JP2006070291A - レンズ製造方法及びプログラム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】レンズの加工条件を設定する処理6313と、複数の蒸着原料のうちから加工条件に応じた蒸着原料を選択する処理6314と、レンズに形成される薄膜を測定する光学式膜厚計を加工条件に応じて設定する処理6315、6316と、蒸着原料を加熱する加熱源の制御条件を設定する処理6318と、設定された制御条件で加熱源を起動する処理6325と、加熱源により前記蒸着原料を気化させて前記レンズに薄膜を形成する処理と、を含み、薄膜を形成する処理の開始以前に、蒸着原料を選択する処理6314と、光学式膜厚計を設定する処理6315、6316とを並列的に行う。
【選択図】図8
Description
10 光学式膜厚計
12 制御装置
30、31 電子銃
100 予熱室
200 第1蒸着室
300 第2蒸着室
400 ハース部
Claims (7)
- 制御装置を用いて光学式膜厚計の測定結果に基づいて、蒸着によりレンズの表面に薄膜を連続的に形成するレンズ製造方法であって、
レンズの加工条件を設定する処理と、
複数の蒸着原料のうちから前記加工条件に応じた蒸着原料を選択する処理と、
レンズに形成される薄膜を測定する光学式膜厚計を、前記加工条件に応じて設定する処理と、
前記蒸着原料を加熱する加熱源の制御条件を設定する処理と、
前記設定された制御条件で加熱源を起動する処理と、
前記加熱源により前記蒸着原料を気化させて前記レンズに薄膜を形成する処理と、を含み、
前記蒸着原料を選択する処理と、前記光学式膜厚計を加工条件に応じて設定する処理とを並列的に行うことを特徴とするレンズ製造方法。 - 前記光学式膜厚計を加工条件及びレンズの種類に応じて設定する処理は、
複数のモニタガラスのうちから加工条件及びレンズの種類に応じたモニタガラスを選択する処理と、
複数のフィルタのうちから加工条件及びレンズの種類に応じたフィルタを選択する処理と、を含み、
前記モニタガラスを選択する処理と、フィルタを選択する処理とを並列的に行うことを特徴とする請求項1に記載のレンズ製造方法。 - 前記蒸着原料を選択する処理は、複数の蒸着原料のうちから前記加工条件に応じた蒸着原料を、前記加熱源で加熱可能な位置に設定することを特徴する請求項1に記載のレンズ製造方法。
- 前記レンズに薄膜を形成する処理は、加熱源に加えてイオン銃を作動させ、当該イオン銃の制御条件の設定を、前記蒸着原料を選択する処理及び前記光学式膜厚計を加工条件に応じて設定する処理と並列的に行うことを特徴する請求項1に記載のレンズ製造方法。
- 前記レンズに薄膜を形成する処理は、イオン銃に加えてガスユニットを作動させ、当該ガスユニットの制御条件の設定を、前記イオン銃を起動する処理、及び、終了設定する処理と並列的に行うことを特徴する請求項1に記載のレンズ製造方法。
- 前記レンズを予熱室から前記加熱源及び光学式膜厚計を備えた蒸着室へ移動する処理を含み、前記レンズの加工条件を設定する処理を行う以前に、前記蒸着原料を一時的に加熱して気化させることを特徴する請求項1に記載のレンズ製造方法。
- 光学式膜厚計の測定結果に基づいて、加熱源の制御を行って蒸着によりレンズの表面に薄膜を連続的に形成するプログラムであって、
レンズの加工条件を設定する手順と、
複数の蒸着原料のうちから前記加工条件に応じた蒸着原料を選択する手順と、レンズに形成される薄膜を測定する光学式膜厚計を前記加工条件に応じて設定する手順と、を並列的に行う手順と、
前記蒸着原料を加熱する加熱源の制御条件を設定する手順と、
前記設定された制御条件で加熱源を起動する手順と、
前記加熱源により前記蒸着原料を気化させて前記レンズに薄膜を形成する手順と、をコンピュータに機能させることを特徴とするプログラム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004252065A JP4704711B2 (ja) | 2004-08-31 | 2004-08-31 | レンズ製造方法及びプログラム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004252065A JP4704711B2 (ja) | 2004-08-31 | 2004-08-31 | レンズ製造方法及びプログラム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006070291A true JP2006070291A (ja) | 2006-03-16 |
JP4704711B2 JP4704711B2 (ja) | 2011-06-22 |
Family
ID=36151225
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004252065A Expired - Fee Related JP4704711B2 (ja) | 2004-08-31 | 2004-08-31 | レンズ製造方法及びプログラム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4704711B2 (ja) |
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JP2019104952A (ja) * | 2017-12-11 | 2019-06-27 | 株式会社アルバック | 蒸着装置 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR102584462B1 (ko) * | 2021-08-12 | 2023-10-04 | 나노아이텍(주) | 발수성 코팅 렌즈의 제조 방법 |
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2004
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JP4704711B2 (ja) | 2011-06-22 |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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