 조성물 및 이를 이용한 패턴의 제조방법 |
CN109422987B (zh) * | 2017-08-30 | 2021-03-09 | 京东方科技集团股份有限公司 | 平坦层用组合物、其制备方法、平坦层材料及显示装置 |
JP7056320B2 (ja) * | 2018-03-30 | 2022-04-19 | 住友ベークライト株式会社 | 感光性樹脂組成物、樹脂膜及び電子装置 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63250311A (ja) * | 1987-04-06 | 1988-10-18 | Kao Corp | 油中水型化粧料 |
JPH07281018A (ja) * | 1994-04-06 | 1995-10-27 | Sumitomo Chem Co Ltd | ポジ型レジスト組成物 |
DE60137398D1 (de) * | 2000-11-30 | 2009-03-05 | Fujifilm Corp | Lithographische Druckplattenvorläufer |
JP2003215800A (ja) | 2002-01-24 | 2003-07-30 | Kodak Polychrome Graphics Japan Ltd | 感光性組成物および感光性平版印刷版 |
KR100973799B1 (ko) * | 2003-01-03 | 2010-08-03 | 삼성전자주식회사 | Mmn 헤드 코터용 포토레지스트 조성물 |
JP4315013B2 (ja) | 2003-08-01 | 2009-08-19 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法 |
KR20050022494A (ko) * | 2003-09-02 | 2005-03-08 | 삼성전자주식회사 | 스핀레스 코터용 액정표시소자의 포토레지스트 조성물과이를 이용한 포토레지스트 패턴 형성 방법 |
JP4586703B2 (ja) * | 2004-10-14 | 2010-11-24 | 住友化学株式会社 | 感放射線性樹脂組成物 |
KR101112545B1 (ko) * | 2004-12-16 | 2012-03-13 | 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 | 감광성 수지 및 상기 감광성 수지로 이루어진 패턴을포함하는 박막 표시판 및 그 제조 방법 |
KR101209049B1 (ko) * | 2004-12-24 | 2012-12-07 | 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 | 감광성 수지 및 상기 감광성 수지로 이루어진 패턴을 포함하는 박막 표시판 및 그 제조 방법 |
-
2005
- 2005-12-02 KR KR1020050117111A patent/KR101288411B1/ko not_active IP Right Cessation
-
2006
- 2006-10-19 US US11/550,897 patent/US7371499B2/en active Active
- 2006-11-30 JP JP2006324270A patent/JP4817188B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014164305A (ja) * | 2013-02-27 | 2014-09-08 | Samsung Display Co Ltd | 感光性樹脂造成物及びこれを用いた表示装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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