JP2006003907A - テレセントリックな主出口光線を有する多重ビームラスタ出力スキャナ光学システム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 ラスタ出力スキャナからの差分スキャナライン曲がりを除去するシステムが、各スキャン光ビームの少なくとも主出口光線をシステム軸と整列する。主出口光線をシステム軸と実質的に平行になるよう整列することによって曲がりが全体として減少される。この結果、多重ステーションプリンタの異なるステーションからの、若しくは、多重経路プリンタの異なる経路からの、曲がりスキャンラインはほぼ同一とされまた整列される。
【選択図】 図6
Description
図5は、サジタルにオフセットされた一対のレーザダイオード31、32を示す。レーザダイオード31と32によって放出されたビーム43と42は、コリメータ33(レンズL1)によってコリメートされる。F/#を制御するため、ビーム41と42が光軸と交差する所にサジタル開口34が配置される。入力シリンドリカル光学素子35(レンズL2)がビーム41と42を回転ポリゴンの現在のポリゴンファセット36の表面上に焦合する。現在のファセット36から反射した後、ビーム41と42はFΘレンズ37(レンズL3)を通過する。FΘレンズ37は一般にタンジェンシャルな子午線では比較的低いパワーを有する。FΘレンズ37の主な機能はポリゴン回転の単位角毎の一様なスポット変位によってタンジェンシャルな子午線で焦合を提供し、スキャンの線型性を制御することである。
回転ポリゴン、単一スポットROS型のゼログラフィー複写機やプリンタでは、曲がり歪曲が光学許容差の累積から生じている。曲がり自身は高感度スキャン方向にそれが移動したときにROSのスキャンレーザビームによって表される曲線である。従って、ラインが高感度スキャン方向に延長された場合、この曲がりは処理方向においてスキャンラインの変位として現れる。
多重ビーム、レーザダイオード型のROSは高品質、高スループットのゼログラフィー印刷を行なうのに最も適当な技術と考えられているが、差分スキャンライン曲がり(differential scan line bow) として知られる現象が不所望な副作用として残る。差分スキャンライン曲がりは、多重ビーム光学システムの非常に本質的なことから生じている。ここでは、ビームはサジタルに(クロススキャン方向で)オフセットされるため、ビームの半分は光軸の上でビームの半分は光軸の下となるか、あるいは、全てのビームが光軸の上若しくは下となる。
単一ビームモノクロームや単一ビーム多重経路カラー印刷装置では連続するスキャンラインの曲がりが同じであるため、2、300ミクロンの曲がりは画質に関して人目につかないほどの低下しか引き起こさない。しかしながら、マルチビーム、モノクローム、単一ステーション印刷装置や、単一若しくは多重光受容体ステーションを備えた多重ビーム、単一経路カラー印刷装置では、差分曲がりは、単一モノクローム画像においても、また、多重レイヤカラー画像におけるカラーレイヤの中でも、その両方においてとても大きな不一致を引き起こしてしまう。
従来システムの主な欠点は図5に示されているように、異なる曲がりが許されたスキャンラインを生成できない点にある。上に示したように、性能が貧弱であるのは、主光線とMCOおよびPR画像面間のシステム軸との間のかなりの角度偏差よる。
この角度偏差は、許容し得る運動補償範囲と一致するようなスポット焦合の実行可能深さを適度な範囲に確立することを不可能なものにしてしまう。言い換えれば、適当に指定されたポリゴン角度傾斜(例えば、アークの+/−1分(1" ))が導入され、画像面が適度な距離(例えば、+/−2mm)で最良の焦合となるよう内側および外側に移動された場合には、スキャンに沿ったスポットサイズにおける変動や異なる曲がり量、更に、ポリゴン傾斜に起因するスキャンラインシフトの量、これら各々が、高品質の画像を発生するには許容し得ないものとなる。
本発明は、このように、差分スキャンライン曲がりを適当に補償するような単一ステーション多重ビームシステムを提供する。
本発明は、更に、多重ステーションを提供するもので、ここでは、ステーションシステム毎に単一ビームを提供しており、異なるステーションの複数のビームを整列することが可能とされ、差分曲がりは実質的に取り除かれ、スキャンラインはサジタルに整列される。
最後に、本発明は、ビーム放出素子(レーザダイオード)間の間隔を増加させることを可能とするようなシステムを提供し、こうして、設計を容易にするとともに、システムに許容誤差を作り出している。
上に大まかに述べられた目的を達成するため、本発明は、総合的な解決策を提供する。この総合的な解決策では、差分スキャンライン曲がりの除去という目標を、必要とされるほどに若しくは実際的に可能なほどにサジタル主光線角をテレセントリックなものにすることによって達成している。これは、全てのビームについて最少と最大の曲がり値を所定の範囲内に維持することを可能とする。この範囲は、光軸上に集中させる必要はない。なぜなら、全てのビームは実質的に同じプロセス方向オフセットと一般的な形態を有しているため、人目につくような不一致は発生しないからである。更に、曲がり補償を提供する光学素子は、ピラミッドポリゴン角エラーによって発生された不所望なスキャンライン揺れも矯正する。
図2において、第3の曲がりスキャンライン26は第1の曲がりスキャンライン22上に重ね合わされている。図2に示されているように、第3の曲がりスキャンライン26は第1の曲がりスキャンライン22の湾曲の中心に対して理想的なスキャンライン20の反対側に湾曲の中心を有する。
図3において、曲がりスキャンライン21、23の湾曲の中心は、曲がりスキャンラインがピンクッション歪曲を作り出すよう理想的なスキャンライン20の反対側に位置付けられている。これは、曲がりスキャンライン21、23が同一の曲率半径を有しているか、異なる曲率半径を有しているかに係わらず発生する。
図4において、曲がりスキャンライン25、27の湾曲の中心もまた、理想的なスキャンライン20の反対側であるが(同じ若しくは異なる半径で)、互いに関する配列はピンクッション歪曲を形成するようなものである。これもまた、曲がりスキャンライン25、27が曲率半径と同一の曲率半径を有しているか、異なる曲率半径を有しているかに係わらず発生する。
本発明の第1のより好ましい実施例は、図6に示されているように前述した性能欠陥に対して一般的な解決策を与えるものである。コリメータレンズL1の焦合長さおよび位置は、開口面(主光線が互いに交差する場所)がMCOの後方焦合面で像形成されるように選択される。この状態のため、MCOは全ての光学素子に共通であるシステム軸と平行に主光線を屈折させる。こうして、テレセントリックシステムが作り出される。本発明では、FΘレンズ37(レンズL3)とMCOとを組み合わせてPR上のレーザビームのスポットをポリゴン平面からPR平面へ再焦合し続けることに注意すべきである。同時に、MCOだけがその後方焦合面に対象物として配置されたサジタル開口ストップの画像を見る。この結果、MCOは主光線をシステム軸に平行に屈折させる。こうして、MCOは、差分曲がりとは独立のスキャンライン、大きな焦合深さ、更に、ポリゴンエラーの傾斜による低スキャンライン動作に必要とされる好ましい状態を作り出す。一般に、システムの各光ビームの主出口光線はシステム軸に対して平行に0.1度の範囲内にあることが必要である。しかしながら、光ビームの主出口光線は平行の1度範囲内に存在し得るものであり、いまだにテレセントリックと考えられる。
図5において、MCOからの主出口光線はテレセントリックでないことを理解すべきである。即ち、主出口光線はシステム軸38と平行ではない。また、サジタル開口ストップの画像は、殆どの場合、光受容体平面の後ろ側に配置された領域45に配置されることに注意することが重要である。
更に、各レーザダイオード51、52は自身の光ビームを他のレーザダイオードによって放出された光ビームの波長とは異なる波長で放出することができることを理解すべきである。最後に、システムはレーザダイオードには限定されない。ソリッド状態レーザ、ガスレーザ、液体レーザ、若しくは、セミコンダクタレーザのような既知のなんらかの光放出デバイスを使用することもできる。更に、光放出ビームは変更され得る(それが出力されるときに、若しくは、マイクロモジュレータ型のスキャナによって)。従って、フラッシュランプやそのようなものを光源として使用することもできる。
MCO59を通過した後、レーザビーム61と62は光受容体平面60上に焦合され、スキャンスポット63と64を形成する。最も重要なことは、レーザビーム66と67の主出口光線66と67が各々、システム軸65に平行なことである。即ち、主出口光線66と67はテレセントリックである。出力光学系のいずれの素子もドーナツ型の表面を持つことができる点に注意すべきである。更に、このドーナツ型の表面は、サジタル若しくはタンジェンシャル方向のいずれにおいても一様若しくは非一様な半径を有することができる。
図7では、レーザビーム61と62はポリゴンファセット表面56によって反射された後、それらはFΘレンズ57aと57bを通過する。即ち、この実施例では、FΘレンズ57は、2つの部分57aと57bに分離されている。これらのレンズ、レンズL3−1とL3−2、が結合されてFΘ補償を提供する。第2のFΘレンズ57bを通過した後、レーザビーム61と62は第1のアナモルフィック運動補償光学系(MCO−1)59aを通過する。第1のMCO、MCO−1はシリンドリカルレンズを備えている。その後、第1のMCO59aを通過した後、レーザビーム61と62は再びサジタル開口ストップの画像において交差する。この場合、サジタル開口ストップは光受容体平面60の前に残っているが、今回は第1のMCO59aの後方であることに注意すべきである。しかしながら、サジタル開口ストップ58の画像を通過した後、レーザビーム61と62は第2のアナモルフィック運動補償光学系(MCO−2)59bから反射される。第2のMCO59bはネガティブなシリンドリカルミラーを備えている。ここでもまた、サジタル開口ストップ58の画像は第1のMCO59aの後方であるが、それは第2のMCO59bの前に残っていることに注意すべきである。
図8は、図7に示されたその一部である光学システムのタンジェンシャルな図面を示す。図8に示されているように、レーザビーム61と62は紙面に整列されて存在し、回転ポリゴン7にポリゴンファセット表面56で衝突してFΘレンズ57aと57bへ反射される。FΘレンズの2つの部分57aと57bを通過した後、レーザビーム61と62は第1のアナモルフィック運動補償光学系(MCO−1)59aを通過する。第1のMCO59aを通過した後、レーザビーム61と62は、第2のMCO59bを反射されて、フォールドミラー68上へ反射される。フォールドミラー68から反射された後、レーザビーム61と62は光受容体平面60上へスキャンスポット63と64において焦合される。また、主出口光線66と67は、第2のMCO59bから反射された後、サジタル面においてテレセントリックとなる。
表1は、図6〜図8に示されたテレセントリックROS光学システムのための一般仕様を概説している。
本発明に基づいて設計されたサンプルテレセントリックROS光学システムのための一般仕様
解像度: 1インチあたり600スポット
スキャン長さ: 11.9インチ(302.8mm)
波長: 670nm
レーザの数: 2個
レーザ・オリエンテーション: サジタルにオフセットされている
レーザ分離: 25ミクロン
インターレース・ファクタ: 3
スキャンライン分離: (3×1/600インチ)
(scan line separation)
表1に示されているように、図6〜図8に示された光学システムのための設計仕様は、全体で11.9インチであるスキャンラインにおいて1インチあたり600ピクセルの解像度を必要とする。レーザビームの通常の波長は670nmであり、2個のレーザダイオードが使用される。レーザダイオードは列上に垂直に整列されており、25ミクロンによってサジタルに(垂直に)オフセットされている。更に、レーザダイオードによって放出されたレーザビームが使用されて、3というインターレース (interlace)を有するインターレース画像を形成する。最終的に、隣接するスキャンライン間の最終のスキャンライン分離は1/200インチである。また、スキャンラインは連続的な、若しくは、イン・ピッチスキャンラインを形成して、各スキャンの間にテキストのブロックを形成することもできる。
スポットサイズデータ
────────────────────────────────
+2mm デフォーカス 最良の焦点面 -2mmデフォーカス
サジタル×タンジェ サジタル×タンジェ サジタル×タンジェ
POS NO ンシャル ンシャル ンシャル
X × Y X × Y X × Y
ミクロン ミクロン ミクロン
SOS 1 40.3 × 36.1 40.2 × 35.67 40.4 × 37.38
2 41.8 × 36.38 42.43× 35.57 43.66× 35.17
3 43.8 × 36.38 43.6 × 35.67 43.87× 35.67
COS 4 43.8 × 36.74 43.6 × 35.5 43.87× 35.67
5 42.74× 36.1 43.04× 35.32 43.66× 35.8
6 40.59× 36.73 40.59× 35.67 42.03× 35.67
EOS 7 40.34× 36.73 40.2 × 36.9 40.36× 38.0
表6は、最良の焦点面から+2mmだけ離れた焦点から最良の焦点面から−2mmだけ離れた焦点までの範囲にあるスポットサイズデータを示す。最も左側のコラムにスキャン開始位置(SOS)1からスキャン中央位置(COS)4を通じてスキャン終了位置(EOS)7まで延びた測定位置が示されている。第2コラムに焦点面が最良の焦点面から+2mmだけ離されている場合のスポットサイズデータを示す。第2コラムに示されているように、サジタルな、即ち、X方向の、スポットサイズは40.3mmから43.8mmまで変化する。同時に、タンジェンシャル、即ち、Y方向のスポットサイズは36.1mから36.7mmまで変化する。この結果、+2mmのデフォーカス(defocus)におけるスポットサイズでの全変動は、サジタル方向で3.5ミクロンであるのに対してタンジェンシャル方向では .6ミクロンである。
±2mmのデフォーカスにおけるサジタルおよびタンジェンシャルスポットサイズは共に十分容認し得る変動範囲内である。図7と図8に示された光学システムにおける変動範囲によっては、大きな若しくは人目につくような不一致、若しくは視覚的効果は生じない。
焦点位置とポリゴンファセット傾斜の関数としての
差分曲がりとスキャンラインシフト
───────────────────────────────────
差分曲がり スキャンライン位置
の総計 ポリゴンファセット
(ミクロン) 傾斜によるシフト
(ミクロン)
焦合 ポリゴンファセット 3.0 None
傾斜
+2mm デフォーカス NO 4.6 0.1
-2mm NO 4.7 0.2
フォーカス +1分 OFARC POL 4.4 0.05
+2mm デフォーカス +1分 4.9 3.1
-2mm デフォーカス +1分 4.6 3.1
焦点位置とポリゴンファセット傾斜の関数としての
差分曲がりとスキャンラインシフト
───────────────────────────────────
差分曲がり ポリゴンファセットの
の総計 傾斜に因るスキャンラ
(ミクロン) イン位置シフト
(ミクロン)
焦合 ポリゴンファセット 3.0 なし
傾斜なし
+2mm デフォーカス ポリゴンファセット 4.6 0.1
傾斜なし
-2mm ポリゴンファセット 4.7 0.2
傾斜なし
焦合 アークポリゴン傾斜 4.4 0.05
の +1分
+2mm デフォーカス アークポリゴン傾斜 4.9 3.1
の +1分
-2mm デフォーカス アークポリゴン傾斜 4.6 3.1
の +1分
表7は、差分曲がりとスキャンラインシフトを焦点位置とポリゴンファセット傾斜角の関数として示している。コラム1において、焦点位置は最良の焦点面から+2mmのデフォーカスまで、および、−2mmのデフォーカスまでの範囲にある。コラム2において、ポリゴンファセット傾斜は0若しくはアークの±1分のいずれかである。
ポリゴン傾斜値でのデフォーカスの範囲がここに示されているような範囲においては、上で述べた差分曲がり値の総計は127ミクロンのスキャンライン分離のたった3.8%だけを表示することに、注意すべきである。127ミクロンスキャンライン分離は1インチあたり600スポットと3というインターレースの仕様によって決定される。更に、最大のスキャンラインシフトは127ミクロンスキャンライン分離のたった2.4%を表示する。
32 レーザダイオード
33 コリメータ
34 サジタル開口ストップ
36 ポリゴンファセット表面
37 FΘレンズ
38 システム軸
39 MCO
43 スキャナスポット
44 スキャナスポット
50 光学装置
51 レーザダイオード
52 レーザダイオード
53 コリメータ
55 入力シリンドリカルレンズ
56 ポリゴンファセット表面
57a FΘレンズ
57b FΘレンズ
59 MCO
60 光受容体平面
61 レーザビーム
62 レーザビーム
66 主出口光線
67 主出口光線
68 フォールドミラー
Claims (2)
- 印刷装置のためのラスタ出力スキャナ光学システムにおいて、
複数の光ビームを放出する複数の光放出デバイスと、
光受容体と、
前記複数の光ビームを前記光受容体に沿ってスキャンする走査デバイス(56)と、
前記複数の光ビームをコリメートしてコリメートされた複数の光ビームを前記走査デバイスに与える、開口面を有する入力光学システムと、
出力光学システムと、を備え、
前記出力光学システムは、前記走査デバイスから前記複数の光ビームを受け、これら複数の光ビームを前記光受容体の上に焦合し、前記出力光学システムから出る前記複数の光ビーム各々の少なくとも1つの主出口光線を前記光学システムのシステム軸と整列させるものであり、前記出力光学システムは、FΘ光学素子と、運動補償光学素子と、前記運動補償光学素子の後方焦合面で前記出力光学システムに像形成されるサジタル開口ストップと、を有することを特徴とするシステム。 - 前記サジタル開口ストップは、前記FΘ光学素子と前記運動補償光学素子の間に配置される請求項1記載のシステム。
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