JP2006049391A - 基板搬送装置および基板搬送方法、並びにそれらの利用 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本発明の露光装置では、露光処理後に、ステージ3から基板2を持ち上げていったん停止させて除電器7により、基板2に帯電した静電気の除電を行う。そして、このような基板2の上昇と停止とを繰り返して、基板2を除電しながら、基板2をアーム6まで搬送する。これにより、剥離帯電による基板2の帯電量を低減することができ、基板割れおよびESD不良を抑制できる。
【選択図】 図1
Description
リフト5は、露光処理後の基板2を露光処理に後続する工程に導くためのアーム6の位置(図1(e)高さh4)まで、基板2を持ち上げる。本実施形態では、リフト5は、基板2の中央部に対して対称な位置に配置されており、基板2を均一に持ち上げる。リフト5は、高精度のパターニングを得るために、基板2(詳細には基板2の裏面;露光面とは反対の面)に、面接触するようになっている。すなわち、リフト5は、基板2を持ち上げるための平坦な面を有している。そして、後述のように、特に、リフト5は、基板2を搬送する際に、ステージ2とアーム6との間で、基板2の搬送を停止して基板2を所定の高さで待機させることを特徴としている。すなわち、リフト5は、基板2の上昇および停止を繰り返し、段階的に基板2を上昇させ、多段階で基板2をアーム6まで搬送する。
2 基板
3 ステージ
4 回路パターン
5 リフト(昇降部材)
6 除電器
Claims (8)
- ステージに載置された基板を除電しながら搬送する基板搬送装置において、
基板と、基板を載置するステージと、ステージに載置された基板に面接触する接触面を有し、基板を昇降させる昇降部材と、基板の静電気を除電する除電器とを備え、
上記昇降部材は、基板の少なくとも一部がステージから離れた第1の停止位置で基板の上昇を停止させるとともに、少なくとも1回、第1の停止位置よりも高い第2の停止位置で基板の上昇を停止させることを特徴とする基板搬送装置。 - 第1の停止位置は、基板の剥離帯電が始まる高さ以上、基板を停止させない場合に基板に帯電した静電気量が最大となる高さ未満であることを特徴とする請求項1に記載の基板搬送装置。
- 上記除電器は、基板の側方から除電を行うものであり、
第2の停止位置は、除電領域の中心高さと基板表面とがほぼ同一平面上となる位置であることを特徴とする請求項1または2に記載の基板搬送装置。 - 上記除電器が、軟X線を用いるものであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の基板搬送装置。
- ステージに載置された基板を、除電器によって除電しながら搬送する基板搬送方法において、
基板の少なくとも一部がステージから離れた第1の停止位置で基板の上昇を停止する第1の停止工程と、
第1の停止工程の後に、少なくとも1回、第1の停止位置よりも高い第2の停止位置で基板の上昇を停止する第2の停止工程とを有することを特徴とする基板搬送方法。 - 請求項1〜4のいずれか1項に記載の基板搬送装置と、基板のレジスト膜上に回路パターン光を投影するための露光部とを有することを特徴とする露光装置。
- 請求項1〜4のいずれか1項に記載の基板搬送装置と、基板のレジスト膜上に回路パターン光を投影するための露光部とを有することを特徴とする順次繰返型投影露光装置。
- 請求項1〜4のいずれか1項に記載の基板搬送装置を用いて、または、請求項5に記載の基板搬送方法によって基板を搬送する基板搬送工程を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009144938A1 (ja) * | 2008-05-30 | 2009-12-03 | パナソニック株式会社 | プラズマ処理装置および方法 |
CN102024730A (zh) * | 2009-09-21 | 2011-04-20 | 东京毅力科创株式会社 | 载置机构、带划片框架的晶片的搬送方法 |
WO2019044290A1 (ja) * | 2017-08-28 | 2019-03-07 | 株式会社クリエイティブテクノロジー | 静電式ワーク保持方法及び静電式ワーク保持システム |
WO2020248728A1 (zh) * | 2019-06-13 | 2020-12-17 | 南京协辰电子科技有限公司 | 一种物料传输方法、传输装置、传输系统及可读存储介质 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0545641U (ja) * | 1991-11-22 | 1993-06-18 | 日本電気株式会社 | 基板処理装置 |
JPH06326180A (ja) * | 1993-05-17 | 1994-11-25 | Tokyo Electron Ltd | 静電吸着体の離脱装置 |
JPH1116994A (ja) * | 1997-06-20 | 1999-01-22 | Hitachi Ltd | 静電吸着した試料を離脱する方法 |
JP2002353096A (ja) * | 2001-05-22 | 2002-12-06 | Nikon Corp | 基板搬送方法、露光装置及び露光方法 |
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0545641U (ja) * | 1991-11-22 | 1993-06-18 | 日本電気株式会社 | 基板処理装置 |
JPH06326180A (ja) * | 1993-05-17 | 1994-11-25 | Tokyo Electron Ltd | 静電吸着体の離脱装置 |
JPH1116994A (ja) * | 1997-06-20 | 1999-01-22 | Hitachi Ltd | 静電吸着した試料を離脱する方法 |
JP2002353096A (ja) * | 2001-05-22 | 2002-12-06 | Nikon Corp | 基板搬送方法、露光装置及び露光方法 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009144938A1 (ja) * | 2008-05-30 | 2009-12-03 | パナソニック株式会社 | プラズマ処理装置および方法 |
JP4769335B2 (ja) * | 2008-05-30 | 2011-09-07 | パナソニック株式会社 | プラズマ処理装置および方法 |
US8673166B2 (en) | 2008-05-30 | 2014-03-18 | Panasonic Corporation | Plasma processing apparatus and plasma processing method |
CN102024730A (zh) * | 2009-09-21 | 2011-04-20 | 东京毅力科创株式会社 | 载置机构、带划片框架的晶片的搬送方法 |
WO2019044290A1 (ja) * | 2017-08-28 | 2019-03-07 | 株式会社クリエイティブテクノロジー | 静電式ワーク保持方法及び静電式ワーク保持システム |
US11121649B2 (en) | 2017-08-28 | 2021-09-14 | Creative Technology Corporation | Electrostatic workpiece-holding method and electrostatic workpiece-holding system |
WO2020248728A1 (zh) * | 2019-06-13 | 2020-12-17 | 南京协辰电子科技有限公司 | 一种物料传输方法、传输装置、传输系统及可读存储介质 |
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Publication number | Publication date |
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