JP2006156522A - 配線基板およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】絶縁層3aと、該絶縁層3aと同時焼成して形成された配線層5とを具備してなる配線基板1において、前記配線層5の金属が、Pを含有することを特徴とする。
【選択図】図2
Description
配線層5の金属9に含まれるPの平均含有量は250×10−4質量%以下とすることが望ましく、配線層5の金属9におけるPの平均含有量を250×10−4質量%以下とした場合には、配線層5全体の抵抗を小さくすることができ、例えば、直流の信号や低周波の信号であっても伝送特性を向上させることができる。
3a、3b、3c・・・配線層
3・・・絶縁基板
5・・・配線層
7・・・貫通導体
9a・・・中心部
9b・・・表面部
Claims (6)
- 絶縁層と、該絶縁層と同時焼成して形成された配線層とを具備してなる配線基板において、前記配線層の金属が、Pを含有することを特徴とする配線基板。
- 前記配線層の前記金属に含有されるPの平均含有量が250×10−4質量%以下であることを特徴とする請求項1に記載の配線基板。
- 前記配線層の断面において、前記配線層の表面部の前記金属に含まれるPの含有量が200×10−4質量%以下であることを特徴とする請求項1または2に記載の配線基板。
- 前記金属が、銅又は銀を主成分とすることを特徴とする請求項1乃至3のううちいずれかに記載の配線基板。
- Pを含有する金属粉末と樹脂とを含有する導体ペーストを用いて、グリーンシートの主面に回路成形体を形成する工程、またはグリーンシートに形成した貫通孔に前記導体ペーストを充填して貫通導体成形体を形成する工程のうち少なくとも一方を具備するとともに、前記回路成形体、前記貫通導体成形体のうち少なくとも一方を具備するグリーンシートを複数積層して積層体を作製する工程と、該積層体を焼成する工程と、を具備することを特徴とする配線基板の製造方法。
- 前記金属粉末が、銅又は銀を主成分とすることを特徴とする請求項5に記載の配線基板の製造方法。
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