JP2006114873A - 有機薄膜トランジスタ、及びこれを利用した有機電界発光表示装置 - Google Patents

有機薄膜トランジスタ、及びこれを利用した有機電界発光表示装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2006114873A
JP2006114873A JP2005162055A JP2005162055A JP2006114873A JP 2006114873 A JP2006114873 A JP 2006114873A JP 2005162055 A JP2005162055 A JP 2005162055A JP 2005162055 A JP2005162055 A JP 2005162055A JP 2006114873 A JP2006114873 A JP 2006114873A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
organic
light emitting
semiconductor layer
emitting region
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2005162055A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4370283B2 (ja
Inventor
Hun-Jung Lee
憲 貞 李
Zaihon Gu
在 本 具
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Samsung SDI Co Ltd
Original Assignee
Samsung SDI Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Samsung SDI Co Ltd filed Critical Samsung SDI Co Ltd
Publication of JP2006114873A publication Critical patent/JP2006114873A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4370283B2 publication Critical patent/JP4370283B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00Electroluminescent light sources
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00Electroluminescent light sources
    • H05B33/10Apparatus or processes specially adapted to the manufacture of electroluminescent light sources
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K10/00Organic devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching; Organic capacitors or resistors having a potential-jump barrier or a surface barrier
    • H10K10/40Organic transistors
    • H10K10/46Field-effect transistors, e.g. organic thin-film transistors [OTFT]
    • H10K10/462Insulated gate field-effect transistors [IGFETs]
    • H10K10/466Lateral bottom-gate IGFETs comprising only a single gate
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/12Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/121Active-matrix OLED [AMOLED] displays characterised by the geometry or disposition of pixel elements
    • H10K59/1213Active-matrix OLED [AMOLED] displays characterised by the geometry or disposition of pixel elements the pixel elements being TFTs
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K10/00Organic devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching; Organic capacitors or resistors having a potential-jump barrier or a surface barrier
    • H10K10/40Organic transistors
    • H10K10/46Field-effect transistors, e.g. organic thin-film transistors [OTFT]
    • H10K10/462Insulated gate field-effect transistors [IGFETs]
    • H10K10/468Insulated gate field-effect transistors [IGFETs] characterised by the gate dielectrics
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/12Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/123Connection of the pixel electrodes to the thin film transistors [TFT]
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/12Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/125Active-matrix OLED [AMOLED] displays including organic TFTs [OTFT]
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/12Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/131Interconnections, e.g. wiring lines or terminals
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K85/00Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
    • H10K85/10Organic polymers or oligomers
    • H10K85/111Organic polymers or oligomers comprising aromatic, heteroaromatic, or aryl chains, e.g. polyaniline, polyphenylene or polyphenylene vinylene
    • H10K85/113Heteroaromatic compounds comprising sulfur or selene, e.g. polythiophene
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K85/00Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
    • H10K85/10Organic polymers or oligomers
    • H10K85/111Organic polymers or oligomers comprising aromatic, heteroaromatic, or aryl chains, e.g. polyaniline, polyphenylene or polyphenylene vinylene
    • H10K85/113Heteroaromatic compounds comprising sulfur or selene, e.g. polythiophene
    • H10K85/1135Polyethylene dioxythiophene [PEDOT]; Derivatives thereof
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K85/00Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
    • H10K85/10Organic polymers or oligomers
    • H10K85/111Organic polymers or oligomers comprising aromatic, heteroaromatic, or aryl chains, e.g. polyaniline, polyphenylene or polyphenylene vinylene
    • H10K85/114Poly-phenylenevinylene; Derivatives thereof
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K85/00Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
    • H10K85/10Organic polymers or oligomers
    • H10K85/111Organic polymers or oligomers comprising aromatic, heteroaromatic, or aryl chains, e.g. polyaniline, polyphenylene or polyphenylene vinylene
    • H10K85/115Polyfluorene; Derivatives thereof
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K85/00Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
    • H10K85/60Organic compounds having low molecular weight
    • H10K85/615Polycyclic condensed aromatic hydrocarbons, e.g. anthracene

Abstract

【課題】ドレイン電極を画素電極物質から形成して工程を単純化した有機薄膜トランジスタ及びこれを備えた有機電界発光表示装置を提供する。
【解決手段】発光領域及び非発光領域を備えた基板200と、基板200の非発光領域に配列され、ゲート電極261、ゲート電極261の両側とそれぞれ重畳されるソース電極263及びドレイン電極265、及び有機半導体層270を備える有機薄膜トランジスタと、下部電極280、有機膜層290、及び上部電極295を備える有機発光素子とを備え、前記有機薄膜トランジスタのソース電極263及びドレイン電極265のうち、一方の電極265は、発光領域まで延長形成され、有機半導体層270は、一方の電極265のうち、発光領域に形成された部分を露出させる開口部275を備え、一方の電極265のうち、有機半導体層270の開口部275により露出される部分は、有機発光素子の下部電極280として作用する有機電界発光表示装置である。
【選択図】図4

Description

本発明は、特に、有機電界発光(以下、「有機EL」と称する)表示装置に係り、さらに具体的にはドレイン電極を画素電極に利用した有機薄膜トランジスタ(OTFT:Organic Thin Film Transistor)及びこれを備えた有機EL表示装置に関する。
有機薄膜トランジスタ(以下、「OTFT」と称する)は、次世代ディスプレイ装置の駆動素子として活発な研究が進められている。OTFTは、半導体層としてシリコン膜の代わりに有機膜を使用し、有機膜の材料によって、オリゴチオフェン、ペンタセンのような低分子有機物と、ポリチオフェン系のような高分子有機物とに分類される。
図1は、従来のOTFTを備えたフレキシブル有機EL表示装置の平面図を図示した図面である。図1は、従来の有機EL表示装置において、1つの画素に対する平面構造を図示した図面である。
図1を参照すれば、従来のフレキシブル有機EL表示装置10は、ゲートライン110、データライン120、及び電源ライン130により画定される画素領域15に1つの画素が配列される。前記画素領域15に配列される画素は、1つのスイッチングOTFT140と、1つの駆動OTFT160と、1つのキャパシタ150と、画素電極180を下部電極として備える有機EL素子と、を備える。前記画素領域15には、有機EL素子が配列され、前記有機EL素子から発光される光が放出される発光領域と、前記薄膜トランジスタ及びキャパシタが配列される非発光領域とを備える。
前記スイッチングOTFT140は、前記ゲートライン110に連結されるゲート電極141、有機半導体層170、ソース電極143、及びドレイン電極145を備える。前記キャパシタ150は、前記スイッチングOTFT140のドレイン電極145に連結されるキャパシタ下部電極151と、前記下部電極151と重畳されて前記電源ライン130に連結されるキャパシタ上部電極155とを備える。
前記駆動OTFT160は、前記キャパシタ150におけるキャパシタ下部電極151に連結されるゲート電極161と、半導体層170と、前記電源ライン130に連結されたソース電極163と、前記画素電極である下部電極180にビヤホ―ル167を介して連結されるドレイン電極165と、を備える。
図2は、従来のOTFTを備えたフレキシブル有機EL表示装置の断面図を図示した図面である。図2は、図1のII−II線に沿う従来の有機EL表示装置の断面構造を図示した図面であり、1つの画素のうち、有機EL素子、前記有機EL素子を駆動するための駆動OTFT、及びキャパシタを限定して断面構造を図示する。
図2を参照すれば、基板100上にゲート電極161とキャパシタ下部電極151とが形成され、ゲート絶縁膜101上に形成されたソース電極163及びドレイン電極165、及びキャパシタ上部電極155が形成され、基板上に半導体層170が形成される。
下部電極180である画素電極は、保護膜103上に形成され、ビヤホ―ル167を介して、薄膜トランジスタ(以下、「TFT」と称する)のソース電極163及びドレイン電極165のうち、ドレイン電極165に連結される。画素分離膜105は、開口部185を介して前記下部電極180の一部分を露出させ、前記開口部185内の下部電極180上に、有機膜層190が形成され、基板上に上部電極195であるカソード電極が形成される。
上記のような従来の有機EL表示装置は、有機膜層190から発光される光が基板方向に放出される背面発光構造の場合、下部電極180であるアノード電極は、透過電極から構成され、上部電極195であるカソード電極は、非透過電極から構成され、有機膜層190から発光される光が基板100を介して放出される。
前記のような従来の背面発光型の有機EL表示装置は、ゲート電極161を形成するためのマスク工程、ソース電極163及びドレイン電極165を形成するためのマスク工程、ビヤホ―ル167を形成するためのマスク工程、下部電極であるアノード電極180を形成するためのマスク工程、及び画素分離膜105に開口部185を形成するためのマスク工程などが要求され、工程が複雑であるという問題点があった。
本発明は、前記のような従来技術の問題点を解決するためのものであり、ドレイン電極を画素電極物質から形成し、工程を単純化できるTFT、及びこれを備えた有機EL表示装置を提供するところにその目的がある。
前記目的を達成するために、本発明は、基板と、前記基板上に形成されたゲート電極と、前記ゲート電極の一側と重畳されるソース電極と、前記ゲート電極の他側と重畳されるドレイン電極と、前記ソース電極及びドレイン電極とゲート電極との間に形成されたゲート絶縁膜と、基板上方に形成され、前記ソース電極及び前記ドレイン電極と接触され、前記ソース電極及び前記ドレイン電極のうち、一方の電極の一部分を露出させる開口部を備える半導体層とを備えており、前記ソース電極及び前記ドレイン電極のうち、前記一方の電極は、透明な電極物質を備え、他方の電極は、前記半導体層より大きな仕事関数を有する電極物質を備えるTFTを提供することを特徴とする。
前記ゲート絶縁膜は、有機絶縁物質を備え、前記半導体層は、有機半導体物質を備える。
前記ソース電極及び前記ドレイン電極のうち、前記一方の電極は、ITO(インジウムと錫の酸化物)及びIZO(インジウムと亜鉛の酸化物)から選択される透明導電膜を備え、前記ソース電極及び前記ドレイン電極のうち、他方の電極は、Au、Pt、Pd及び酸化MoWから選択される金属物質、またはPEDOT(ポリエチレンジオキシチオフェン)のような導電性物質を備える。
また、本発明は、発光領域と非発光領域とを備えた基板と、前記基板上に形成された第1電極と、前記非発光領域上で前記第1電極の一側と重畳される第2電極と、前記非発光領域上で前記第1電極の他側と重畳される第3電極と、前記第2電極及び第3電極と第1電極との間に形成された絶縁膜と、前記基板上方に形成された半導体層とを備え、前記第2及び第3電極のうち、一方の電極は、前記発光領域まで延長形成され、前記半導体層は、前記一方の電極のうち、前記発光領域に形成された部分を露出させる開口部を備え、前記一方の電極のうち、前記半導体層に形成された開口部により露出された部分は、画素電極として作用する平板表示装置を提供することを特徴とする。
また、本発明は、基板と、基板上に配列されるゲートライン、データライン、及び電源ラインと、前記ゲートライン、データライン、及び電源ラインにより画定され、非発光領域と非発光領域とを備える画素領域と、前記画素領域のうち非発光領域に配列され、ゲート電極、ソース電極、ドレイン電極、及び半導体層を備えるTFTと、前記画素領域のうち発光領域に配列され、画素電極を備える表示素子とを備えており、前記TFTのソース電極及び前記ドレイン電極は、相異なる電極物質を備え、前記TFTのソース電極及び前記ドレイン電極のうち、一方の電極は、前記画素領域の発光領域まで延長形成され、前記一方の電極のうち、前記発光領域まで延長形成された部分は、前記表示素子の前記画素電極として作用する平板表示装置を提供することを特徴とする。好適には、前記TFTは、前記半導体層として有機半導体層を備えたOTFTである。
また、本発明は、発光領域及び非発光領域を備えた基板と、前記基板の非発光領域に配列され、ゲート電極、前記ゲート電極の両側とそれぞれ重畳されるソース電極及びドレイン電極、及び半導体層を備えるTFTと、下部電極、有機膜層、及び上部電極を備える有機発光素子とを備え、前記TFTのソース電極及びドレイン電極のうち、一方の電極は、前記発光領域まで延長形成され、前記半導体層は、前記一方の電極のうち、前記発光領域に形成された部分を露出させる開口部を備え、前記一方の電極のうち、前記半導体層の開口部により露出される部分は、前記有機発光素子の下部電極として作用する有機EL表示装置を提供することを特徴とする。好適には、前記TFTは、前記半導体層として有機半導体層を備えるOTFTである。
また、本発明は、発光領域及び非発光領域を備えた基板と、前記基板の非発光領域に形成されたゲート電極と、前記ゲート電極が形成された基板上に形成された第1絶縁膜と、前記非発光領域の第1絶縁膜上に形成され、前記ゲート電極の一側と重畳されるソース電極と、前記非発光領域の第1絶縁膜上に形成され、前記ゲート電極の他側と重畳されるドレイン電極と、前記ドレイン電極から延びて前記発光領域の第1絶縁膜上に形成される下部電極と、前記下部電極の一部分を露出させる開口部を備える有機半導体層と、前記有機半導体層状に形成されて下部電極の一部分を露出させる開口部を備える第2絶縁膜と、前記第2絶縁膜の開口部により露出される前記下部電極上に形成された有機膜層と、基板上に形成された上部電極とを備える有機EL表示装置を提供することを特徴とする。
本発明の実施形態によれば、ソース電極及びドレイン電極、特に、OTFTのソース電極及びドレイン電極のうち、一方の電極を、画素電極物質から形成するので、下部電極形成のためのマスク工程などが排除されて工程を単純化できる。また、画素分離膜の形成工程及び画素分離膜に開口部を形成するためのマスク工程が排除され、工程を単純化できるという利点もある。
また、ソース電極は、半導体層、特に、有機半導体層より仕事関数が高い電極物質を含み、前記有機半導体層との低いコンタクト抵抗を確保することができるという利点がある。
以下、本発明の実施形態を添付された図面を参照して説明すれば、次の通りである。
図3は、本発明のOTFTを備えたフレキシブル有機EL表示装置の平面図を図示した図面である。本発明の有機EL表示装置は、複数の画素が基板上にマトリックス状に配列されるが、図3では、本発明の有機EL表示装置において、1つの画素についての平面構造を図示している。
図3を参照すれば、本発明のフレキシブル有機EL表示装置20は、ゲートライン210、データライン220、及び電源ライン230を備え、前記ゲートライン210、データライン220、及び電源ライン230により画定される画素領域25、及び前記画素領域25に配列される画素を備える。前記画素領域25は、発光領域と非発光領域とを備える。前記発光領域は、画素領域25のうち、表示素子からの光が放出される領域を表し、前記非発光領域は、前記画素領域25のうち、光が放出されない領域を表す。
前記画素領域25に配列される画素は、1つのスイッチングOTFT240及び1つの駆動OTFT260と、1つのキャパシタ250と、画素電極280を下部電極として備える有機EL素子とを備える。前記画素領域25のうち発光領域には、1つの画素に対応する有機EL素子が配列され、非発光領域には、残りの構成要素が配列される。
画素領域25に配列される1つの画素のうち、前記スイッチングOTFT240は、非発光領域に配列される。スイッチングOTFT240は、前記ゲートライン210に連結されるゲート電極241、有機半導体層270、ソース電極243、及びドレイン電極245を備える。
前記キャパシタ250は、画素領域25のうち、非発光領域に配列され、前記スイッチングTFT240のソース電極243及びドレイン電極245のうち、ドレイン電極245に連結されるキャパシタ下部電極251と、前記下部電極251と重畳され、前記電源ライン230に連結されるキャパシタ上部電極255とを備える。
前記駆動OTFT260は、前記画素領域25のうち非発光領域に配列され、前記キャパシタ250におけるキャパシタ下部電極251に連結されるゲート電極(第1電極)261、有機半導体層270、前記電源ライン230に連結されたソース電極263、及びドレイン電極265を備える。
本発明の実施形態による背面発光型有機EL表示装置では、OTFTのソース電極263、ドレイン電極265(第2電極及び第3電極)のうち一方の電極、例えばドレイン電極265が画素領域のうち発光領域まで延長形成される。従って、前記ドレイン電極265のうち、非発光領域に形成されてゲート電極261と重畳された部分は、OTFTの電極として作用し、発光領域に配列された部分280は、有機EL素子の下部電極の画素電極として作用する。
本発明の実施形態によるOTFTを備えた有機EL表示装置において、OTFTの前記ソース電極263は、有機半導体層270との間でコンタクト抵抗を低く保つことが重要なので、有機半導体層270と仕事関数が合う電極物質を備える。前記ソース電極263は、前記有機半導体層270より大きい仕事関数を有する電極物質として、Au、Pt、Pd、酸化MoWから選択される金属電極物質を備える。あるいは、前記ソース電極263は、PEDOTのような導電性有機物質を備える。
一方、前記OTFTのドレイン電極265は、ソース電極263とは異なり、有機半導体層270とのコンタクト抵抗に大きく関係しない。したがって、OTFTのドレイン電極として作用するのみならず、画素電極280として作用できるように、透明な電極物質を備える。前記ドレイン電極265は、ITO及びIZOから選択される透明導電膜を備える。
図4は、本発明の実施形態によるOTFTを利用したフレキシブル有機EL表示装置の断面図を図示した図面である。図4は、図3のIV−IV線による有機EL表示装置の断面構造であり、1つの画素のうち有機EL素子、前記有機EL素子を駆動するためのTFT、及びキャパシタを限定して図示した。
図4を参照すれば、本発明のOTFTを利用したフレキシブル有機EL表示装置は、フレキシブル基板200を備える。前記フレキシブル基板200としては、高分子プラスチックフィルムが使われるが、有機EL表示装置の製造時に必要な温度に良好に耐えることができるように、耐熱性にすぐれるフィルムを使用する。具体的には、前記基板200は、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリアクリレート(PAR)、ポリエーテルイミド(PEI)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエチレンテレフタレート(PET)のような高分子プラスチックフィルムを備える。
前記基板200上に前記ゲート電極261が形成され、前記ゲート電極261と離隔されてキャパシタ下部電極251が形成される。前記ゲート電極261とキャパシタ下部電極251は、同じ物質から構成されてもよく、または相異なる物質から構成されてもよい。
ゲート電極261が形成された前記基板200上に第1絶縁膜201が形成される。前記第1絶縁膜201のうち、ゲート電極261に対応する部分は、OTFTのゲート絶縁膜として作用し、前記キャパシタ下部電極251とキャパシタ上部電極255との間の部分は、キャパシタ誘電膜として作用する。前記第1絶縁膜201は、ベンゾシクロブテン(BCB)、ポリビニルフェノール(PVP)、ポリイミド、及びパリレンから選択される有機絶縁膜を備える。
前記第1絶縁膜201上に、ゲート電極261の両側部分とそれぞれ重畳されるソース電極263及びドレイン電極265が形成され、前記ソース電極263に連結されるキャパシタ上部電極255が形成される。
前記ソース電極263とドレイン電極265とは、相異なる電極物質を備える。前記ソース電極263は、有機半導体層270とのコンタクト抵抗が重要なので、有機半導体層270と仕事関数が合う電極物質を備える。好適には、前記ソース電極263は、前記有機半導体層270より仕事関数が大きい電極物質を備え、Au、Pt、Pd及び酸化MoWから選択される金属電極物質を備える。また、前記ソース電極263は、PEDOTのような導電性有機物質を備えていてもよい。前記キャパシタ上部電極255は、ソース電極263と同じ物質から構成してもよく、相異なる物質から構成してもよい。
一方、ドレイン電極265は、OTFTのドレイン電極として作用するだけではなく、有機EL素子の下部電極であるアノード電極280としても作用するために、透明な電極物質を備える。好ましくは、前記ドレイン電極265は、ITO及びIZOから選択される透明導電膜を備える。具体的には、前記ドレイン電極265は、前記画素領域25のうち、非発光領域で前記ゲート電極261と重畳される部分は、OTFTのドレイン電極として作用し、発光領域まで延長形成された部分は、有機EL素子の画素電極として作用する。
基板200上方、すなわち、上記の結果物(第1絶縁膜201、キャパシタ上部電極255、ソース電極263、ドライン電極265、下部電極280など)の上には、有機半導体層270が形成される。前記半導体層270は、前記画素領域25のうち、発光領域に形成された画素電極である下部電極280の一部分を露出させるための開口部275を備える。すなわち、前記半導体層270の開口部275は、前記ドレイン電極265から延長形成される画素電極、すなわち下部電極280を画定する。
前記有機半導体層270は、ソース電極263及びドレイン電極265と接触されるように第1絶縁膜201上に形成されるが、ソース電極263が有機半導体層270より仕事関数の大きい金属電極物質を備えるので、ソース電極263と有機半導体層270との間のコンタクト抵抗を低く保つことができる。
前記有機半導体層270は、ペンタセン、テトラセン、アントラセン、ナフタレン、α−6−チオフェン、ペリレン及びその誘導体、ルブレン及びその誘導体、コロネン及びその誘導体、ペリレンテトラカルボン酸ジイミド及びその誘導体、ペリレンテトラカルボン酸ニ無水物及びその誘導体、ポリチオフェン及びその誘導体、ポリパラペリレンビニレン及びその誘導体、ポリフルオレン及びその誘導体、ポリチオフェンビニレン及びその誘導体から選択される有機膜を備える。
基板上に第2絶縁膜203が形成される。前記第2絶縁膜203は、前記発光領域に形成された下部電極280の一部分を露出させる開口部285を備える。前記第2絶縁膜203は保護膜であり、BCB、アクリル系有機化合物、フルオロポリアリールエーテル(FPAE)、フルオロカーボンポリマー(cytop)及びパーフルオロシクロブテン(PFCB)から選択される有機絶縁膜を備える。
前記第2絶縁膜203の開口部285により露出される下部電極280上に、有機膜層290が形成される。さらに、基板上方、すなわち、上記の結果物(第2絶縁膜および有機膜層290)上に上部電極であるカソード電極295が形成される。前記有機膜層290は、正孔注入層、正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層、電子注入層及び正孔障壁層から選択される一つ以上の有機膜を備える。
本発明の実施形態では、ドレイン電極265の形成時に、ドレイン電極265から画素領域の発光領域まで延長形成される下部電極280が形成されるので、下部電極280を形成するための別途のマスク工程が排除される。また、ドレイン電極265と、下部電極(下部電極)280とがいずれもゲート絶縁膜201上に形成され、前記下部電極280が第2絶縁膜203の開口部285により露出されることにより、画素分離膜の形成工程だけでなく、画素分離膜に開口部を形成するためのマスク工程が排除される。
本発明の実施形態では、OTFTを備える有機EL表示装置において、ドレイン電極を画素電極物質から構成し、画素電極をドレイン電極から発光領域まで延長形成することを例示したが、必ずしもそれに限定されるものではなく、OTFTやその他のTFTをスイッチング素子として使用する液晶表示装置のような平板表示装置にも適用できることはいうまでもない。
また、本発明の実施形態では、OTFTを備える有機EL表示装置において、OTFTのソース電極及びドレイン電極のうち、ドレイン電極から画素電極が発光領域まで延長形成されるものを形成したが、必ずしもそれに限定されるものではなく、OTFTのソース電極及びドレイン電極のうち、ソース電極を発光領域まで延長形成して画素電極に利用し、ドレイン電極が有機半導体層より大きな仕事関数を有する金属電極物質を備えることもできる。
本発明の実施形態は、ボトムコンタクト構造を有するOTFTを備える有機EL表示装置について説明したが、トップコンタクト構造を有するOTFTを備えた有機EL表示装置及びトップゲート構造を有する有機EL表示装置でも、ドレイン電極から発光領域まで延長形成される画素電極を形成して工程を単純化し、ソース電極を高い仕事関数を有する電極物質を形成して有機半導体層との低いコンタクト抵抗を確保することができる。また、背面発光型有機EL表示装置だけでなく、前面発光型有機EL表示装置にも適用可能であることはいうまでもない。
また、本発明は、画素領域に配列される1つの画素が駆動OTFT、スイッチングOTFT、キャパシタ及び有機EL素子を備えることを例示したが、必ずしもそれに限定されるものではなく、多様な形態の画素構造を有する有機EL表示装置に適用可能である。
前記では本発明の望ましい実施形態を参照して説明したが、当該技術分野の当業者は、特許請求の範囲に記載された本発明の思想及び領域から外れない範囲内で本発明を多様に修正及び変更させることができることは勿論である。
本発明は、有機EL表示装置のみならず、液晶表示素子のような平板表示装置で、スイッチング素子として使われるOTFTのドレイン電極を発光領域まで延長形成し、画素電極として使用することにより工程を単純化し、ソース電極を高い仕事関数を有する電極物質を形成して有機半導体層との低いコンタクト抵抗を確保することができ、例えばディスプレイ装置に効果的に適用可能である。
従来のOTFTを利用した有機EL表示装置において、1つの画素についての平面図である。 従来のOTFTを利用した有機EL表示装置において、1つの画素についての断面図である。 本発明の実施形態による有機EL表示装置において、1つの画素についての平面図である。 本発明の実施形態による有機EL表示装置において、1つの画素についての断面図である。
符号の説明
20 有機EL表示装置、
25 画素領域、
200 基板、
201 第1絶縁膜、
203 第2絶縁膜、
241,261 ゲート電極、
210 ゲートライン、
220 データライン、
230 電源ライン、
240 OTFT、
243 ソース電極、
245 ドレイン電極、
250 キャパシタ、
251 キャパシタ下部電極、
255 キャパシタ上部電極、
260 駆動OTFT、
261 ゲート電極、
263 ソース電極、
265 ドレイン電極、
270 半導体層、
275,285 開口部、
280 画素電極、
290 有機膜層、
295 カソード電極。

Claims (24)

  1. 基板と、
    前記基板上に形成されたゲート電極と、
    前記ゲート電極の一側と重畳されるソース電極と、
    前記ゲート電極の他側と重畳されるドレイン電極と、
    前記ソース電極及びドレイン電極とゲート電極との間に形成されたゲート絶縁膜と、
    基板上方に形成され、前記ソース電極及び前記ドレイン電極と接触され、前記ソース電極及び前記ドレイン電極のうち、一方の電極の一部分を露出させる開口部を含む半導体層とを備えており、
    前記ソース電極及び前記ドレイン電極のうち、前記一方の電極は、透明な電極物質を備え、
    他方の電極は、前記半導体層より大きな仕事関数を有する電極物質を備えることを特徴とする薄膜トランジスタ。
  2. 前記ゲート絶縁膜は、有機絶縁物質を備え、
    前記半導体層は、有機半導体物質を備えることを特徴とする請求項1に記載の薄膜トランジスタ。
  3. 前記ソース電極及び前記ドレイン電極のうち、前記他方の電極は、Au、Pt、Pd及び酸化MoWから選択される金属物質、またはポリエチレンジオキシチオフェンのような導電性有機物質を備えることを特徴とする請求項1に記載の薄膜トランジスタ。
  4. 前記ソース電極及びドレイン電極のうち、前記一方の電極は、ITO及びIZOから選択される透明導電膜を含むことを特徴とする請求項1に記載の薄膜トランジスタ。
  5. 発光領域と非発光領域とを備えた基板と、
    前記基板上に形成された第1電極と、
    前記非発光領域上で前記第1電極の一側と重畳される第2電極と、
    前記非発光領域上で前記第1電極の他側と重畳される第3電極と、
    前記第2電極及び第3電極と前記第1電極との間に形成された絶縁膜と、
    前記基板上方に形成された半導体層とを備え、
    前記第2及び第3電極のうち、一方の電極は、前記発光領域まで延長形成され、
    前記半導体層は、前記一方の電極のうち、前記発光領域に形成された部分を露出させる開口部を含み、
    前記一方の電極のうち、前記半導体層に形成された開口部により露出された部分は、画素電極として作用することを特徴とする平板表示装置。
  6. 前記第2電極と第3電極は、相異なる電極物質を備えることを特徴とする請求項5に記載の平板表示装置。
  7. 前記半導体層は、有機半導体層を備え、
    前記第2電極と第3電極のうち、他方の電極は、ソース電極として前記有機半導体層より大きな仕事関数を有する電極物質を備えることを特徴とする請求項6に記載の平板表示装置。
  8. 前記ソース電極は、Au、Pt、Pd及び酸化MoWから選択される金属物質、またはポリエチレンジオキシチオフェンのような導電性有機物質を備えることを特徴とする請求項7に記載の平板表示装置。
  9. 前記第2及び第3電極のうち、前記一方の電極は、ドレイン電極であり、透明な電極物質を備えることを請求項6に記載の特徴とする平板表示装置。
  10. 前記ドレイン電極は、ITO及びIZOから選択される透明導電膜を備えることを特徴とする請求項9に記載の平板表示装置。
  11. 前記第2電極と第3電極のうち、前記一方の電極は、透明な電極物質を含み、ITO及びIZOから選択される物質を備えることを特徴とする請求項5に記載の平板表示装置。
  12. 前記第2電極と第3電極のうち、他方の電極は、前記半導体層より大きな仕事関数を有する電極物質を含み、Au、Pt、Pd及び酸化MoWから選択される金属物質、またはポリエチレンジオキシチオフェンのような導電性有機物質を備えることを特徴とする請求項5に記載の平板表示装置。
  13. 前記絶縁膜は、ゲート絶縁膜として有機絶縁膜を備えることを特徴とする請求項5に記載の平板表示装置。
  14. 基板と、
    基板上に配列されるゲートライン、データライン、及び電源ラインと、
    前記ゲートライン、データライン、及び電源ラインにより画定され、非発光領域と非発光領域とを備える画素領域と、
    前記画素領域のうち非発光領域に配列され、ゲート電極、ソース電極、ドレイン電極、及び半導体層を備える薄膜トランジスタと、
    前記画素領域のうち発光領域に配列され、画素電極を備える表示素子とを備えており、
    前記薄膜トランジスタのソース電極及び前記ドレイン電極は、相異なる電極物質を備え、
    前記薄膜トランジスタのソース電極及び前記ドレイン電極のうち、一方の電極は、前記画素領域の発光領域まで延長形成され、
    前記一方の電極のうち、前記発光領域まで延長形成された部分は、前記表示素子の前記画素電極として作用することを特徴とする平板表示装置。
  15. 前記薄膜トランジスタは、前記半導体層として有機半導体層を備えた有機薄膜トランジスタであり、
    前記ソース電極及び前記ドレイン電極のうち、他方の電極は、ソース電極として前記有機半導体層より大きな仕事関数を有する電極物質を備え、Au、Pt、Pd及び酸化MoWから選択される金属物質、またはポリエチレンジオキシチオフェンのような導電性有機物質を備えることを特徴とする請求項14に記載の平板表示装置。
  16. 前記薄膜トランジスタは、前記半導体層として有機半導体層を備えた有機薄膜トランジスタであり、
    前記一方の電極は、ドレイン電極として透明な電極物質を備え、ITO及びIZOから選択される物質を備えることを特徴とする請求項14に記載の平板表示装置。
  17. 発光領域及び非発光領域を備えた基板と、
    前記基板の非発光領域に配列され、ゲート電極、前記ゲート電極の両側とそれぞれ重畳されるソース電極及びドレイン電極、及び半導体層を備える薄膜トランジスタと、
    下部電極、有機膜層、及び上部電極を備える有機発光素子とを備え、
    前記薄膜トランジスタのソース電極及びドレイン電極のうち、一方の電極は、前記発光領域まで延長形成され、
    前記半導体層は、前記一方の電極のうち、前記発光領域に形成された部分を露出させる開口部を備え、
    前記一方の電極のうち、前記半導体層の開口部により露出される部分は、前記有機発光素子の下部電極として作用することを特徴とする有機電界発光表示装置。
  18. 前記薄膜トランジスタは、前記半導体層として有機半導体層を備える有機薄膜トランジスタであり、
    前記ソース電極とドレイン電極は、相異なる電極物質を備えることを特徴とする請求項17に記載の有機電界発光表示装置。
  19. 前記ソース電極は、半導体層より大きな仕事関数を有する電極物質を備え、Au、Pt、Pd及び酸化MoWから選択される金属物質、またはポリエチレンジオキシチオフェンのような導電性有機物質を備えることを特徴とする請求項18に記載の有機電界発光表示装置。
  20. 前記ドレイン電極は、透明な電極物質を備え、ITO及びIZOから選択される透明導電膜を備えることを特徴とする請求項18に記載の有機電界発光表示装置。
  21. 発光領域及び非発光領域を備えた基板と、
    前記基板の非発光領域に形成されたゲート電極と、
    前記ゲート電極が形成された基板上に形成された第1絶縁膜と、
    前記非発光領域の第1絶縁膜上に形成され、前記ゲート電極の一側と重畳されるソース電極と、
    前記非発光領域の第1絶縁膜上に形成され、前記ゲート電極の他側と重畳されるドレイン電極と、
    前記ドレイン電極から延びて前記発光領域の第1絶縁膜上に形成される下部電極と、
    前記下部電極の一部分を露出させる開口部を備える有機半導体層と、
    基板上に形成され、前記開口部により露出される下部電極の一部分を露出させるための第2絶縁膜と、
    前記第2絶縁膜の開口部により露出される前記下部電極上に形成された有機膜層と、
    前記有機膜層が形成された基板上に形成された上部電極とを備えることを特徴とする有機電界発光表示装置。
  22. 前記ソース電極は、Au、Pt、Pd及び酸化MoWから選択される金属物質を備えることを特徴とする請求項21に記載の有機電界発光表示装置。
  23. 前記ドレイン電極は、ITO及びIZOから選択されることを特徴とする請求項21に記載の有機電界発光表示装置。
  24. 前記第1絶縁膜は、ゲート絶縁膜として有機絶縁膜を備え、
    前記第2絶縁膜は、保護膜として有機絶縁膜を備えることを特徴とする請求項21に記載の有機電界発光表示装置。
JP2005162055A 2004-10-14 2005-06-01 有機薄膜トランジスタを利用した有機電界発光表示装置 Active JP4370283B2 (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040082091A KR100669733B1 (ko) 2004-10-14 2004-10-14 유기박막 트랜지스터 및 이를 이용한 유기전계 발광표시장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006114873A true JP2006114873A (ja) 2006-04-27
JP4370283B2 JP4370283B2 (ja) 2009-11-25

Family

ID=36261017

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005162055A Active JP4370283B2 (ja) 2004-10-14 2005-06-01 有機薄膜トランジスタを利用した有機電界発光表示装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US7667385B2 (ja)
JP (1) JP4370283B2 (ja)
KR (1) KR100669733B1 (ja)
CN (1) CN1779990B (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007318025A (ja) * 2006-05-29 2007-12-06 Dainippon Printing Co Ltd 有機半導体素子、および、有機半導体素子の製造方法
JP2012195283A (ja) * 2011-03-14 2012-10-11 Samsung Mobile Display Co Ltd 有機発光表示装置とその製造方法

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100829743B1 (ko) * 2005-12-09 2008-05-15 삼성에스디아이 주식회사 유기 박막 트랜지스터 및 이의 제조 방법, 이를 구비한평판 디스플레이 장치
KR101279296B1 (ko) * 2006-04-17 2013-06-26 엘지디스플레이 주식회사 유기 반도체 구조물, 이의 제조 방법, 이를 이용한 유기박막 트랜지스터 및 이의 제조 방법 및 이를 이용한표시장치
KR20080026989A (ko) * 2006-09-22 2008-03-26 삼성전자주식회사 박막 트랜지스터 표시판 및 그 제조 방법
KR20080077775A (ko) * 2007-02-21 2008-08-26 삼성전자주식회사 박막 트랜지스터, 이를 포함하는 유기 발광 표시 장치 및그 제조 방법
KR101415561B1 (ko) * 2007-06-14 2014-08-07 삼성디스플레이 주식회사 박막 트랜지스터 표시판 및 그의 제조 방법
KR100931491B1 (ko) * 2008-04-07 2009-12-11 삼성모바일디스플레이주식회사 유기 전계 발광표시장치 및 그의 제조방법
KR100985770B1 (ko) * 2008-05-19 2010-10-06 김재동 피시험장치 발진주파수의 경년변화 교정 방법 및 그를 위한필드 캘리브레이션 튜닝 장치
CN101609838B (zh) * 2008-06-20 2011-12-07 群康科技(深圳)有限公司 有机发光二极管显示装置及其制造方法
TWI396314B (zh) * 2009-07-27 2013-05-11 Au Optronics Corp 畫素結構、有機電激發光顯示單元及其製造方法
JP5737550B2 (ja) * 2009-12-03 2015-06-17 ソニー株式会社 表示装置、表示装置の製造方法および電子機器
TWI423492B (zh) * 2010-12-03 2014-01-11 Univ Nat Taiwan Science Tech 有機薄膜電晶體及其製造方法
CN107256913B (zh) * 2011-11-16 2019-05-07 晶元光电股份有限公司 光电元件
CN103197782A (zh) * 2012-01-05 2013-07-10 胜华科技股份有限公司 触控显示装置
KR101889917B1 (ko) 2012-03-06 2018-08-21 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 표시 장치 및 유기 발광 표시 장치 제조 방법
KR102105485B1 (ko) * 2012-11-23 2020-04-29 삼성디스플레이 주식회사 박막 트랜지스터 기판 및 그 제조 방법
KR102000591B1 (ko) 2013-06-21 2019-07-16 엘지디스플레이 주식회사 유기전계 발광소자 및 그 제조방법
US20150129842A1 (en) * 2013-11-13 2015-05-14 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co. Ltd. Method For Manufacturing Organic Electroluminescence Device And Organic Electroluminescence Device Manufactured With Same
CN103560211B (zh) * 2013-11-13 2017-04-05 深圳市华星光电技术有限公司 有机电致发光器件的制作方法及制作的有机电致发光器件
IN2014DE00708A (ja) * 2014-03-12 2015-09-18 Indian Inst Technology Kanpur
CN104112758B (zh) * 2014-07-01 2017-02-22 京东方科技集团股份有限公司 发光二极管显示面板及其制作方法、显示装置
US9698173B2 (en) * 2014-08-24 2017-07-04 Royole Corporation Thin film transistor, display, and method for fabricating the same
TWI575748B (zh) 2014-09-01 2017-03-21 聯華電子股份有限公司 P型場效電晶體及包含該p型場效電晶體的互補式金屬氧化半導體電晶體
CN105206641A (zh) * 2015-10-12 2015-12-30 Tcl集团股份有限公司 Qled与tft集成器件及其制备方法
CN107369784B (zh) * 2017-08-31 2019-11-26 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 Oled-tft基板及其制造方法、显示面板
CN111524938A (zh) * 2020-04-24 2020-08-11 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 Oled显示面板
US11296163B2 (en) 2020-05-27 2022-04-05 Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. OLED display panel and OLED display device

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100248392B1 (ko) * 1997-05-15 2000-09-01 정선종 유기물전계효과트랜지스터와결합된유기물능동구동전기발광소자및그소자의제작방법
TW410478B (en) 1998-05-29 2000-11-01 Lucent Technologies Inc Thin-film transistor monolithically integrated with an organic light-emitting diode
US7071123B2 (en) * 2001-08-24 2006-07-04 Gracel Display Inc. Fabrication method for organic semiconductor transistor having organic polymeric gate insulating layer
JP4246949B2 (ja) 2002-03-25 2009-04-02 株式会社半導体エネルギー研究所 有機薄膜発光トランジスタ
US7002176B2 (en) * 2002-05-31 2006-02-21 Ricoh Company, Ltd. Vertical organic transistor
TW554525B (en) 2002-08-28 2003-09-21 Ind Tech Res Inst Organic integration device of thin film transistor and light emitting diode
JP4615197B2 (ja) * 2002-08-30 2011-01-19 シャープ株式会社 Tftアレイ基板の製造方法および液晶表示装置の製造方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007318025A (ja) * 2006-05-29 2007-12-06 Dainippon Printing Co Ltd 有機半導体素子、および、有機半導体素子の製造方法
JP2012195283A (ja) * 2011-03-14 2012-10-11 Samsung Mobile Display Co Ltd 有機発光表示装置とその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN1779990A (zh) 2006-05-31
CN1779990B (zh) 2012-02-22
KR100669733B1 (ko) 2007-01-16
US20060091785A1 (en) 2006-05-04
JP4370283B2 (ja) 2009-11-25
KR20060033133A (ko) 2006-04-19
US7667385B2 (en) 2010-02-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4370283B2 (ja) 有機薄膜トランジスタを利用した有機電界発光表示装置
US8222631B2 (en) Organic thin film transistor and flat display device having the same
JP4224038B2 (ja) 薄膜トランジスタ,その製造方法及び該薄膜トランジスタを備える平板ディスプレイ装置
JP4504908B2 (ja) 薄膜トランジスタ及びこれを採用した平板表示装置
US8536580B2 (en) Organic light-emitting display device
US8030642B2 (en) Organic thin film transistor, method of manufacturing the same, and flat panel display having the same
JP4455517B2 (ja) 薄膜トランジスタの製造方法
JP2012054575A (ja) 有機薄膜トランジスタ及びこれを備えた平板表示装置
JP2006253675A (ja) 有機薄膜トランジスタ及びそれを備えた平板ディスプレイ装置
KR100626082B1 (ko) 평판표시장치
KR20110109622A (ko) 유기 발광 표시 장치
JPWO2007043704A1 (ja) 発光素子及び表示装置
JP2006210930A (ja) 薄膜トランジスタ、その製造方法及びそれを備えた平板表示装置
US7875877B2 (en) Organic thin film transistor and flat panel display device having the same
KR100696491B1 (ko) 유기박막 트랜지스터 및 이를 구비한 유기전계 발광표시장치
KR100647603B1 (ko) 박막 트랜지스터 및 이를 구비한 평판표시장치
KR100807558B1 (ko) 유기박막트랜지스터, 이의 제조방법 및 이를 포함하는유기전계발광소자
KR100659096B1 (ko) 유기 박막 트랜지스터, 이를 구비한 평판표시장치, 상기유기 박막 트랜지스터의 제조방법
KR100730181B1 (ko) 유기 박막 트랜지스터 및 이를 구비한 평판 디스플레이장치
KR100683713B1 (ko) 유기 박막 트랜지스터 및 이를 구비하는 평판 디스플레이장치
KR100708736B1 (ko) 유기 발광 디스플레이 장치
KR100592277B1 (ko) 박막 트랜지스터, 이를 제조한 방법 및 이를 구비하는평판 디스플레이 장치
KR100730180B1 (ko) 유기 박막 트랜지스터 및 이를 구비한 평판 디스플레이장치
KR100730189B1 (ko) 유기 박막 트랜지스터의 제조 방법, 이로부터 제조된 유기박막 트랜지스터 및 이를 포함하는 평판 표시 장치
KR20080034704A (ko) 유기 박막 트랜지스터 표시 기판 및 그 제조 방법

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20071023

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20081201

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20081217

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090224

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090525

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090630

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090715

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20090811

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20090831

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4370283

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120904

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130904

Year of fee payment: 4

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130904

Year of fee payment: 4

R371 Transfer withdrawn

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130904

Year of fee payment: 4

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250