JP2006041544A - 熱処理方法及び熱処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 被処理物5を1200℃〜2,300℃に加熱する加熱室2を備える熱処理装置1を用い、前記被処理物5を密閉容器に収納した状態で、予め1200℃〜2,300℃に加熱された圧力10-2Pa以下、又は予め圧力10-2Pa以下の真空に到達した後に不活性ガスを導入した希薄ガス雰囲気下の前記加熱室2に移動することで、前記被処理物を1200℃〜2,300℃に加熱する。前記加熱室2の内部には加熱ヒータ11が前記被処理物5(密閉容器)を覆うように設けられており、その加熱ヒータ11の周囲には反射鏡12が配置されている。
【選択図】図1
Description
このような構成によると、被処理物を圧力10-2Pa以下、好ましくは10-5Pa以下の真空、又は予め圧力10-5Pa以下の高真空に到達した後に若干の不活性ガスを導入した希薄ガス雰囲気下においても短時間で被処理物を1200℃〜2,300℃に加熱することが可能となる。
このような構成によると、予備加熱室においても短時間で800℃以上、好ましくは1000℃以上に加熱することが可能となり、また、被処理物を効率良く加熱することができる。
(1)被処理物を圧力10-2Pa以下、好ましくは10-5Pa以下の真空、又は予め圧力10-2Pa以下に好ましくは10-5Pa以下の真空に到達した後に不活性ガスを導入した希薄ガス雰囲気下において短時間で1200℃〜2,300℃に加熱する加熱室と、
前記加熱室に連結され、前記加熱室に被処理物を移動するための移動手段が設けられている前室と、
前記前室に連結され、前記被処理物を10-2Pa以下好ましくは10-5Pa以下の真
空において予め800℃以上に加熱する予備加熱室と、を備えてなる熱処理装置。
前記被処理物を予め圧力10-2Pa以下好ましくは10-5Pa以下の真空の予備加熱室で800℃以上に加熱した後、予め1200℃〜2,300℃に加熱された圧力10-2Pa以下好ましくは10-5Pa以下の真空、又は予め圧力10-2Pa以下好ましくは10-5Pa以下の真空に到達した後に不活性ガスを導入した希薄ガス雰囲気下の加熱室に移動することで、前記被処理物を、短時間で1200℃〜2,300℃に加熱する熱処理方法。
2 加熱室
3 予備加熱室
4 前室
5 被処理物
5’ 密閉容器
5a 上容器
5b 下容器
6 ランプ
7 ゲートバルブ
8 テーブル
9 サセプタ
10 移動手段
11 加熱ヒータ
12 反射鏡
25 嵌合部
Claims (8)
- 被処理物を1200℃〜2,300℃に加熱する加熱室を備える熱処理装置による熱処理方法であって、
前記被処理物を密閉容器に収納した状態で、予め1200℃〜2,300℃に加熱された圧力10-2Pa以下、又は予め圧力10-2Pa以下の真空に到達した後に不活性ガスを導入した希薄ガス雰囲気下の加熱室に移動することで、前記被処理物を1200℃〜2,300℃に加熱するものであり、
前記加熱室の内部には加熱ヒータが前記被処理物を覆うように設けられており、その加熱ヒータの周囲に反射鏡が配置されていることを特徴とする、熱処理方法。 - 前記加熱室は予め圧力10-5以下の真空とされていることを特徴とする、請求項1に記載の熱処理方法。
- 前記熱処理装置は、
加熱室に連結され、前記加熱室に被処理物を移動するための移動手段が設けられている前室と、
前記前室に連結され、前記被処理物を予め所定の温度に加熱する予備加熱室と、
を備えており、
前記被処理物を予め圧力10-2Pa以下の真空の予備加熱室で800℃以上に加熱した後、予め1200℃〜2,300℃に加熱された圧力10-2Pa以下、又は予め圧力10-2Pa以下の真空に到達した後に不活性ガスを導入した希薄ガス雰囲気下の加熱室に移動することで、前記被処理物を1200℃〜2,300℃に加熱するものであることを特徴とする、請求項1又は請求項2に記載の熱処理方法。 - 前記予備加熱室は、前記被処理物を圧力10-5Pa以下の真空において予め800℃以上に加熱するように構成されていることを特徴とする、請求項3に記載の熱処理方法。
- 前記予備加熱室の加熱手段が、ランプ式加熱手段である請求項3又は請求項4に記載の熱処理方法。
- 被処理物を圧力10-2Pa以下の真空において1200℃〜2,300℃に加熱する加熱室と、
前記加熱室の内部に、前記被処理物を収納する密閉容器を覆うように設けられた加熱ヒータと、
この加熱ヒータの周囲に配置された反射鏡と、
を備えることを特徴とする熱処理装置。 - 前記加熱室は、前記圧力10-2以下の真空とすることに代えて、圧力10-2Pa以下の真空に到達した後に不活性ガスを導入した希薄ガス雰囲気下において前記被処理物を加熱するように構成されていることを特徴する、請求項6に記載の熱処理装置。
- 前記熱処理装置は、
加熱室に連結され、前記加熱室に前記密閉容器を移動するための移動手段が設けられている前室と、
前記前室に連結され、前記被処理物を予め所定の温度に加熱する予備加熱室と、
を備えることを特徴とする、請求項6又は請求項7に記載の熱処理装置。
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