JP2006104554A - Pbn容器及びpbn容器の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】PBN(パイロリティック窒化ボロン)を積層して形成した本体の表面に、導電性膜を積層した容器であって、少なくとも、前記本体の層断面と該層断面に接する少なくとも1つの壁面とのなす角度が、20度〜80度であることを特徴とするPBN容器。並びに、PBN(パイロリティック窒化ボロン)容器を製造する方法であって、少なくとも、PBNを積層して本体を形成し、該形成した本体の層断面を、該層断面に接する少なくとも1つの壁面とのなす角度が20度〜80度となるように加工し、該加工した本体の表面に、導電性膜を被覆することを特徴とするPBN容器の製造方法。
【選択図】図1
Description
電子ビーム蒸着は、基板に薄膜を形成するのに有用な方法である。電子ビーム蒸着では、電子ビームを蒸着材料に照射することにより材料を加熱し、蒸発させ、そして、蒸発させた材料を基板に蒸着させ、基板上に薄膜を形成する(例えば、非特許文献1参照)。例えば、水冷した銅製のルツボ(ハース)内に電子ビーム蒸着用ハースライナを収容し、該ハースライナ内に充填した蒸着材料に、電子銃より電子ビームを照射して、蒸着材料を蒸発させている。
本発明者は、PBNを積層して形成した本体の表面に、導電性膜を積層したPBN容器について、その耐久性を向上させるべく鋭意検討を行った。
ここで、導電性膜としては、例えばPG(パイロリティックグラファイト、あるいは熱分解グラファイト)が挙げられる。この導電性膜として用いられるPGと、本体として用いられるPBNでは熱膨張率が大きく異なり、また、PBN自体も、面方向と厚さ方向で熱膨張率が大きく異なることが知られている。
以下にPBNとPGの熱膨張率を示す。
PG膨張率 2x10−6〔/℃〕
PBN面方向膨張率 3x10−6〔/℃〕
PBN厚さ方向膨張率 25x10−6〔/℃〕
図1に、本発明の電子ビーム蒸着用ハースライナの一例を示す。図1(a)は、斜視図であり、図1(b)は断面図である。
図1に示したハースライナ10は、PBNを積層して形成した本体11の表面に、導電性膜12を積層した容器である。そして、本体11の層断面13を、アングルカットし、層断面13に接する内壁面14及び外壁面15のうち、内壁面14と層断面13のなす角度θが、20度〜80度になるようにしている。この場合、導電性膜12を被覆した容器の内壁面16と上端面17とのなす角度も、実質上θと同じ20〜80度となる。
先ず、所望の形状の容器が得られるように成形された耐熱性基材41を用意し、該耐熱性基材41上に、CVD法などにより、PBNを蒸着させてPBN層40を積層する。そして、蒸着反応終了後、室温まで冷却して炉から取り出す(図4(a))。
(実施例1)
50mmの円柱上カーボン型41をCVD炉内に設置し、温度を1900℃に保ち、窒素源としてアンモニア、ホウ素源となる原料ガスとして三塩化ホウ素をそれぞれ3L/分、1L/分で導入し1mm厚のPBN層40を積層した(図4(a))。そして、冷却後、カーボン型41より蒸着されたPBN層40を抜き取り、25mm高さにカットし、本体42を作製した(図4(b))。
本体の層断面を加工研磨し、層断面と該層断面に接する内壁面とのなす角度が、50度となるようにしたことを除いて、実施例1と同様にPBNハースライナを作製した。
このようにして作製したPBNハースライナを、実際に、電子ビーム蒸着で用いた。すなわち、アルミニウム10gをPBNハースライナに充填し、電子ビームをスイープしながら照射し基板上にアルミニウム薄膜の成膜を行った。PBNハースライナに充填したアルミニウムが半分になったところで再度アルミニウムを充填し、再度アルミニウム薄膜の製膜に用いた。これを繰り返し、使用回数が86回に至った時に、容器の上端面よりアルミニウムの染み込みが見られた。
本体の層断面を加工研磨し、層断面と該層断面に接する内壁面とのなす角度が、30度となるようにしたことを除いて、実施例1と同様にPBNハースライナを作製した。
このようにして作製したPBNハースライナを、実際に、電子ビーム蒸着で用いた。すなわち、アルミニウム10gをPBNハースライナに充填し、電子ビームをスイープしながら照射し基板上にアルミニウム薄膜の成膜を行った。PBNハースライナに充填したアルミニウムが半分になったところで再度アルミニウムを充填し、再度アルミニウム薄膜の製膜に用いた。これを繰り返し、使用回数が73回に至った時に、容器の上端面よりアルミニウムの染み込みが見られた。
本体の層断面を加工研磨し、層断面と該層断面に接する内壁面とのなす角度が、20度となるようにしたことを除いて、実施例1と同様にPBNハースライナを作製した。
このようにして作製したPBNハースライナを、実際に、電子ビーム蒸着で用いた。すなわち、アルミニウム10gをPBNハースライナに充填し、電子ビームをスイープしながら照射し基板上にアルミニウム薄膜の成膜を行った。PBNハースライナに充填したアルミニウムが半分になったところで再度アルミニウムを充填し、再度アルミニウム薄膜の製膜に用いた。これを繰り返し、使用回数が39回に至った時に、容器の上端面の一部が欠け、アルミニウムが容器の外に漏れた。
本体の層断面を加工研磨し、層断面と該層断面に接する内壁面とのなす角度が、80度となるようにしたことを除いて、実施例1と同様にPBNハースライナを作製した。
このようにして作製したPBNハースライナを、実際に、電子ビーム蒸着で用いた。すなわち、アルミニウム10gをPBNハースライナに充填し、電子ビームをスイープしながら照射し基板上にアルミニウム薄膜の成膜を行った。PBNハースライナに充填したアルミニウムが半分になったところで再度アルミニウムを充填し、再度アルミニウム薄膜の製膜に用いた。これを繰り返し、使用回数が35回に至った時に、容器の上端面よりアルミニウムの染み込みが見られた。
本体の層断面を加工研磨し、層断面と該層断面に接する内壁面とのなす角度が、10度となるようにしたことを除いて、実施例1と同様にPBNハースライナを作製した。
このようにして作製したPBNハースライナを、実際に、電子ビーム蒸着で用いた。すなわち、アルミニウム10gをPBNハースライナに充填し、電子ビームをスイープしながら照射し基板上にアルミニウム薄膜の成膜を行った。PBNハースライナに充填したアルミニウムが半分になったところで再度アルミニウムを充填し、再度アルミニウム薄膜の製膜に用いた。これを繰り返し、使用回数が5回に至った時に、容器の上端面の一部が欠け、アルミニウムが容器の外に漏れた。
本体の層断面を加工研磨しなかったことを除いて、実施例1と同様にPBNハースライナを作製した。尚、層断面と該層断面に接する内壁面とのなす角度は、90度であった。
このようにして作製したPBNハースライナを、実際に、電子ビーム蒸着で用いた。すなわち、アルミニウム10gをPBNハースライナに充填し、電子ビームをスイープしながら照射し基板上にアルミニウム薄膜の成膜を行った。PBNハースライナに充填したアルミニウムが半分になったところで再度アルミニウムを充填し、再度アルミニウム薄膜の製膜に用いた。これを繰り返し、使用回数が11回に至った時に、容器の上端面よりアルミニウムの染み込が見られた。
12、43…導電性膜(PG層)、 13、33…層断面、
14…内壁面、 15…外壁面、 16…内壁面、 17…上端面、
30…リップ部、 34、35…壁面、
40…PBN層、 41耐熱性基材(カーボン型)、 42…本体、
51…ハース、 52…冷却水、 53…蒸着材料。
Claims (10)
- PBN(パイロリティック窒化ボロン)を積層して形成した本体の表面に、導電性膜を積層した容器であって、少なくとも、前記本体の層断面と該層断面に接する少なくとも1つの壁面とのなす角度が、20度〜80度であることを特徴とするPBN容器。
- 前記PBN容器が、電子ビーム蒸着用PBNハースライナであることを特徴とする請求項1に記載のPBN容器。
- 前記導電性膜が、PG(パイロリティックグラファイト)であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のPBN容器。
- 前記本体の層断面と、該層断面に接する内壁面とのなす角度が、20度〜80度であることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載のPBN容器。
- 前記容器の開口部に、折り返したリップ部があることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載のPBN容器。
- PBN(パイロリティック窒化ボロン)容器を製造する方法であって、少なくとも、PBNを積層して本体を形成し、該形成した本体の層断面を、該層断面に接する少なくとも1つの壁面とのなす角度が20度〜80度となるように加工し、該加工した本体の表面に、導電性膜を被覆することを特徴とするPBN容器の製造方法。
- 前記PBN容器を、電子ビーム蒸着用PBNハースライナとすることを特徴とする請求項6に記載のPBN容器の製造方法。
- 前記導電性膜を、PG(パイロリティックグラファイト)とすることを特徴とする請求項6又は請求項7に記載のPBN容器の製造方法。
- 前記本体の層断面と、該層断面に接する内壁面とのなす角度を20度〜80度とすることを特徴とする請求項6乃至請求項8のいずれか1項に記載のPBN容器の製造方法。
- 前記容器の開口部に、折り返したリップ部を形成することを特徴とする請求項6乃至請求項8のいずれか1項に記載のPBN容器の製造方法。
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