JP2006124240A - 光ファイバ母材の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】加熱源としてプラズマバーナを用いて内付けCVD法による光ファイバ母材の製造方法において、該プラズマバーナを前記出発パイプに対して100mm/分以上の速度で移動させ、前記出発パイプの肉厚をdとしたとき、該出発パイプの温度が(1100+100×d)℃以上となる時間が20秒以上であり、かつ、最高温度が(1800+100×d)℃以下となるように加熱温度を制御しながら加熱することを特徴とする光ファイバ母材の製造方法。
【選択図】図3
Description
従来、この内付けCVD法による光ファイバ母材の製造には、熱源として水素(H2)と酸素(O2)の混合ガスや、プロパン(C3H8)とO2との混合ガスを用いた酸水素バーナが使用されてきた。しかし、これらの熱源を用いた場合には、加工するガラス体の表面からH2や水酸基(OH基)などがガラス体の内部に侵入して拡散し、このガラス体から得られた光ファイバの伝送損失を劣化させてしまうことがあった。
このように、H2を用いないプラズマバーナを用いることにより、従来の酸水素を用いるバーナを使用する場合に比べてガラス体へのH2やOH基等の不純物の侵入は大幅に抑制される。
加熱幅を広げる他の方法としては、特許文献3に開示されている誘導プラズマ発生装置を使用しても可能である。しかし、このようなタイプの誘導プラズマ発生装置では、誘導プラズマの点弧源として低周波を用いているため表皮効果が減少し、バーナの中心温度が上昇してしまう上、バーナ内部に流すガスとしてArを使用しており、プラズマ温度が高温となるため内付けCVD法における熱源としては好ましくない。
本発明の光ファイバ母材の製造方法は以下の(1)〜(6)の構成からなる。
(2)前記プラズマバーナを前記出発パイプに対して100mm/分以上の速度で移動させ、かつ、前記ガラス原料を含むガスとして、少なくとも7g/分以上の四塩化珪素(SiCl4)と4L/分以上の酸素(O2)を前記出発パイプ内に導入し、前記ガラス膜を1.3g/分以上の堆積速度で堆積させることを特徴とする前記(1)に記載の光ファイバ母材の製造方法。
(4)ガラス原料を含むガスを出発パイプ内に導入し、該出発パイプの軸方向に移動する熱源により該出発パイプを外周面から加熱して、その内部を流れる前記ガラス原料を酸化させて該出発パイプの内壁にガラス膜を堆積させる、光ファイバ母材の製造方法において、前記熱源がプラズマバーナであり、該バーナは誘導結合によりプラズマが形成される部位における該バーナの内径が80mm以上であり、該バーナ内にプラズマ化させるガスを導入するガス導入口を少なくとも2つ備えていて、前記バーナ内に導入されるガスの総流量をQ、前記誘導結合によりプラズマが形成される部位における前記バーナの断面積をSとしたときに、150(mm/秒)<Q/S<600(mm/秒)とすることを特徴とする光ファイバ母材の製造方法。
(6)前記各ガス導入口より導入するプラズマ化させるガスの混合比もしくは流量を変化させることにより、前記出発パイプの温度を所望の温度分布となるようにプラズマ火炎の温度分布を調節することを特徴とする前記(4)または(5)に記載の光ファイバ母材の製造方法。
図1は本発明の内付けCVD法により光ファイバ母材を製造する方法の一実施態様を模式的に例示する説明図であり、図1の(a)は出発パイプの内壁にガラス膜を堆積させる過程を示す概略図であり、図1の(b)は熱源として用いられるプラズマバーナの構成を模式的に例示する説明図である。
そのため、本発明の第1の製造方法においては、プラズマバーナ3の移動速度を100mm/分以上とし、その際、上述のように用いる基板パイプ1の肉厚dに応じて、基板パイプ1のガラス膜4が堆積する部位の表面最高温度が(1800+100×d)℃以下となるように制御することで気泡の発生を防止することができ、かつ(1100+100×d)℃以上となる時間が20秒以上となるように制御することで、堆積したガラス膜4を完全に焼結することが可能となる。
また、プラズマガス5としては多原子分子を含むガスを用いることがより好ましい。例えばプラズマガス5として2原子分子を導入することにより、希ガスのみを用いたプラズマよりもプラズマ温度を低温にすることができる。これにより、出発ガラス1の表面温度を(1100+100d)℃〜(1800+100d)℃の温度範囲に制御することが容易となる。
また、その他の方法として、プラズマガス5がArとO2の混合ガスである場合、中心導入口より導入するガスの混合比(O2の流量/Arの流量)を0.5とし、周辺導入口8より導入するガスの混合比を0.2というように、混合ガスをプラズマガスとして用いる場合、その混合ガスの混合比を変化させてもよい。
なお、本発明の第2の製造方法においても、1.3g/分以上の高堆積速度を得るためには、原料ガス2として少なくとも7g/分のSiCl4と4L/分以上のO2ガスを出発パイプ1内に投入するのが好ましく、熱源のプラズマバーナ3の移動速度を100mm/分以上に早めることがより好ましい。
図3において、縦軸は基板パイプ1がプラズマバーナ3と最も接近している部分の外表面温度(外表面最高温度)であり、横軸はその部分での出発パイプ1の外表面温度が(1000+100×d)℃以上(出発パイプの肉厚が3mmの場合は1400℃、肉厚が4mmの場合は1500℃)以上となってからの加熱時間を表している。
曲線(ii)は導入ガスとして、プラズマガス中心導入口7には中心導入口におけるAr流量を減少させて、(O2流量/Ar流量)の混合比が3の混合ガスを50L/分で導入し、周辺導入口8にはAr流量を増加させて、(O2流量/Ar流量)の混合比が1.5の混合ガスを30/分とした以外は曲線(i)の場合と同様にした場合を示す。この場合、出発パイプ外表面温度の最高到達温度は1850℃と低温化でき、かつ1400℃である加熱時間は24秒とすることができる。
プラズマガスの導入口が三重管構造であり、プラズマ発生部の内径が100mmφである、図1に例示のプラズマ発生のプラズマバーナ3を用いて、プラズマガス5として中心導入口7には(O2流量/Ar流量)の混合比が0.6の混合ガスを、また、周辺導入口8には(O2流量/Ar流量)の混合比が0.5の混合ガスをそれぞれ50L/分の流量速度で導入し、シースガス導入口9にはN+3にN2ガスを15L/分の流量速度で導入した。また、コイル6に投入するパワーは70kWとし、周波数は4MHzとしてプラズマを発生させた。軸を中心に回転している、肉厚dが3mmの出発パイプ1の内部に7g/分のSiCl4ガスと5L/分のO2ガスを導入しながら軸方向にプラズマバーナ3を140mm/分の速度で移動させて出発パイプ1の内壁にガラス膜を1.4g/分の堆積速度で堆積させた。
プラズマ発生部の内径を70mmφとした以外は実施例1と同様にして基板パイプ1内にガラス膜を1.4g/分の体積速度で堆積させた。得られたガラス膜には、気泡の発生や未焼結部分が認められた。その際、出発パイプ1の外表面温度が1400℃以上となっている時間は19秒であり、加熱している間の出発パイプ1の外表面温度は最高で2150℃であった。
ガスの導入口が三重菅構造であり、プラズマ発生部の内径が100mmφのバーナである、図1に例示のプラズマバーナ3を用いて、プラズマガス中心導入口7には(O2流量/Ar流量)の混合比が0.6の混合ガスを50L/分の流量で導入し、周辺導入口8には(O2流量/Ar流量)の混合比が0.5の混合ガスを30L/分の流量で導入し、シースガス導入口9にはN2ガスを30L/分で導入した。このときのQ(ガスの総流量)/S(バーナ3のプラズマ発生部の内径)は約233となる。コイルに投入するパワーは70kWとし、周波数は4MHzとしてプラズマを発生させた結果、安定したプラズマの火炎が得られた。
図1に例示のプラズマバーナ3を用いて、プラズマガス中心導入口7には(O2流量/Ar流量)の混合比が0.6の混合ガスを30L/分の流量で導入し、周辺導入口8には(O2流量/Ar流量)の混合比が0.5の混合ガスを15L/分の流量で導入し、シースガス導入口9にはN2ガスを15L/分で導入した。このときのQ(ガスの総流量)/S(バーナ3のプラズマ発生部の内径)は約127となる。その他の条件は、実施例2と同様とした。その結果、プラズマ火炎がバーナ内に逆流し、出発パイプを加熱出来ない不具合が発生した。
また、図1に例示のプラズマバーナ3を用いて、プラズマガス中心導入口7には(O2流量/Ar流量)の混合比が0.6の混合ガスを150L/分の流量で導入し、周辺導入口8にはO2流量/Ar流量の混合比が0.5の混合ガスを70L/分の流量で導入し、シースガス導入口9にはN2ガスを70L/分で導入した。このときのQ/Sは約127となる。その他の条件は、実施例2と同様とした。その結果、プラズマ火炎が不安定となり失火する不具合が発生した。
4 ガラス膜、 5 プラズマガス、 6 コイル、
7 中心導入口、 8 周辺導入口、 9 シースガス導入口
Claims (6)
- ガラス原料を含むガスを出発パイプ内に導入し、該出発パイプの軸方向に移動する熱源により該出発パイプを外周面から加熱して、その内部を流れる前記ガラス原料を酸化させて該出発パイプの内壁にガラス膜を堆積させる、光ファイバ母材の製造方法において、前記熱源がプラズマバーナであり、前記出発パイプの肉厚をdとしたとき、該出発パイプの温度が(1100+100×d)℃以上となる時間が20秒以上であり、かつ、最高温度が(1800+100×d)℃以下となるように加熱温度を制御することを特徴とする光ファイバ母材の製造方法。
- 前記プラズマバーナを前記出発パイプに対して100mm/分以上の速度で移動させ、かつ、前記ガラス原料を含むガスとして、少なくとも7g/分以上の四塩化珪素(SiCl4)と4L/分以上の酸素(O2)を前記出発パイプ内に導入し、前記ガラス膜を1.3g/分以上の堆積速度で堆積させることを特徴とする請求項1に記載の光ファイバ母材の製造方法。
- 前記バーナの内径が80mm以上であることを特徴とする請求項1または2に記載の光ファイバ母材の製造方法。
- ガラス原料を含むガスを出発パイプ内に導入し、該出発パイプの軸方向に移動する熱源により該出発パイプを外周面から加熱して、その内部を流れる前記ガラス原料を酸化させて該出発パイプの内壁にガラス膜を堆積させる、光ファイバ母材の製造方法において、前記熱源がプラズマバーナであり、該バーナは誘導結合によりプラズマが形成される部位における該バーナの内径が80mm以上であり、該バーナ内にプラズマ化させるガスを導入するガス導入口を少なくとも2つ備えていて、前記バーナ内に導入されるガスの総流量をQ、前記誘導結合によりプラズマが形成される部位における前記バーナの断面積をSとしたときに、150(mm/秒)<Q/S<600(mm/秒)とすることを特徴とする光ファイバ母材の製造方法。
- 前記ガス導入口の中の少なくとも1つより多原子分子を含むガスを導入することを特徴とする請求項4に記載の光ファイバ母材の製造方法。
- 前記各ガス導入口より導入するプラズマ化させるガスの混合比もしくは流量を変化させることにより、前記出発パイプの温度が所望の温度分布となるようにプラズマ火炎の温度分布を調節することを特徴とする請求項4または5に記載の光ファイバ母材の製造方法。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004315900A JP4552599B2 (ja) | 2004-10-29 | 2004-10-29 | 光ファイバ母材の製造方法 |
EP05795596.5A EP1808419B1 (en) | 2004-10-29 | 2005-10-20 | Process for producing optical fiber preform |
US11/665,600 US7891217B2 (en) | 2004-10-29 | 2005-10-20 | Method of producing an optical fiber preform |
CN2005800375957A CN101052595B (zh) | 2004-10-29 | 2005-10-20 | 生产光纤预制件的方法 |
PCT/JP2005/019279 WO2006046458A1 (ja) | 2004-10-29 | 2005-10-20 | 光ファイバ母材の製造方法 |
DK05795596.5T DK1808419T3 (en) | 2004-10-29 | 2005-10-20 | PROCEDURE FOR MANUFACTURING OPTICAL FIBER PREFORM |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004315900A JP4552599B2 (ja) | 2004-10-29 | 2004-10-29 | 光ファイバ母材の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006124240A true JP2006124240A (ja) | 2006-05-18 |
JP4552599B2 JP4552599B2 (ja) | 2010-09-29 |
Family
ID=36227698
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004315900A Expired - Fee Related JP4552599B2 (ja) | 2004-10-29 | 2004-10-29 | 光ファイバ母材の製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7891217B2 (ja) |
EP (1) | EP1808419B1 (ja) |
JP (1) | JP4552599B2 (ja) |
CN (1) | CN101052595B (ja) |
DK (1) | DK1808419T3 (ja) |
WO (1) | WO2006046458A1 (ja) |
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2004
- 2004-10-29 JP JP2004315900A patent/JP4552599B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-10-20 EP EP05795596.5A patent/EP1808419B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2005-10-20 US US11/665,600 patent/US7891217B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2005-10-20 WO PCT/JP2005/019279 patent/WO2006046458A1/ja active Application Filing
- 2005-10-20 CN CN2005800375957A patent/CN101052595B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2005-10-20 DK DK05795596.5T patent/DK1808419T3/en active
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EP1808419B1 (en) | 2018-10-03 |
WO2006046458A1 (ja) | 2006-05-04 |
EP1808419A1 (en) | 2007-07-18 |
CN101052595A (zh) | 2007-10-10 |
DK1808419T3 (en) | 2018-11-26 |
CN101052595B (zh) | 2010-12-15 |
US20070283721A1 (en) | 2007-12-13 |
EP1808419A4 (en) | 2011-09-07 |
US7891217B2 (en) | 2011-02-22 |
JP4552599B2 (ja) | 2010-09-29 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20070319 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100127 |
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RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100506 |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130723 Year of fee payment: 3 |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |