JP2006162535A - 電子ビーム管 - Google Patents

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Abstract

【課題】窓部材と蓋部材との気密接合が確実に達成され、高い出力を有するものでありながら、窓部材が高温状態となって破損することが確実に防止され、長い使用寿命が得られる電子ビーム管を提供すること。
【解決手段】電子ビーム管は、真空容器の内部に電子ビーム発生器が設けられてなり、真空容器が、各々厚み方向に延びる梁部分によって区画されて形成された複数の電子ビーム透過孔を有する蓋部材によって管部材の前方側の開口が塞がれ、更に、外面に保護膜が形成された窓部材によって電子ビーム透過孔が密閉されて構成される。窓部材は、複数のリブ部分によって区画されて形成された電子ビーム通過領域を有し、各リブ部分の内面が対応する蓋部材における梁部分の外面に接合されており、各リブ部分における内面に、保護膜の材質との関係において選択された材質よりなる反り防止膜が形成される。
【選択図】図4

Description

本発明は、例えば半導体ウエハ等に塗布されたレジストの硬化処理や各種印刷物に塗布されたインクの乾燥処理等に利用される、電子ビームを用いた真空型の電子ビーム管に関するものである。
現在、例えば半導体ウエハ等に塗布されたレジストの硬化処理や、印刷業界における印刷用インクの乾燥処理等において、短時間に処理を行うために、電子ビームが利用され始めており、かかる電子ビームを照射する器具としては、電子ビーム管が提案されている。この電子ビーム管は、真空容器内に電子ビーム発生器を具えてなり、先端に電子ビームを照射する窓部材を有すると共に基端に当該基端面から突出する給電端子を有するものである。
このような電子ビーム管は、大型の真空装置を用いることなしに電子ビームを照射することができるという利点を有すると共に、それ自体が複雑な構造を有さず、小型で取扱が容易であるという利点を有する。
図6は、従来における電子ビーム管の一例における構成の概略を示す説明用断面図であり、図7は、図6に示す電子ビーム管における、蓋部材と窓部材との接合状態を示す説明用断面図である。
この電子ビーム管40は、内部が真空雰囲気に維持された真空容器41を具えてなり、この真空容器41内に、電子ビーム発生器60が配設されると共に導電体よりなる円筒状スリーブ部材43が電子ビーム発生器60の周囲を囲むよう真空容器41の管軸と同軸状に配設されて構成されている。
真空容器41は、後方(図6において下方)側が封止されたガラス製の管部材42と、当該管部材42の前方側の開口を覆うよう設けられた、電子ビーム発生器60よりの電子ビームが通過する電子ビーム透過孔46が形成された蓋部材45と、当該蓋部材45の電子ビーム透過孔46を前面において密閉するよう設けられた窓部材50とにより構成されている。
窓部材50は、例えばシリコンウエハよりなる板状の基材51の一面(内方側に位置される表面)上に、例えばシリコンよりなる補強用の格子状のリブ部分形成部材を、例えば酸化シリコンよりなる接合材52Aによって溶着接合し、これにより、複数の小径の電子ビーム通過領域53がリブ部分52によって区画されて縦横に並ぶよう形成されたものにより構成されている。このような構成とすることにより、窓部材50の電子ビーム通過領域53を電子ビームが通過するときに発生する熱がリブ部分52を介して蓋部材45に伝熱され、窓部材50、特には電子ビーム通過領域53が高温状態となって破損することを防止することができる。
窓部材50の外面(電子ビーム出射方向前方側の表面)には、例えばSiNよりなる保護膜55が形成されている。ここに、保護膜55は、例えばCVD法により形成することができる。
そして、この窓部材50は、例えば金属ロウ材56によって蓋部材45に気密に溶着接合されている。具体的には、蓋部材45における電子ビーム透過孔46の周縁部分の表面上に、当該電子ビーム透過孔46に対応する貫通孔を有するアルミニウム−シリコン合金板よりなる金属ロウ材56を配置し、この金属ロウ材56の上に窓部材50を載置し、押圧した状態で、真空中で加熱して金属ロウ材56を溶融させることにより、当該窓部材50が蓋部材45に溶着接合される。
近年、このような電子ビーム管40に対する要請の一として、例えば高出力化があり、十分に高い強度の電子ビームを安定的に出射することができるものであることが求められている。
しかしながら、高い出力を有する電子ビーム管においては、電子ビーム透過孔46の中央部に位置される窓部材50の電子ビーム通過領域53において発生する熱を十分に逃がしきれず、熱が蓄積されることによって高温状態になって当該窓部材50が破損されやすくなり、その結果、電子ビーム管の使用寿命を長いものとすることができない、という問題がある。
また、保護膜55を基材51上に形成する際に、窓部材50における、保護膜55が形成された外面側の熱膨張率と、基材51の表面が露出する内面側の熱膨張率との差に起因して、冷却時の保護膜55の収縮による引っ張り応力が発生し、得られる窓部材50においては、周縁部に反りが生じて全体が弧状に湾曲した状態となってしまうため、十分に信頼性の高い気密接合を達成することができず、所要の電子ビーム管を確実に得ることができない、という問題がある。
特開2001−059900号公報
本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであって、窓部材と蓋部材との気密接合を確実に達成することができ、高い出力を有するものでありながら、窓部材が高温状態となって破損することを確実に防止することができて、長い使用寿命を有するものとして構成することができる電子ビーム管を提供することを目的とする。
本発明の電子ビーム管は、真空容器の内部に電子ビーム発生器が設けられてなる電子ビーム管において、
前記真空容器は、前方に開口を有する管部材と、当該管部材の開口を塞ぐように設けられた、各々厚み方向に延びる梁部分によって区画されて形成された複数の電子ビーム透過孔を有する蓋部材と、この蓋部材の電子ビーム透過孔をその前面において密閉するよう設けられた、外面に保護膜が形成された窓部材とにより構成されており、
窓部材は、各々真空容器の管軸方向内方に向かって延びる複数のリブ部分によって区画されて形成された電子ビーム通過領域を有し、各々のリブ部分の内方側の表面が対応する蓋部材における梁部分の外方側の表面に接合されており、
各々のリブ部分における内方側の表面には、保護膜を構成する材質との関係において選択された材質よりなる反り防止膜が形成されていることを特徴とする。
本発明の電子ビーム管においては、保護膜および反り防止膜が、SiC、SiN、DLC、ダイヤモンド、AlN、Al2 3 、SiO2 のうちから選ばれたものよりなることが好ましい。
また、本発明の電子ビーム管においては、反り防止膜が保護膜と同一材質よりなることがさらに好ましく、このような構成の場合には、反り防止膜が保護膜より厚く形成された構成とされていることが好ましい。
本発明の電子ビーム管においては、窓部材の単位面積当たりの電流値の最大値が12μA/mm2 以上である構成とすることができる。
本発明の電子ビーム管によれば、窓部材がリブ部分の内面に反り防止膜が形成されたものであることにより、保護膜を形成する際に、窓部材の外面側における熱膨張収縮特性と、内面側における熱膨張収縮特性との差が零または小さく抑制された状態とされるので、窓部材の外面と内面とにおいて、実質的に同等の大きさの引っ張り応力が同方向に作用し、窓部材に反りが生ずることを確実に防止することができ、これにより、窓部材と蓋部材との十分に信頼性の高い気密接合を達成することができる。
従って、電子ビームの照射に伴って窓部材に生ずる熱を、窓部材の複数のリブ部分およびこれらに接合された蓋部材の複数の梁部分を介して、高い効率で逃がすことができるので、窓部材が高温状態となって破損することを確実に防止することができる結果、長い使用寿命を得ることができる。
反り防止膜がその材質および厚みが保護膜の材質および厚みとの関係において選択されて形成されたものであることにより、所要の反り防止効果を確実に得ることができ、蓋部材と窓部材との気密接合を一層確実に達成することができる。
本発明の電子ビーム管は、その構造上、高い放熱性を有するので、従来のものであれば、窓部材が高温状態となって破損に至るおそれのある、窓部材の単位面積当たりの電流値の最大値が12μA/mm2 以上となる極めて高い出力を有するものとして構成することができる。
以下、本発明について、図面を参照しながら、詳細に説明する。
図1は、本発明の電子ビーム管の一例における構成の概略を示す説明用断面図であり、図2は、図1に示す電子ビーム管における蓋部材の構成を示す平面図であり、図3は、図1に示す電子ビーム管における窓部材の構成の一部を示す拡大断面図であり、図4は、図1に示す電子ビーム管における蓋部材と窓部材との接合状態を示す拡大断面図である。
この電子ビーム管10は、内部が真空雰囲気に維持された略管状の真空容器11を具えてなり、この真空容器11内に、電子ビーム発生器35が配設されると共に電子ビーム遮蔽用の円筒状スリーブ部材13が電子ビーム発生器35の周囲を囲むよう真空容器11の管軸と同軸状に配設されている。
真空容器11は、前方側に開口を有すると共に後方側が封止された、例えば円筒状のパイレックス(登録商標)ガラスよりなる管部材12と、当該管部材12の前方側の開口を覆うよう設けられた板状の蓋部材15とを備えている。
蓋部材15は、各々蓋部材15の肉厚中を厚み方向に延びる複数の梁部分17によって区画されて縦横に並ぶよう形成された、電子ビーム発生器35よりの電子ビームが通過する複数の電子ビーム透過孔16を有する。
そして、蓋部材15の電子ビーム透過孔16を前面において密閉するよう窓部材20が設けられており、これにより、真空容器11の内部が真空雰囲気に維持されている。
また、図1において、36〜38は、いずれも電子ビーム発生器35に電気的に接続されたリード棒であり、管部材12の後端壁を気密に貫通した状態で固定されている。
窓部材20は、例えばシリコンウエハよりなる板状の基材21の一面(内方側に位置される表面)上に、例えばシリコンよりなる補強用の格子状のリブ部分形成部材を、例えば酸化シリコンよりなる接合材26によって溶着接合し、これにより、所要の位置において、複数の小径の電子ビーム通過領域23がリブ部分22によって区画されて縦横に並ぶよう形成されたものにより構成されている。
窓部材20の外面(電子ビーム出射方向前方側の表面)には、保護膜25が形成されている。保護膜25を形成することにより、例えば窓部材20を構成するシリコンが酸化したり、あるいは所定の処理雰囲気中に晒された状態とされることにより処理ガスと反応したりして、表面が変質して電子ビームの出力が低下することを防止することができる。
保護膜25は、窓部材20の基材21を構成する材料に対する親和性が高い材質により構成されていることが好ましく、具体的には、例えばSiC、SiN、DLC(ダイヤモンドライクカーボン)、ダイヤモンド、AlN、Al2 3 、SiO2 のうちから選ばれたものにより構成されていることが好ましい。
保護膜25の厚みは、例えば0.05〜0.3μmであることが好ましい。
保護膜25は、例えばCVD法(化学気相成長法)により形成することができる。
この窓部材20には、各々のリブ部分22における内面に、保護膜25を構成する材質との関係において選ばれた材質、具体的には、保護膜25の形成方法上の理由から、保護膜25と同等の熱膨張率を有する材質よりなる反り防止膜30が形成されている。
具体的には、反り防止膜30は、例えば例えばSiC、SiN、DLC(ダイヤモンドライクカーボン)、ダイヤモンド、AlN、Al2 3 、SiO2 のうちから選ばれたものよりなることが好ましく、保護膜25と同一の材質よりなることが特に好ましい。反射防止膜30が保護膜25と同一の材質よりなることにより、保護膜25および反り防止膜30を容易に形成することができると共に、窓部材20の外面側と内面側との熱膨張率の調整を容易に行うことができる。
反り防止膜30の厚みは、窓部材20の外面側における保護膜25による熱膨張収縮特性と、窓部材20の内面側における反り防止膜30による熱膨張収縮特性とが実質的に同等となるよう設定することができる。一例を示すと、SiN(熱膨張率:3.0×10-6/℃)よりなる保護膜25を0.1μmの厚みで形成する場合には、反射防止膜30として、例えばSiC(熱膨張率:4.0×10-6/℃)が用いられ、0.1〜0.14μmの厚みで形成される。
また、反り防止膜30が保護膜と同一の材質よりなる場合には、厚みが保護膜より大きい状態で形成されていることが好ましい。これにより、窓部材20の外面側と内面側との熱膨張収縮特性の均衡化を一層確実に図ることができる。例えば、保護膜25を0.1μmの厚みで形成する場合には、反り防止膜30は0.12〜0.16μmの厚みで形成される。
反り防止膜30は、例えばCVD法(化学気相成長法)により形成することができる。
そして、この窓部材20は、例えば金属ロウ材27によって蓋部材15に気密に溶着接合されている。具体的には、図4に示すように、蓋部材15における各々の梁部分17を含む電子ビーム透過孔16の周縁部分の表面上に、当該電子ビーム透過孔16に対応する貫通孔を有する板状の金属ロウ材27を配置し、この金属ロウ材27の上に窓部材20を載置し、押圧した状態で、真空中で加熱して金属ロウ材27を溶融させることにより、当該窓部材20が、リブ部分22の一部または全部が対応する蓋部材15の梁部分17に位置合わせされた状態で、蓋部材15に溶着接合される。
金属ロウ材27としては、例えばアルミニウム、アルミニウム−シリコン合金、金、銀などを用いることができ、厚みは例えば0.5〜20μmとされる。
以上において、窓部材が外面側に保護膜25のみが形成されたものである場合には、図5に示すように、保護膜25を基材21の表面に成膜する際に、基材21と保護膜25との熱膨張率の差によって例えば保護膜形成面側に、冷却時の保護膜25の収縮に伴う引っ張り応力が発生する結果、窓部材20の周縁部に反りが生じ、その断面において全体が弧状に湾曲した状態となってしまい、このような状態の窓部材20を蓋部材15に接合しようとした場合には、例えば中央部におけるリブ部分22Aと梁部分17Aとを先にロウ付け(接着)すると、周辺部のリブ部分22Bは、蓋部材15から著しく離間した状態となり、十分な気密性が確保された状態で接合を達成することが困難であったり、接合(接着)すること自体が困難となることがある。また、多量の金属ロウ材27を用いて接合した場合には、大きな(残留)応力が接合部に発生し、電子ビームが照射されると短時間で破損してしまう。
然るに、以上のような電子ビーム管10によれば、窓部材20がリブ部分22の内面に反り防止膜30が形成されたものであることにより、保護膜25を形成する際に、窓部材20の外面側における熱膨張収縮特性と、内面側における熱膨張収縮特性との差が零または小さく抑制された状態とされるので、窓部材20の外面と内面とにおいて、実質的に同等の大きさの引っ張り応力が同方向に作用し、窓部材20に反りが生ずることを確実に防止することができ、これにより、窓部材20に高い平面性が維持され、窓部材20と蓋部材15との十分に信頼性の高い気密接合を達成することができる。例えば、得られる窓部材20の反り量を5μm以下とすることができる。
従って、電子ビームが窓部材20の電子ビーム通過領域23を通過するときに発生する熱を、窓部材20の複数のリブ部分22およびこれらに接合された蓋部材15の複数の梁部分17を介して、高い効率で逃がすことができるので、窓部材20が高温状態となって窓部材20が破損することを確実に防止することができる結果、長い使用寿命を得ることができる。
反り防止膜30がその材質および厚みが保護膜25の材質および厚みとの関係において選択されて形成されたものであることにより、所要の反り防止効果を確実に得ることができ、蓋部材15と窓部材20との気密接合を一層確実に達成することができる。
以上の電子ビーム管10は、その構造上、高い放熱性を有するので、従来のものであれば、窓部材20が高温状態となって破損に至るおそれのある、窓部材20の単位面積当たりの電流値の最大値が12μA/mm2 以上となる極めて高い出力を有するものとして構成することができる。
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記の実施形態に限定されるものではなく、種々の変更を加えることができる。
例えば、窓部材におけるリブ部分のすべてが梁部分に接合されている必要はなく、単に補強部材として機能するものが存在する構成とされていてもよい。
また、窓部材と蓋部材との接合方法は、金属ロウ材によるロウ付けに限定されるものではない。また、窓部材は、金属ロウ材を用いることなしに、蓋部材に直接的に接合された構成とされていてもよい。
さらに、保護膜および反り防止膜を形成する方法は、CVD法に限定されるものではない。
本発明の電子ビーム管の一例における構成の概略を示す説明用断面図である。 図1に示す電子ビーム管における蓋部材の構成を示す平面図である。 図1に示す電子ビーム管における窓部材の構成の一部を示す拡大断面図である。 図1に示す電子ビーム管における蓋部材と窓部材との接合状態を示す拡大断面図である。 前面側に保護膜のみが形成された窓部材と、蓋部材との接合状態を示す拡大断面図である。 従来における電子ビーム管の一例における構成の概略を示す説明用断面図である。 図6に示す電子ビーム管における、蓋部材と窓部材との接合状態を示す説明用断面図である。
符号の説明
10 電子ビーム管
11 真空容器
12 管部材
13 円筒状スリーブ部材
15 蓋部材
16 電子ビーム透過孔
17 梁部分
17A 中央部の梁部分
20 窓部材
21 基材
22 リブ部分
22A 中央部のリブ部分
22B 周縁部のリブ部分
23 電子ビーム通過領域
25 保護膜
26 接合材
27 金属ロウ材
30 反り防止膜
35 電子ビーム発生器
36 リード棒
37 リード棒
38 リード棒
40 電子ビーム管
41 真空容器
42 管部材
43 円筒状スリーブ部材
45 蓋部材
46 電子ビーム透過孔
50 窓部材
51 基材
52 リブ部分
52A 接合材
53 電子ビーム通過領域
55 保護膜
56 金属ロウ材
60 電子ビーム発生器

Claims (5)

  1. 真空容器の内部に電子ビーム発生器が設けられてなる電子ビーム管において、
    前記真空容器は、前方に開口を有する管部材と、当該管部材の開口を塞ぐように設けられた、各々厚み方向に延びる梁部分によって区画されて形成された複数の電子ビーム透過孔を有する蓋部材と、この蓋部材の電子ビーム透過孔をその前面において密閉するよう設けられた、外面に保護膜が形成された窓部材とにより構成されており、
    窓部材は、各々真空容器の管軸方向内方に向かって延びる複数のリブ部分によって区画されて形成された電子ビーム通過領域を有し、各々のリブ部分の内方側の表面が対応する蓋部材における梁部分の外方側の表面に接合されており、
    各々のリブ部分における内方側の表面には、保護膜を構成する材質との関係において選択された材質よりなる反り防止膜が形成されていることを特徴とする電子ビーム管。
  2. 保護膜および反り防止膜が、SiC、SiN、DLC、ダイヤモンド、AlN、Al2 3 、SiO2 のうちから選ばれたものよりなることを特徴とする請求項1に記載の電子ビーム管。
  3. 反り防止膜が、保護膜と同一の材質よりなることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の電子ビーム管。
  4. 反り防止膜が保護膜より厚いことを特徴とする請求項3に記載の電子ビーム管。
  5. 窓部材の単位面積当たりの電流値の最大値が12μA/mm2 以上であることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか一に記載の電子ビーム管。
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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012242381A (ja) * 2011-05-16 2012-12-10 Brigham Young Univ 炭素複合材料の支持構造
JP2013024558A (ja) * 2011-07-14 2013-02-04 Hamamatsu Photonics Kk 電子線照射装置及び電子線透過ユニット
WO2013118393A1 (ja) * 2012-02-08 2013-08-15 浜松ホトニクス株式会社 電子線照射装置及び電子線透過ユニット
WO2014050941A1 (ja) * 2012-09-27 2014-04-03 大日本スクリーン製造株式会社 処理液供給装置、基板処理装置、処理液供給方法、基板処理方法、処理液処理装置および処理液処理方法
JP2014082472A (ja) * 2012-09-27 2014-05-08 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 処理液処理装置および処理液処理方法
WO2015125418A1 (en) * 2014-02-19 2015-08-27 Hitachi Zosen Corporation Electron beam irradiator and irradiation system with emission detection
US10133173B2 (en) 2012-09-27 2018-11-20 SCREEN Holdings Co., Ltd. Processing fluid supply device, substrate processing device, processing fluid supply method, substrate processing method, processing fluid processing device, and processing fluid processing method
WO2021240920A1 (ja) * 2020-05-29 2021-12-02 浜松ホトニクス株式会社 電子線照射装置及び電子線照射装置の製造方法
WO2022230135A1 (ja) * 2021-04-28 2022-11-03 株式会社Nhvコーポレーション 電子線照射装置

Citations (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63177799U (ja) * 1987-05-09 1988-11-17
JPH01195643A (ja) * 1988-01-30 1989-08-07 Tokyo Tungsten Co Ltd 張合わせ材料及びx線管用回転陽極
JPH02138900A (ja) * 1988-11-18 1990-05-28 Nikon Corp 電子線透過窓
JPH03105300A (ja) * 1989-09-20 1991-05-02 Mitsubishi Electric Corp 軟x線透過窓
JPH04127100A (ja) * 1990-09-18 1992-04-28 Sumitomo Electric Ind Ltd X線窓材とその製造方法
JPH058500U (ja) * 1991-07-12 1993-02-05 石川島播磨重工業株式会社 Sor光装置におけるsor光出射用窓構造
JPH05166707A (ja) * 1991-03-13 1993-07-02 Fujitsu Ltd 電子ビーム露光方法
JPH08271700A (ja) * 1995-03-29 1996-10-18 Toshiba Corp 電子ビーム照射装置
JP2000156188A (ja) * 1998-07-02 2000-06-06 General Electric Co <Ge> X線管真空容器用のアルミニウムx線透過窓
JP2000512794A (ja) * 1996-06-12 2000-09-26 アメリカン・インターナショナル・テクノロジーズ・インク 陽極の窓領域が薄いモノリシックシリコン膜により形成される化学線源
JP2001059900A (ja) * 1999-08-24 2001-03-06 Ushio Inc 電子ビーム管
JP2001235600A (ja) * 2000-02-22 2001-08-31 Nissin High Voltage Co Ltd 電子線照射装置の窓箔と電子線照射装置
JP2002139600A (ja) * 2000-11-02 2002-05-17 Katsuhiro Ono 回転ウインドウ型電子線照射装置
JP2002156499A (ja) * 2000-10-13 2002-05-31 Koninkl Philips Electronics Nv 電子線を通す窓
JP2002270479A (ja) * 2001-03-12 2002-09-20 Seiko Epson Corp 半導体装置の製造方法および面発光型半導体レーザの製造方法
JP2004020232A (ja) * 2002-06-12 2004-01-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd 電子線照射装置及びその製造方法
JP2004526965A (ja) * 2001-03-21 2004-09-02 アドバンスト・エレクトロン・ビームズ・インコーポレーテッド 電子ビーム放射器用の放射窓

Patent Citations (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63177799U (ja) * 1987-05-09 1988-11-17
JPH01195643A (ja) * 1988-01-30 1989-08-07 Tokyo Tungsten Co Ltd 張合わせ材料及びx線管用回転陽極
JPH02138900A (ja) * 1988-11-18 1990-05-28 Nikon Corp 電子線透過窓
JPH03105300A (ja) * 1989-09-20 1991-05-02 Mitsubishi Electric Corp 軟x線透過窓
JPH04127100A (ja) * 1990-09-18 1992-04-28 Sumitomo Electric Ind Ltd X線窓材とその製造方法
JPH05166707A (ja) * 1991-03-13 1993-07-02 Fujitsu Ltd 電子ビーム露光方法
JPH058500U (ja) * 1991-07-12 1993-02-05 石川島播磨重工業株式会社 Sor光装置におけるsor光出射用窓構造
JPH08271700A (ja) * 1995-03-29 1996-10-18 Toshiba Corp 電子ビーム照射装置
JP2000512794A (ja) * 1996-06-12 2000-09-26 アメリカン・インターナショナル・テクノロジーズ・インク 陽極の窓領域が薄いモノリシックシリコン膜により形成される化学線源
JP2000156188A (ja) * 1998-07-02 2000-06-06 General Electric Co <Ge> X線管真空容器用のアルミニウムx線透過窓
JP2001059900A (ja) * 1999-08-24 2001-03-06 Ushio Inc 電子ビーム管
JP2001235600A (ja) * 2000-02-22 2001-08-31 Nissin High Voltage Co Ltd 電子線照射装置の窓箔と電子線照射装置
JP2002156499A (ja) * 2000-10-13 2002-05-31 Koninkl Philips Electronics Nv 電子線を通す窓
JP2002139600A (ja) * 2000-11-02 2002-05-17 Katsuhiro Ono 回転ウインドウ型電子線照射装置
JP2002270479A (ja) * 2001-03-12 2002-09-20 Seiko Epson Corp 半導体装置の製造方法および面発光型半導体レーザの製造方法
JP2004526965A (ja) * 2001-03-21 2004-09-02 アドバンスト・エレクトロン・ビームズ・インコーポレーテッド 電子ビーム放射器用の放射窓
JP2004020232A (ja) * 2002-06-12 2004-01-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd 電子線照射装置及びその製造方法

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012242381A (ja) * 2011-05-16 2012-12-10 Brigham Young Univ 炭素複合材料の支持構造
JP2013024558A (ja) * 2011-07-14 2013-02-04 Hamamatsu Photonics Kk 電子線照射装置及び電子線透過ユニット
WO2013118393A1 (ja) * 2012-02-08 2013-08-15 浜松ホトニクス株式会社 電子線照射装置及び電子線透過ユニット
JP2013160721A (ja) * 2012-02-08 2013-08-19 Hamamatsu Photonics Kk 電子線照射装置及び電子線透過ユニット
JP2014082471A (ja) * 2012-09-27 2014-05-08 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 処理液供給装置、基板処理装置、処理液供給方法および基板処理方法
JP2014082472A (ja) * 2012-09-27 2014-05-08 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 処理液処理装置および処理液処理方法
WO2014050941A1 (ja) * 2012-09-27 2014-04-03 大日本スクリーン製造株式会社 処理液供給装置、基板処理装置、処理液供給方法、基板処理方法、処理液処理装置および処理液処理方法
US10133173B2 (en) 2012-09-27 2018-11-20 SCREEN Holdings Co., Ltd. Processing fluid supply device, substrate processing device, processing fluid supply method, substrate processing method, processing fluid processing device, and processing fluid processing method
US10761422B2 (en) 2012-09-27 2020-09-01 SCREEN Holdings Co., Ltd. Processing fluid supply device, substrate processing device, processing fluid supply method, substrate processing method, processing fluid processing device, and processing fluid processing method
WO2015125418A1 (en) * 2014-02-19 2015-08-27 Hitachi Zosen Corporation Electron beam irradiator and irradiation system with emission detection
JP2017506335A (ja) * 2014-02-19 2017-03-02 日立造船株式会社 電子線照射装置、および照射検出を有する照射システム
WO2021240920A1 (ja) * 2020-05-29 2021-12-02 浜松ホトニクス株式会社 電子線照射装置及び電子線照射装置の製造方法
WO2022230135A1 (ja) * 2021-04-28 2022-11-03 株式会社Nhvコーポレーション 電子線照射装置

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