JP2006050592A - 圧電共振器及びその製造方法 - Google Patents

圧電共振器及びその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2006050592A
JP2006050592A JP2005193623A JP2005193623A JP2006050592A JP 2006050592 A JP2006050592 A JP 2006050592A JP 2005193623 A JP2005193623 A JP 2005193623A JP 2005193623 A JP2005193623 A JP 2005193623A JP 2006050592 A JP2006050592 A JP 2006050592A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
electrode
piezoelectric
lid
piezoelectric resonator
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2005193623A
Other languages
English (en)
Inventor
Motonori Ishii
基範 石井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP2005193623A priority Critical patent/JP2006050592A/ja
Priority to US11/174,541 priority patent/US20060006768A1/en
Publication of JP2006050592A publication Critical patent/JP2006050592A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/15Constructional features of resonators consisting of piezoelectric or electrostrictive material
    • H03H9/17Constructional features of resonators consisting of piezoelectric or electrostrictive material having a single resonator
    • H03H9/171Constructional features of resonators consisting of piezoelectric or electrostrictive material having a single resonator implemented with thin-film techniques, i.e. of the film bulk acoustic resonator [FBAR] type
    • H03H9/172Means for mounting on a substrate, i.e. means constituting the material interface confining the waves to a volume
    • H03H9/173Air-gaps
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H3/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators
    • H03H3/007Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks
    • H03H3/02Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks for the manufacture of piezoelectric or electrostrictive resonators or networks
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/02Details
    • H03H9/02007Details of bulk acoustic wave devices
    • H03H9/02086Means for compensation or elimination of undesirable effects
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/02Details
    • H03H9/05Holders; Supports
    • H03H9/10Mounting in enclosures
    • H03H9/1007Mounting in enclosures for bulk acoustic wave [BAW] devices
    • H03H9/105Mounting in enclosures for bulk acoustic wave [BAW] devices the enclosure being defined by a cover cap mounted on an element forming part of the BAW device
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/15Constructional features of resonators consisting of piezoelectric or electrostrictive material
    • H03H9/17Constructional features of resonators consisting of piezoelectric or electrostrictive material having a single resonator
    • H03H9/171Constructional features of resonators consisting of piezoelectric or electrostrictive material having a single resonator implemented with thin-film techniques, i.e. of the film bulk acoustic resonator [FBAR] type
    • H03H9/172Means for mounting on a substrate, i.e. means constituting the material interface confining the waves to a volume
    • H03H9/175Acoustic mirrors
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/46Filters
    • H03H9/54Filters comprising resonators of piezoelectric or electrostrictive material
    • H03H9/56Monolithic crystal filters
    • H03H9/564Monolithic crystal filters implemented with thin-film techniques
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/46Filters
    • H03H9/54Filters comprising resonators of piezoelectric or electrostrictive material
    • H03H9/58Multiple crystal filters
    • H03H9/582Multiple crystal filters implemented with thin-film techniques
    • H03H9/586Means for mounting to a substrate, i.e. means constituting the material interface confining the waves to a volume
    • H03H9/587Air-gaps
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H3/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators
    • H03H3/007Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks
    • H03H3/02Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks for the manufacture of piezoelectric or electrostrictive resonators or networks
    • H03H2003/021Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks for the manufacture of piezoelectric or electrostrictive resonators or networks the resonators or networks being of the air-gap type

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Acoustics & Sound (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)

Abstract

【課題】スプリアスの発生を効果的に低減し且つ気密封止パッケージを用いる必要がない圧電共振器を実現できるようにする。
【解決手段】圧電膜11と圧電膜11の下面及び上面にそれぞれ互いに対向するように形成された一対の下部電極12及び上部電極13とからなる共振膜14が形成されている。共振膜14は、下部電極12の外縁部と接着された下部電極保持部15を介在させて保持基板1の上に保持されている。上部電極13の上には蓋部17と蓋部17を下から保持し上部電極13の上面の外縁部と接着された枠部16とによって構成されており、蓋部17と上部電極13との間には上部空洞部22が形成されている。
【選択図】図1

Description

本発明は圧電共振器及びその製造方法に関する。
近年、世界的な携帯電話の普及により、携帯電話の使用台数が加速度的に増加している。携帯電話においては周波数の異なる複数の高周波信号を処理する必要があり、目的とする周波数以外の周波数の高周波信号を除去することが一般的に必要となる。このような、不要な周波数の高周波信号を除去し、所望の周波数の高周波信号のみを通過させるために、高周波フィルタと呼ばれる部品が一般に用いられている。
このようなフィルタを小型化及び高性能化するためにバルク弾性波を用いる圧電共振器を用いることが検討されている。圧電共振器は、厚さ方向に超音波を誘起させる部分(以下、キャビティ部と呼ぶ)における圧電膜及び電極膜の膜厚の合計の厚さによって決まる共振周波数においてインピーダンスのピークを有する。しかし、横方向に伝播する超音波によって、共振周波数付近の別の周波数においてもスプリアスと呼ばれるインピーダンスのピークが生じてしまう。このようなスプリアスの発生により、圧電共振器の特性が劣化するため、圧電共振器の高性能化のためにはスプリアスの低減が重要である。
スプリアスが発生する大きな原因は、キャビティ部に発生した振動エネルギーがキャビティ部の周辺部に漏れ出すことである。従って、キャビティ部にエネルギーを閉じこめることが重要である。例えば特許文献1には、キャビティ部における圧電膜の膜厚をキャビティ部の周辺部と比べて厚くすることにより、キャビティ部への振動エネルギーの閉じこめ効率を向上させることが開示されている。
一方、圧電共振器においては、キャビティ部を縦方向に振動させる必要があるため、基板や封止材料がキャビティ部に接触しないようにしなければならない。従って、圧電共振器が形成された基板をパッケージに実装する際に、安価で簡便な実装手段である樹脂封止パッケージを使用することができない。樹脂封止パッケージでは、キャビティ部の上部に樹脂が接触するため、振動が減衰してしまうからである。
また、圧電共振器は外部からの水分により、圧電膜が劣化して性能が低下するため、圧電共振器は封止しなければならない。このため、圧電共振器を実装する際には、気密封止パッケージ等が用いられ、キャビティ部の上部に何も触れない構造にし、且つ外部からの水分の浸入などによる性能の劣化を防止することが一般的に行われている(例えば、特許文献2を参照。)。
特開2002−43879号公報 特開2000−261280号公報
しかしながら、従来のように圧電膜の膜厚を変化させることは、工程を複雑にするため生産性を大きく低下させるという問題がある。また、キャビティ部と周辺部とで圧電膜の膜厚を大きく変えることは困難であり、スプリアスの低減効果が小さいという問題がある。さらに、圧電膜の膜厚を変化させたとしても、キャビティ部の上部には何も触れない構造を形成しなければならないという点については代わりがなく、樹脂等に比べてはるかに高価なセラミック等の材料を用いてパッケージを行う必要がある。また、パッケージの工程も複雑となるため、圧電共振器を量産する際に歩留まりが低下するという問題がある。
本発明は、前記従来の問題を解決し、スプリアスの発生を効果的に低減し且つ気密封止パッケージを用いる必要がない圧電共振器を実現できるようにすることを目的とする。
前記の目的を達成するため、本発明は圧電共振器を、上部電極の上に保持された蓋部を備える構成とする。
具体的に本発明に係る第1の圧電共振器は、基板の主面上に該主面に沿って保持され、圧電膜並びに該圧電膜の下面及び上面の互いに対向する位置にそれぞれ形成された下部電極及び上部電極からなる共振膜と、上部電極の上面の外縁部に設けられた枠部と、枠部により下面が保持された蓋部とを備え、蓋部と上部電極の上面との間には上部空洞部が形成されていることを特徴とする。
第1の圧電共振器によれば、上部電極の上面の外縁部に設けられた枠部と、枠部により下面が保持された蓋部とを備えているため、圧電膜に縦方向の弾性波を閉じこめる領域であるキャビティ部の厚さと比べて、キャビティ部の周辺部の厚さが非常に厚い。従って、キャビティ部における共振周波数と、キャビティ部以外の部分の共振周波数とが大きく異なる値となるので、圧電共振器に生じるスプリアスを低減することができる。また、蓋部と上部電極の上面との間には上部空洞部が形成されているため、蓋部の上に樹脂膜等を形成したとしても、キャビティ部の振動が減衰することはない。従って、圧電共振器を樹脂パッケージにより封止し、実装することが可能となる。
第1の圧電共振器において、上部空洞部は、密閉されていることが好ましい。このような構成とすることにより、樹脂パッケージを行う際に、空洞部に樹脂が流入することがないので、樹脂パッケージを確実に行うことができる。また、上部電極が雰囲気中の水分等によって劣化することも防止できる。
第1の圧電共振器は、下部電極の下面と基板との間には下部空洞部が形成されていることが好ましい。この場合において、基板と下部電極との間に設けられ、下部電極の下面の外縁部分を保持する下部電極保持部をさらに備えていることが好ましい。このような構成とすることにより、下部空洞部を確実に形成することができると共に、キャビティ部とキャビティ部以外の部分の共振周波数をさらに大きく異ならせることができる。
本発明に係る第2の圧電共振器は、それぞれが基板の主面上に該主面に沿って保持され、圧電膜並びに該圧電膜の下面及び上面の互いに対向する位置にそれぞれ形成された下部電極及び上部電極からなる複数の共振膜と、複数の上部電極の上面の外縁部にそれぞれ設けられた複数の枠部と、複数の枠部により下面が保持された1つの蓋部とを備え、蓋部と複数の上部電極の上面との間には上部空洞がそれぞれ形成されていることを特徴とする。
第2の圧電共振器によれば複数の上部電極の上面の外縁部にそれぞれ設けられた複数の枠部と、複数の枠部により下面が保持された1つの蓋部とを備えているため、圧電膜に縦方向の弾性波を閉じこめる領域であるキャビティ部の厚さと比べて、キャビティ部の周辺部の厚さが非常に厚い。従って、キャビティ部における共振周波数と、キャビティ部以外の部分の共振周波数とが大きく異なる値となるので、圧電共振器に生じるスプリアスを低減することができる。また、1つの蓋部が複数の枠部に保持されているため、蓋部の形成が容易であり且つ蓋部の強度を高くすることができる。さらに、複数の共振部を備えているため、高周波フィルタ等を容易に形成することが可能となる。
第2の圧電共振器において、複数の共振膜のうちの少なくとも1つの共振膜において下部電極及び上部電極のうちの少なくとも一方の厚さは、他の共振膜と異なっていることが好ましい。このような構成とすることにより、共振周波数が互いに異なる圧電共振器を基板の上に形成することができるため、高周波フィルタ等を容易に形成することが可能となる。
第2の圧電共振器において、複数の共振膜は、圧電膜が共通に形成されていることが好ましい。このような構成とすることにより、複数の共振膜を容易に形成することが可能となる。
本発明に係る圧電共振器の製造方法は、圧電膜の下面及び上面の互いに対向する位置にそれぞれ形成された下部電極及び上部電極を有する共振膜を第1の基板の主面上に保持された状態とする工程(a)と、蓋体の上における上部電極の上面の外縁部に対応する位置に枠部を固着する工程(b)と、枠部を上部電極の上面の外縁部と接着して、枠部により蓋体を保持することにより、蓋体と上部電極の上面との間に上部空洞部を形成する工程(c)とを備えていることを特徴とする。
本発明の圧電共振器の製造方法によれば、枠部を上部電極の上面の外縁部と接着して、枠部により蓋体を保持することにより、蓋体と上部電極の上面との間に上部空洞部を形成する工程を備えているため、圧電膜に縦方向の弾性波を閉じこめる領域であるキャビティ部の厚さと比べて、キャビティ部の周辺部の厚さを非常に厚くすることができる。従って、スプリアスの発生が少ない圧電共振器を容易に実現できる。また、樹脂パッケージすることができる圧電共振器を容易に実現できる。
本発明の圧電共振器の製造方法は、工程(a)と工程(c)との間に、上部電極の上面の外縁部に蓋部接続膜を形成する工程をさらに備え、工程(c)において、枠部形成膜は、蓋部接続膜を介在させて上部電極の上面と接着することが好ましい。このような構成とすることにより、蓋部を確実に形成することができる。
本発明の圧電共振器の製造方法は、工程(c)において、上部電極と枠部形成膜とを加圧条件下で加熱することにより接着することが好ましい。また、工程(c)において、上部電極と枠部形成膜とを共晶反応により接着してもよい。
本発明の圧電共振器の製造方法において、工程(a)は、第2の基板の上に圧電膜を形成した後、形成した圧電膜の上に下部電極を形成する工程と、第1の基板の上における下部電極の外縁部に対応する位置に下部電極保持部を形成する工程と、第1の基板に形成された下部電極保持部と、第2の基板に形成された下部電極とを接着することにより、下部電極と第1の基板との間に下部空洞部を形成する工程と、第2の基板を除去することにより圧電膜の下部電極が形成された面と反対側の面を露出した後、該露出した面の上に上部電極を形成する工程とを含むことが好ましい。
本発明の圧電共振器の製造方法において、工程(b)は、蓋体に枠部を形成した後、形成した枠部をマスクとして蓋体をエッチングする工程を含んでいることが好ましい。
本発明の圧電共振器及びその製造方法によれば、スプリアスの発生を効果的に低減し且つ気密封止パッケージを用いる必要がない圧電共振器を実現できる。
(一実施形態)
本発明の一実施形態に係る圧電共振器及びその製造方法について図面を参照して説明する。図1(a)及び(b)は本実施形態に係る圧電共振器であり、(a)は平面構成を示し、(b)は(a)のIb−Ib線における断面構成を示している。図1に示すように、保持基板1の主面の上には、圧電膜11と圧電膜11の下面及び上面にそれぞれ互いに対向するように形成された一対の下部電極12及び上部電極13とからなる共振膜14が保持されている。
共振膜14は、下部電極12の外縁部に接着された下部電極保持部15を介在させて保持基板1の上に保持されている。これにより、下部電極12と保持基板1との間には、下部空洞部21が形成されており、共振膜14のうちの下側に下部空洞部21が形成されている領域は、厚さ方向に振動するキャビティ部31である。
上部電極13の上には、蓋部17と蓋部17を下から保持する上部電極13の上面の外縁部と接着された枠部16とによって構成されており、蓋部17と上部電極13との間には上部空洞部22が形成されている。このため、蓋部17の上を樹脂膜で覆っても、キャビティ部31に誘起させた振動が減衰することはない。従って、圧電共振器を樹脂パッケージにより封止し、実装することが可能となる。
なお、図1には1つの圧電共振器のみを記載しているが、保持基板1の上には、複数の圧電共振器が形成されていてもよい。また、複数の圧電共振器が保持基板1の上に形成されている場合には、一枚の蓋部17を共通に用いてもよい。
また、圧電共振器の共振周波数は、キャビティ部31において振動する部分である、圧電膜11、下部電極12及び上部電極13のそれぞれの厚さを合計した厚さによって決定される。しかし、キャビティ部31以外の部分においても振動が生じるため、この振動成分によりスプリアスが発生する恐れがある。
特に、キャビティ部31の厚さと、キャビティ部31以外の部分の厚さとの差が小さい場合には、キャビティ部31以外の部分がキャビティ部31とほぼ同じ周波数で振動するため、スプリアスの影響が大きくなる。また、キャビティ部31における振動エネルギーが周囲の部分に逃げやすくなり、キャビティ部31におけるエネルギーの閉じこめ効率も低下する。
しかし、本実施形態の圧電共振器においては、キャビティ部31以外の部分には、圧電膜11の下面及び上面に下部電極保持部15、枠部16及び蓋部17がさらに形成されている。従って、キャビティ部31とキャビティ部31以外の部分の厚さが大きく異なっているため、圧電共振器に生じるスプリアスを低減する効果が得られる。
図2及び図3は圧電共振器に発生するスプリアスの状態を計算により求めた結果を示す。図2及び3において、横軸は周波数を示し、縦軸は上部電極と下部電極との間のアドミタンスを示している。
図2は本実施形態の圧電共振器における計算結果である。なお、基板1は厚さが450μmのシリコン基板であり、圧電膜11は厚さが0.5μmの窒化アルミニウムであり、下部電極12及び上部電極13はそれぞれ厚さが0.2μmで幅が200μmのタングステンであり、下部電極保持部15及び枠部16はそれぞれ厚さが2μmで幅が40μmの金であり、蓋部17は厚さが50μmのシリコンであるとした。
図2に示すように、約2.85GHzに圧電共振器の共振周波数の大きなピークが一つだけあり、スプリアスによるピークはいずれも共振周波数のピークと比べて非常に小さい。図3は本実施形態の圧電共振器から蓋部17及び枠部16を取り除いた共振器における計算結果であり、この場合には約2.85GHzの共振周波数のピークが小さくなり、スプリアスのピークが大きくなっている。
これらのことから、本実施形態の圧電共振器は、スプリアスを低減する効果を有していることが明らかである。
以下に、本実施形態の圧電共振器の製造方法について図面を参照して説明する。図4及び図5は本実施形態の圧電共振器の製造方法を工程順に示している。図4(a)に示すようにまず、サファイアからなる形成用基板41の上に窒化アルミニウムからなる圧電膜11を形成し、圧電膜11の上にタングステンからなる下部電極12を形成する。
次に、図4(b)に示すように保持基板1の上に金からなる下部電極保持部15を形成する。下部電極保持部15は、保持基板1と形成用基板41とを対向させた際に、下部電極12の外縁部に対応する位置に形成する。
次に、図4(c)に示すように保持基板1と形成用基板41とを対向させ、下部電極保持部15と下部電極12とを位置あわせして密着させた後、加圧状態で加熱することにより、下部電極保持部15と下部電極12とを接着する。
次に、図4(d)に示すように形成用基板41を除去した後、露出した圧電膜11の上面にタングステンからなる上部電極13を形成する。形成用基板41の除去は、レーザリフトオフ又は研磨等の既知の方法で行えばよい。研磨により形成用基板41を除去する場合には、形成用基板41に炭化シリコン(SiC)等を用いてもよい。
次に、図5(a)に示すようにシリコンからなる蓋部形成基板51の上に金からなる枠部形成膜52を形成する。枠部形成膜52は、保持基板1と蓋部形成基板51とを対向させた際に上部電極13の外縁部に対応する位置に、メッキ等の方法を用いて形成すればよい。
次に、図5(b)に示すように保持基板1と蓋部形成基板51とを対向させ、枠部形成膜52と上部電極13の外縁部とを位置あわせして密着させた後、加圧状態で加熱する。これにより、上部電極13の上面の外縁部と接着された枠部16と枠部16により下面の一部が保持された蓋部17とが形成される。
なお、保持基板1の上には複数の圧電共振器を形成してもよい。この場合、図6(a)に示すように1枚の蓋部17を各圧電共振器に共通としてもよい。このようにすることにより、一度の貼り合わせ工程によりすべての蓋部17を形成することができる。また、圧電膜11の不要部分が、図6(b)に示すように切断されていてもよい。このようにすることにより、隣り合う圧電共振器との間隔が短い場合にも、スプリアスの発生を低減することができる。蓋部17についても、圧電共振器ごとに切断してもよい。
また、各圧電共振器の上部電極13又は下部電極12の厚さを変えて共振周波数の異なる複数の圧電共振器を基板の上に形成してもよい。このようにすることにより、高周波フィルタを容易に形成することが可能となる。
本実施形態の圧電共振器の製造方法において、枠部16と上部電極13とを熱圧着により接着する例を示したが、枠部16及び上部電極13に金−スズ合金等を用い、枠部16と上部電極13とを共晶反応により接着してもよい。この場合、接着の際の熱処理温度を低く抑えることが可能となる。また、枠部16と上部電極13とを直接接着する例を示したが、図7に示すように上部電極13の上に枠部接着膜19をあらかじめ形成して、枠部接着膜19を介在させて枠部16と上部電極13とを接着してもよい。
また、蓋部形成用基板51の上に枠部形成膜52を形成した後、形成した枠部形成膜52をマスクとして、蓋部形成用基板51の表面を数μmの深さまでエッチングしてもよい。このようにすれば、蒸着等により薄い枠部形成膜52を形成した場合にも、蓋部17と上部電極13との間隔を確保して、上部空洞部22を確実に形成することが可能となる。
本実施形態においては、圧電共振器を平面円形状に形成する例を示した。このように、圧電共振器を平面円形状に形成することにより、所定の音波モード以外のモードが発生しにくくなるため、スプリアスの発生をさらに低減することができる。ただし、圧電膜11の成形性を考慮して平面方形状等に形成してもよい。この場合においても、キャビティー部31が平面円形状となるようにすれば、スプリアスを低減することができる。また、圧電共振器の平面形状又はキャビティー部の平面形状を五角形状等の各辺が非並行である形状としてもよい。
なお、下部電極保持部15を形成した保持基板1の上に下部電極12を形成した圧電膜11を貼り合わせることにより下部空洞部21を形成したが、凹部を形成した保持基板1に圧電膜11を貼り合わせることにより形成してもよい。また、貼り合わせに代えて犠牲層を用いて形成してもよい。
(実施形態の一変形例)
以下に、本発明の実施形態の一変形例に係る圧電共振器について図面を参照して説明する。図8は本変形例に係る圧電共振器の断面構成を示している。図8において図1と同一の構成要素には同一の符号を附すことにより説明を省略する。
図8に示すように、本変形例の圧電共振器は、下部電極12の下に音響多層膜61が形成されている。このような構成においても、圧電共振器のスプリアスを低減し且つパッケージを容易にすることができる。
本発明の圧電共振器及びその製造方法は、スプリアスの発生を効果的に低減し且つ気密封止パッケージを用いる必要がない圧電共振器を実現でき、圧電共振器及びその製造方法等として有用である。
(a)及び(b)は本発明の一実施形態に係る圧電共振器を示し、(a)は平面図であり、(b)は断面図である。 本発明の一実施形態に係る圧電共振器のスプリアス特性の計算結果を示すグラフである。 比較例に係る圧電共振器のスプリアス特性の計算結果を示すグラフである。 本発明の一実施形態に係る圧電共振器の製造工程を工程順に示す断面図である。 本発明の一実施形態に係る圧電共振器の製造工程を工程順に示す断面図である。 本発明の一実施形態に係る圧電共振器の製造工程の別の例を工程順に示す断面図である。 本発明の一実施形態に係る圧電共振器の製造工程の別の例を工程順に示す断面図である。 本発明の実施形態の一変形例に係る圧電共振器を示す断面図である。
符号の説明
1 保持基板
11 圧電膜
12 下部電極
13 上部電極
14 共振膜
15 下部電極保持部
16 枠部
17 蓋部
19 枠部接着膜
21 下部空洞部
22 上部空洞部
31 キャビティ部
41 形成用基板
51 蓋部形成基板
52 枠部形成膜
61 音響多層膜

Claims (13)

  1. 基板の主面上に該主面に沿って保持され且つ圧電膜並びに該圧電膜の下面及び上面の互いに対向する位置にそれぞれ形成された下部電極及び上部電極からなる共振膜と、
    前記上部電極の上面の外縁部に設けられた枠部と、
    前記枠部により下面が保持された蓋部とを備え、
    前記蓋部と前記上部電極の上面との間には、上部空洞部が形成されていることを特徴とする圧電共振器。
  2. 前記上部空洞部は、密閉されていることを特徴とする請求項1に記載の圧電共振器。
  3. 前記下部電極の下面と前記基板との間には、下部空洞部が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の圧電共振器。
  4. 前記基板と前記下部電極との間に設けられ、前記下部電極の下面の外縁部分を保持する下部電極保持部をさらに備えていることを特徴とする請求項3に記載の圧電共振器。
  5. それぞれが基板の主面上に該主面に沿って保持され且つ圧電膜並びに該圧電膜の下面及び上面の互いに対向する位置にそれぞれ形成された下部電極及び上部電極からなる複数の共振膜と、
    複数の前記上部電極の上面の外縁部にそれぞれ設けられた複数の枠部と、
    前記複数の枠部により下面が保持された1つの蓋部とを備え、
    前記蓋部と複数の前記上部電極の上面との間には、上部空洞がそれぞれ形成されていることを特徴とする圧電共振器。
  6. 前記複数の共振膜のうちの少なくとも1つの共振膜において前記下部電極及び上部電極のうちの少なくとも一方の厚さは、他の共振膜と異なっていることを特徴とする請求項5に記載の圧電共振器。
  7. 前記複数の共振膜は、前記圧電膜が共通に形成されていることを特徴とする請求項5又は6に記載の圧電共振器。
  8. 圧電膜の下面及び上面の互いに対向する位置にそれぞれ形成された下部電極及び上部電極を有する共振膜を第1の基板の主面上に保持された状態とする工程(a)と、
    蓋体の上における前記上部電極の上面の外縁部に対応する位置に枠部を形成する工程(b)と、
    前記枠部を前記上部電極の上面の外縁部と接着して、前記枠部により前記蓋体を保持することにより、前記蓋体と前記上部電極の上面との間に上部空洞部を形成する工程(c)とを備えていることを特徴とする圧電共振器の製造方法。
  9. 前記工程(a)と前記工程(c)との間に、前記上部電極の上面の外縁部に蓋部接続膜を形成する工程をさらに備え、
    前記工程(c)において、前記枠部は、前記蓋部接続膜を介在させて前記上部電極の上面と接着することを特徴とする請求項8に記載の圧電共振器の製造方法。
  10. 前記工程(c)において、前記上部電極と前記枠部形成膜とを加圧条件下で加熱することにより接着することを特徴とする請求項8に記載の圧電共振器の製造方法。
  11. 前記工程(c)において、前記上部電極と前記枠部形成膜とを共晶反応により接着することを特徴とする請求項8に記載の圧電共振器の製造方法。
  12. 前記工程(a)は、第2の基板の上に前記圧電膜を形成した後、形成した圧電膜の上に前記下部電極を形成する工程と、
    前記第1の基板の上における前記下部電極の外縁部に対応する位置に下部電極保持部を形成する工程と、
    前記下部電極保持部と前記下部電極とを接着することにより、前記下部電極と前記第1の基板との間に下部空洞部を形成する工程と、
    前記第2の基板を除去することにより前記圧電膜の前記下部電極が形成された面と反対側の面を露出した後、該露出した面の上に前記上部電極を形成する工程とを含むことを特徴とする請求項8から11のいずれか1項に記載の共振器の製造工程。
  13. 前記工程(b)は、前記蓋体に前記枠部を形成した後、形成した枠部をマスクとして前記蓋体をエッチングする工程を含んでいることを特徴とする請求項8から12にいずれか1項に記載の圧電共振器の製造方法。
JP2005193623A 2004-07-06 2005-07-01 圧電共振器及びその製造方法 Withdrawn JP2006050592A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005193623A JP2006050592A (ja) 2004-07-06 2005-07-01 圧電共振器及びその製造方法
US11/174,541 US20060006768A1 (en) 2004-07-06 2005-07-06 Piezoelectric resonator and method for fabricating the same

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004199168 2004-07-06
JP2005193623A JP2006050592A (ja) 2004-07-06 2005-07-01 圧電共振器及びその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006050592A true JP2006050592A (ja) 2006-02-16

Family

ID=35540584

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005193623A Withdrawn JP2006050592A (ja) 2004-07-06 2005-07-01 圧電共振器及びその製造方法

Country Status (2)

Country Link
US (1) US20060006768A1 (ja)
JP (1) JP2006050592A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007228319A (ja) * 2006-02-24 2007-09-06 Ngk Insulators Ltd 圧電薄膜デバイス及び当該圧電薄膜デバイスの製造方法
JP2021532659A (ja) * 2018-08-01 2021-11-25 アールエフ360・ヨーロップ・ゲーエムベーハー 改良された上部電極接続部を有するbaw共振器

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006217281A (ja) * 2005-02-03 2006-08-17 Toshiba Corp 薄膜バルク音響装置の製造方法
KR101973422B1 (ko) * 2014-12-05 2019-04-29 삼성전기주식회사 벌크 탄성파 공진기
CN107181472B (zh) * 2016-03-10 2020-11-03 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 薄膜体声波谐振器、半导体器件及其制造方法
CN107181470B (zh) 2016-03-10 2020-10-02 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 薄膜体声波谐振器、半导体器件及其制造方法
CN107181469B (zh) * 2016-03-10 2020-11-17 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 薄膜体声波谐振器、半导体器件及其制造方法
CN112039463B (zh) * 2019-08-09 2024-03-12 中芯集成电路(宁波)有限公司 一种薄膜体声波谐振器的制造方法
CN110868179A (zh) * 2019-10-11 2020-03-06 中国电子科技集团公司第十三研究所 一种谐振器封装系统
CN114337585B (zh) * 2022-01-11 2023-08-01 武汉敏声新技术有限公司 一种单晶薄膜体声波谐振器及其制备方法、滤波器

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07226644A (ja) * 1994-02-16 1995-08-22 Murata Mfg Co Ltd エネルギー閉じ込め型圧電共振子
EP0794616B1 (en) * 1996-03-08 2003-01-29 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. An electronic part and a method of production thereof
JPH11150153A (ja) * 1997-11-18 1999-06-02 Murata Mfg Co Ltd 電子部品
US6265246B1 (en) * 1999-07-23 2001-07-24 Agilent Technologies, Inc. Microcap wafer-level package
DE10032579B4 (de) * 2000-07-05 2020-07-02 Robert Bosch Gmbh Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements sowie ein nach dem Verfahren hergestelltes Halbleiterbauelement
WO2002058233A1 (en) * 2001-01-18 2002-07-25 Infineon Technologies Ag Filter devices and method for fabricating filter devices
US6483229B2 (en) * 2001-03-05 2002-11-19 Agilent Technologies, Inc. Method of providing differential frequency adjusts in a thin film bulk acoustic resonator (FBAR) filter and apparatus embodying the method
US6548943B2 (en) * 2001-04-12 2003-04-15 Nokia Mobile Phones Ltd. Method of producing thin-film bulk acoustic wave devices
JP2005236337A (ja) * 2001-05-11 2005-09-02 Ube Ind Ltd 薄膜音響共振器及びその製造方法
JP3954395B2 (ja) * 2001-10-26 2007-08-08 富士通株式会社 圧電薄膜共振子、フィルタ、および圧電薄膜共振子の製造方法
US6964086B2 (en) * 2002-03-04 2005-11-15 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method of manufacturing thin film piezoelectric element, and element housing jig
JP3905041B2 (ja) * 2003-01-07 2007-04-18 株式会社日立製作所 電子デバイスおよびその製造方法
JP4424009B2 (ja) * 2003-05-30 2010-03-03 株式会社村田製作所 圧電共振部品の製造方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007228319A (ja) * 2006-02-24 2007-09-06 Ngk Insulators Ltd 圧電薄膜デバイス及び当該圧電薄膜デバイスの製造方法
US7854049B2 (en) 2006-02-24 2010-12-21 Ngk Insulators, Ltd. Method of manufacturing a piezoelectric thin film device
JP4627269B2 (ja) * 2006-02-24 2011-02-09 日本碍子株式会社 圧電薄膜デバイスの製造方法
JP2021532659A (ja) * 2018-08-01 2021-11-25 アールエフ360・ヨーロップ・ゲーエムベーハー 改良された上部電極接続部を有するbaw共振器

Also Published As

Publication number Publication date
US20060006768A1 (en) 2006-01-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2006050592A (ja) 圧電共振器及びその製造方法
JP6200001B2 (ja) マイクロアコースティック部品および製造方法
JP5708079B2 (ja) 水晶振動子
JP6433930B2 (ja) 弾性波デバイス
JP5130952B2 (ja) 圧電振動デバイスおよび圧電振動デバイスの製造方法
JP4771069B2 (ja) 圧電振動片及び圧電デバイス
WO2018142789A1 (ja) 音叉型振動子
KR20170004207A (ko) 수정 진동자 및 이를 포함하는 수정 진동자 패키지
JP2007060413A (ja) 薄膜バルク音響共振器及びその製造方法
JP2010258667A (ja) 電子部品およびその製造方法、圧電振動子およびその製造方法
JP5188836B2 (ja) 水晶振動子の製造方法
JP2013081022A (ja) 水晶振動子及びその製造方法
JP5024427B2 (ja) 圧電デバイス
JP7389410B2 (ja) 圧電振動子及びその製造方法
KR101616632B1 (ko) 수정 진동자와 이를 포함하는 패키지
JP2009081670A (ja) 圧電振動デバイス、およびその製造方法
JP2006238207A (ja) 水晶振動板及びその製造方法
JP2017112544A (ja) 圧電振動子
JP4962590B2 (ja) 圧電デバイスの製造方法
JP2012023526A (ja) 屈曲振動片、振動子、発振器および電子機器
JP2004254160A (ja) 水晶振動子
JP2004364139A (ja) 弾性表面波デバイス
JP2022181349A (ja) 圧電振動デバイス
JP2002158557A (ja) 圧電振動デバイスの保持構造
JP2009188600A (ja) 弾性表面波素子片、および弾性表面波デバイス

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060804

A761 Written withdrawal of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761

Effective date: 20080704