JP2006036947A - 放射線硬化性組成物 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】
(A)下記一般式(a)で示される分子量500〜50,000のポリイソブチレン系化合物100重量部と、(B)(メタ)アクリレート基を有する水添ポリブタジエン系化合物20〜60重量部と、(C)光ラジカル重合開始剤の、上記(A)〜(C)を主成分とする放射線硬化性組成物とした。
【化6】
Description
(A)下記一般式(a)で示される分子量500〜50,000のポリイソブチレン系化合物100重量部と、(B)(メタ)アクリレート基を有する水添ポリブタジエン系化合物20〜60重量部と、(C)光ラジカル重合開始剤の上記(A)〜(C)を主成分とする放射線硬化性組成物により前記課題を解決した。
(A)ポリイソブチレン系化合物
本発明に使用される(A)ポリイソブチレン系化合物は、高純度イソブチレンの重合により製造される炭化水素ポリマーであって、下記一般式(a)で示される分子量500〜50,000のポリイソブチレンである。
本発明に使用される(B)(メタ)アクリレート基を有する水添ポリブタジエン系化合物は、ブタジエンをナトリウム触媒によるアニオン重合法、又はフリーデルクラフト触媒によるカチオン重合法などで重合させた液状ポリブタジエンを、遷移金属などの水添触媒で水素化して製造され、成分(A)ポリイソブチレンに相溶し、組成物の硬化性、硬化物の物性等に問題を生じないもので、常温にてゴム弾性を示すものであれば使用可能である。特に好ましいものは下記一般式で示される。
本発明で用いられる光ラジカル重合開始剤は、化学構造(分子結合エネルギー)の差により、分子内開裂型(P1型)と水素引き抜き型(P2型)に分類される。P1型の具体例としては、4−フェノキシジクロロアセトフェノン、4−t−ブチル−ジクロロアセトフェノン、4−t−ブチル−トリクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、1−(4−ドデシルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等のアセトフェノン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール等のベンゾイン類、アシルフォシフィンオキサイド類、チタノセン化合物等が挙げられる。
下表1に示す実施例1〜6及び比較例1〜7の通り材料を混合攪拌しそれぞれの試料を調整した。得られた各試料について下記の項目に示す評価試験を行い、その結果を表2に示した。
相溶性の確認は、実施例および比較例に基づいた各組成物を50mLガラス瓶に約20g入れ、25℃にて24時間放置後の液の状態を目視で観察した。
光硬化性は、実施例および比較例に基づいた各組成物約3gを25φのポリキャップに入れ、3,000mJ/cm2にて硬化させ、硬化状態を目視にて観察した。
樹脂硬さは光硬化性確認試験に用いた硬化物を2枚重ね、硬度計(デュロメーター タイプA又はC)にて任意5点の測定値の平均とした。
圧縮永久歪み試験は下記操作(JIS K6262試験)によって行った。すなわち、直径29.0±0.5mm、厚さ12.5±0.3mmの円盤状に硬化させた各組成物を、表面を平滑に仕上げたステンレス鋼板の間にはさみ、ボルト/ナットにより厚さ9.38±0.01mmの軟鋼製スペーサーの厚さにまで圧縮する。この試験片を150℃の恒温槽に72時間放置後、圧縮装置から素早く取り出し、23±5℃で約30分間放置する。所定時間経過後、硬化物の外観観察と厚さ測定を行う。なお圧縮永久歪みは下記式により計算した。
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