JPH0545641U - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 加熱または冷却処理等のために、プレート上
にガラス基板を置くときおよびこれから離すときに、ガ
ラス基板に発生する静電気を防止する。 【構成】 ガイド孔２および吸着口３を有する加熱また
は冷却用のプレート１と、このプレート１の直下に配置
された、リフトピン５を有するテーブル４と、テーブル
４を昇降させる駆動装置６と、プレート１上から基板７
を搬出しそこへ搬入する搬送部８と、を有し、前記テー
ブル４には長さの異なる二組のリフトピン５が配設さ
れ、さらに、前記プレート１の側方に静電除去装置９が
備えられていることを特徴とする。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は、ＴＦＴ基板等に対する基板処理装置に関し、特に、直接加熱あるい は直接冷却等の処理をガラス基板に対して施すことのできる基板処理装置に関す る。

【０００２】

【従来の技術】

この種従来の基板処理装置は、図３に示されるように、処理すべき基板７の四 隅に該当する部分にガイド孔２が、また基板７を真空吸着するための吸着口３が 格子状に、それぞれ配設され、ヒータまたは冷却管を内蔵するプレート１と、プ レート１の直下に配置された、ガイド孔内を通過することのできる同一長さのリ フトピン５が植設されているテーブル４と、このテーブル４を上下に駆動する駆 動装置６と、基板７をその両端を支持してプレート１上に搬入し、またそこから 搬出する搬送部８と、から構成されていた。

【０００３】 次に、本従来例の動作について図４を参照して説明する。まず、図４の（ａ） に示すように、前工程より基板７が搬送部８によってプレート１上の中央位置に 搬送される。次に、図４の（ｂ）に示すように、テーブル４が上昇して基板７を 搬送部８より持ち上げ、その後、搬送部８は待機位置に移動する。

【０００４】 次に、図４の（ｃ）に示すように、テーブル４が下降して基板７はプレート１ の上面に置かれる。同時に基板７は真空力にてプレート上に吸着固定され、所定 時間加熱または冷却される。所定時間経過した後、図４の（ｄ）に示すように、 基板７の吸着固定が解除され、同時にテーブル４が上昇して基板７が上方へ持ち 上げられる。最後に基板７は搬送部８によって次の工程へ搬送される。

【０００５】

【考案が解決しようとする課題】

上述した従来の基板処理装置では、基板をプレート上に吸着固定する時および 加熱または冷却後に基板を吸着解除してリフター部で持ち上げる時に数ｋＶの非 常に高い電圧の静電気が基板に帯電する。そのため、特に持ち上げる時には、基 板の吸着を解除しても静電気の力によって基板はプレートの上面に強く密着した 状態のままであり、このような状態でリフター部にて基板を強制的に持ち上げる と以下の問題が起こる。

【０００６】 リフトピンの先端部に過大な力が加わり、その結果基板の裏面に傷がついた り、基板にクラックが生じたりし、最悪の場合には基板割れ不良となる。

【０００７】 基板が急激に持ち上げられた時の衝撃で基板の位置がずれ、搬送トラブルが 発生して装置の稼働率が悪化し生産性が低下する。

【０００８】 また、基板が高電圧に帯電すると、基板上にＴＦＴ等の素子が形成されている 場合絶縁膜に高電界が加えられるため素子が破壊するという問題点もあった。

【０００９】

【課題を解決するための手段】

本考案の基板処理装置は、テーブル上に複数組の長さが異なるリフトピンを配 設するなどしてリフトピンがプレート表面より突出しあるいは退出するときのタ イミングが複数種あるようにし、さらにプレートに隣接した位置に静電除去装置 を配置したものである。

【００１０】 即ち、本考案の基板処理装置は、基板をプレートの上面に対して少し斜めに保 持した状態で昇降させる機構と、この昇降と同時にプレートの側方より基板の裏 面とプレートの上面との間にプラスおよびマイナスのイオンを吹きつける機構と を備えるものである。

【００１１】

【実施例】

次に、本考案の実施例について図面を参照して説明する。 図１は、本考案の一実施例を示す斜視図である。同図において、図３の従来例 の部分と対応する部分には同一の参照番号が付されているので、重複した説明は 省略する。

【００１２】 本実施例では、テーブル４上に長さが数ｍｍ異なる２組の細いリフトピン５が 配設され、さらにリフトピン５の長い方の側に公知のイオン発生タイプの静電除 去装置９が付加されている。

【００１３】 次に、本実施例の動作について、図１、図２を参照して説明する。 図１に示すように、基板７は搬送部８により前工程より本処理部へ搬入されて くる。次に、基板７は搬送部８によってプレート１上の中央位置に搬送される。 次いで図２の（ｃ）に示すように、テーブル４が上昇して基板７をプレート１の 上面に対して少し傾けた状態で搬送部８より持ち上げ、続いて搬送部８は所定の 待機位置に移動する。

【００１４】 次に、図２の（ｂ）に示すように、テーブル４が下降し始め、これと同時に静 電除去装置９が作動して、基板７への帯電を防止しながら基板７をプレート１上 に着地させる。 基板７は、プレート部１上の上面に置かれると吸着口３を介してプレート１上 に吸着固定される。次いでテーブル４の下降が完了し、図２の（ａ）に示される ように、静電除去装置９は動作を停止する。

【００１５】 この状態で基板７に対して所定時間加熱または冷却処理が施され、その後基板 ７の吸着は解除される。次いで、テーブル４が上昇し始め、それと同時に図２の （ｂ）に示すように、静電解除装置９が作動を開始して、基板７の裏面とプレー ト１の上面との間にプラスおよびマイナスのイオンを吹きつける。

【００１６】 この基板７への帯電防止動作はテーブル４の基板持ち上げ動作期間中続けられ 、その上昇が完了すると図２の（ｃ）に示すように静電除去装置９は動作を停止 する。

【００１７】 以上好ましい実施例について説明したが、本考案はこの実施例に限定されるも のではなく、種々の変更が可能である。 例えば、実施例では、静電除去装置９の動作タイミングをテーブル４の昇降開 始タイミングと合わせていたが、これに代えて基板７のプレート１への着地の直 前に動作を開始させ着地完了直後に動作を停止させ、またプレートからの離脱直 前に動作を開始させ離脱完了直後に動作を停止させるようにすることができる。

【００１８】 また、基板７が搬送部と接触を開始するときおよびこれから離脱するときにも 静電除去装置を作動させるようにすることができる。 また、実施例では、リフトピンの、プレート１の表面からの露出・退出するタ イミングをピンの長さを変えることに異ならしめていたが、これに代えて、別々 の駆動機構を用いることによってタイミングを異ならしめるようにすることがで きる。

【００１９】

【考案の効果】

以上説明したように、本考案による基板処理装置は、プレート上から基板を傾 けながら持ち上げそして降下させる手段と、静電除去装置とを備えるものである ので、本考案によれば、基板のプレートへの着地時および離脱時に基板への帯電 を防止することができる。

【００２０】 よって、本考案により、以下の効果が得られる。 基板がプレートに強い力で密着することがなくなるので、プレートから基板 を持ち上げる時に基板に傷をつけたりクラックを入れたりすることがなくなる。 基板が持ち上げ時の衝撃により位置ずれを起こすことがなくなり、搬送トラ ブルの発生が防止される。 基板上の素子が静電気により破壊されることがなくなる。

【００２１】 その結果、製品の歩留りが向上し、また装置の稼働率がよくなり生産性が向上 する。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本考案の一実施例を示す斜視図。

【図２】 図１の実施例の動作説明図。

【図３】 従来例の斜視図。

【図４】 従来例の動作説明図。

【符号の説明】

１…プレート、 ２…ガイド孔、 ３…吸着口、
４…テーブル、５…リフトピン、 ６…駆動装置、
７…基板、 ８…搬送部、 ９…静電除去装
置。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 所定の位置にガイド孔が開孔されている
   プレートと、前記ガイド孔内を昇降することができ、前
   記プレート上に載置された基板を持ち上げることのでき
   るリフトピンと、前記リフトピンを上下方向に移動させ
   るリフトピン移動機構と、被処理基板を前記テーブル上
   に搬入し、そこから搬出する基板搬送手段と、前記プレ
   ートに隣接して配置された静電除去装置と、を具備し、 前記リフトピンは、上昇時に前記プレートの表面からそ
   れぞれの頂部を少なくとも２つのタイミングに分けて露
   出させ、かつ、下降時に前記プレートの表面からそれぞ
   れの頂部を少なくとも２つのタイミングに分けて退去さ
   せるように構成されている基板処理装置。