JP2006005323A - フラッシュッモリ素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ゲート形成工程でセル領域及び周辺回路領域の半導体基板上にゲートを形成する段階と、前記ゲート形成工程時のエッチング損傷を回復するために第1急速熱酸化工程を行うことにより、サイドウォール酸化膜を形成する段階と、前記セル領域にセルトランジスタの接合部を形成する段階と、前記周辺回路領域に周辺回路トランジスタの接合部を形成する段階と、前記接合部に注入されたイオンを活性化させるために第2急速熱酸化工程を行う段階とを含む。
【選択図】図2
Description
12a、22a トンネル酸化膜
12b、22b ゲート酸化膜
13、23 第1ポリシリコン層
14、24 ONO層
14−1、24−1 下部酸化膜
14−2、24−2 中間窒化膜
14−3、24−3 上部酸化膜
15、25 第2ポリシリコン層
16、26 タングステンシリサイド層
17、27 キャップ絶縁膜
18、28 サイドウォール酸化膜
19、29 セルトランジスタの接合部
30 スペーサ絶縁膜
31 周辺回路トランジスタの接合部
Claims (15)
- ゲート形成工程でセル領域及び周辺回路領域の半導体基板上にゲートを形成する段階と、
前記ゲート形成工程時のエッチング損傷を回復するために第1急速熱酸化工程を行うことにより、サイドウォール酸化膜を形成する段階と、
前記セル領域にセルトランジスタの接合部を形成する段階と、
前記周辺回路領域に周辺回路トランジスタの接合部を形成する段階と、
前記接合部に注入されたイオンを活性化させるために第2急速熱酸化工程を行う段階とを含むフラッシュメモリ素子の製造方法。 - 前記セル領域の前記ゲートは、トンネル酸化膜、第1ポリシリコン層、下部酸化膜、中間窒化膜、上部酸化膜、第2ポリシリコン層、タングステンシリサイド層及びキャップ絶縁膜が積層された構造を有することを特徴とする請求項1記載のフラッシュメモリ素子の製造方法。
- 前記サイドウォール酸化膜は30〜80Åの厚さに形成することを特徴とする請求項1記載のフラッシュメモリ素子の製造方法。
- 前記第1及び第2急速熱酸化工程それぞれは、
ウェーハを400℃のチャンバーにロードさせる段階と、
前記チャンバーの内部を回復させる段階と、
前記チャンバーの内部温度を850〜1050℃までランプアップさせる段階と、
前記チャンバー内部の温度を安定化させる段階と、
H2リッチ雰囲気で熱酸化を行う段階と、
前記チャンバーの内部をN2ファージする段階と、
前記チャンバーの内部温度を400℃までランプダウンさせる段階と、
前記ウェーハを前記チャンバーからアンロードさせる段階とを含むことを特徴とする請求項1記載のフラッシュメモリ素子の製造方法。 - 前記ロード段階は、チャンバーの内部圧力を50Torrとし、N2ガスの流入量を5〜10slpmとして行うことを特徴とする請求項4記載のフラッシュメモリ素子の製造方法。
- 前記回復段階は、チャンバーの内部圧力を50Torrとし、N2ガスの流入量を5〜10slpmとして行うことを特徴とする請求項4記載のフラッシュメモリ素子の製造方法。
- 前記ランプアップ段階は、チャンバーの内部圧力を50Torrとし、N2ガスの流入量を5〜10slpmとし、O2ガスの流入量を0.1〜10slpmとして20〜90分間行うことを特徴とする請求項4記載のフラッシュメモリ素子の製造方法。
- 前記安定化段階は、チャンバーの内部圧力を50Torrとし、O2ガスの流入量を0.1〜10slpmとして行うことを特徴とする請求項4記載のフラッシュメモリ素子の製造方法。
- 前記熱酸化段階は、チャンバーの内部圧力を30〜120Torrとし、N2ガスの流入量を5〜10slpmとし、O2ガスの流入量を0.1〜10slpmとし、H2ガスの流入量を0.1〜10slpmとして0.1〜10分間行うことを特徴とする請求項4記載のフラッシュメモリ素子の製造方法。
- 前記N2ファージ段階は、チャンバーの内部圧力を500Torrとし、N2ガスの流入量を0〜100slpmとして行うことを特徴とする請求項4記載のフラッシュメモリ素子の製造方法。
- 前記ランプダウン段階は、チャンバーの内部圧力を500Torrとし、N2ガスの流入量を10slpmとして20〜90分間行うことを特徴とする請求項4記載のフラッシュメモリ素子の製造方法。
- 前記アンロード段階は、チャンバーの内部圧力を50Torrとし、N2ガスの流入量を5〜10slpmとして行うことを特徴とする請求項4記載のフラッシュメモリ素子の製造方法。
- 前記第1急速熱酸化工程は、前記安定化段階と前記熱酸化段階との間にH2アニール段階が追加されることを特徴とする請求項4記載のフラッシュメモリ素子の製造方法。
- 前記第1急速熱酸化工程は、前記熱酸化段階と前記N2ファージ段階との間にH2アニール段階が追加されることを特徴とする請求項4記載のフラッシュメモリ素子の製造方法。
- 前記H2アニール段階は、チャンバーの内部圧力を30〜120Torrとし、H2ガスの流入量を0.1〜10slpmとして0.1〜2分間行うことを特徴とする請求項13又は14記載のフラッシュメモリ素子の製造方法。
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