JP2001004938A - 光走査装置 - Google Patents
光走査装置Info
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- 238000007493 shaping process Methods 0.000 claims abstract description 30
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/10—Scanning systems
- G02B26/12—Scanning systems using multifaceted mirrors
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- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/10—Scanning systems
- G02B26/12—Scanning systems using multifaceted mirrors
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 被走査面が光軸方向にシフトしても主走査方
向で複数の光ビームの間隔が変動することのないマルチ
ビーム光走査装置。 【解決手段】 発光部４１1 、４１2 から発生された複
数の光ビームを主走査方向において略平行光に整形する
整形光学系４２と、その複数の光ビームを反射偏向させ
る反射面４５を有する偏向器と、その反射面４５により
反射偏向された複数の光ビームを被走査面４８上に隣接
する複数の光ビームスポットとして走査させる走査光学
系４６とを備え、主走査方向における整形光学系４２の
焦点距離をｆ1 、走査光学系４６の焦点距離をｆ2 とす
るとき、整形光学系４２の後側主面から走査光学系４６
の前側主面までの距離をｆ1 ＋ｆ2 とし、複数の光ビー
ムを主走査方向で被走査面４８に対して相互に略平行に
入射させるようにした。
向で複数の光ビームの間隔が変動することのないマルチ
ビーム光走査装置。 【解決手段】 発光部４１1 、４１2 から発生された複
数の光ビームを主走査方向において略平行光に整形する
整形光学系４２と、その複数の光ビームを反射偏向させ
る反射面４５を有する偏向器と、その反射面４５により
反射偏向された複数の光ビームを被走査面４８上に隣接
する複数の光ビームスポットとして走査させる走査光学
系４６とを備え、主走査方向における整形光学系４２の
焦点距離をｆ1 、走査光学系４６の焦点距離をｆ2 とす
るとき、整形光学系４２の後側主面から走査光学系４６
の前側主面までの距離をｆ1 ＋ｆ2 とし、複数の光ビー
ムを主走査方向で被走査面４８に対して相互に略平行に
入射させるようにした。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光走査装置に関
し、特に、マルチビーム光走査装置に関するものであ
る。
し、特に、マルチビーム光走査装置に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、同一被走査面に複数の光ビームを
同時に入射させて走査を行うマルチビーム光走査装置に
おいて、複数の光ビームが副走査方向で相互に平行に被
走査面に入射するように光学系を配置して、被走査面で
のビーム間隔の変動等を防止したものが、特開平９−２
７４１５１号、特開平７−２０９５９６号において知ら
れている。
同時に入射させて走査を行うマルチビーム光走査装置に
おいて、複数の光ビームが副走査方向で相互に平行に被
走査面に入射するように光学系を配置して、被走査面で
のビーム間隔の変動等を防止したものが、特開平９−２
７４１５１号、特開平７−２０９５９６号において知ら
れている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、マルチ
ビーム光走査装置において、被走査面の位置が光軸方向
にシフトした場合に、複数の光ビームの間隔が主走査方
向でも変動してしまう。特に、図４に走査線と複数の光
ビームスポット位置を示したように、複数の光ビーム
（図の場合は４本の例を示す。）を走査線に対して斜め
方向に一次元配列する場合（図（ａ））や、二次元配列
する場合（図（ｂ））に、主走査方向で複数の光ビーム
の間隔が変動すると、例えば走査線に交差する方向の直
線がスムーズな直線でなくギザキザな線となってしまう
等の問題がある。
ビーム光走査装置において、被走査面の位置が光軸方向
にシフトした場合に、複数の光ビームの間隔が主走査方
向でも変動してしまう。特に、図４に走査線と複数の光
ビームスポット位置を示したように、複数の光ビーム
（図の場合は４本の例を示す。）を走査線に対して斜め
方向に一次元配列する場合（図（ａ））や、二次元配列
する場合（図（ｂ））に、主走査方向で複数の光ビーム
の間隔が変動すると、例えば走査線に交差する方向の直
線がスムーズな直線でなくギザキザな線となってしまう
等の問題がある。
【０００４】本発明は従来技術のこのような問題点に鑑
みてなされたものであり、その目的は、被走査面が光軸
方向にシフトしても主走査方向で複数の光ビームの間隔
が変動することのないマルチビーム光走査装置を提供す
ることである。
みてなされたものであり、その目的は、被走査面が光軸
方向にシフトしても主走査方向で複数の光ビームの間隔
が変動することのないマルチビーム光走査装置を提供す
ることである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明の光走査装置は、被走査面上で隣接する複数の光ビー
ムを主走査方向に偏向させ、かつ、主走査方向と直交す
る副走査方向に被走査面を相対的に移動させる光走査装
置において、前記の複数の光ビームを主走査方向で被走
査面に対して相互に略平行に入射させるように構成され
ていることを特徴とするものである。
明の光走査装置は、被走査面上で隣接する複数の光ビー
ムを主走査方向に偏向させ、かつ、主走査方向と直交す
る副走査方向に被走査面を相対的に移動させる光走査装
置において、前記の複数の光ビームを主走査方向で被走
査面に対して相互に略平行に入射させるように構成され
ていることを特徴とするものである。
【０００６】本発明のもう１つの光走査装置は、相互に
隣接した発光部から発生された複数の光ビームを少なく
とも主走査方向において略平行光に整形する整形光学系
と、前記複数の光ビームを反射偏向させる反射面を有す
る偏向器と、前記偏向器の反射面により反射偏向された
複数の光ビームを被走査面上に隣接する複数の光ビーム
スポットとして走査させる走査光学系とを備えた光走査
装置において、主走査方向において前記走査光学系の前
側焦点近傍で前記複数の光ビームが交差することを特徴
とするものである。
隣接した発光部から発生された複数の光ビームを少なく
とも主走査方向において略平行光に整形する整形光学系
と、前記複数の光ビームを反射偏向させる反射面を有す
る偏向器と、前記偏向器の反射面により反射偏向された
複数の光ビームを被走査面上に隣接する複数の光ビーム
スポットとして走査させる走査光学系とを備えた光走査
装置において、主走査方向において前記走査光学系の前
側焦点近傍で前記複数の光ビームが交差することを特徴
とするものである。
【０００７】本発明のさらにもう１つの光走査装置は、
相互に隣接した発光部から発生された複数の光ビームを
少なくとも主走査方向において略平行光に整形する整形
光学系と、前記複数の光ビームを反射偏向させる反射面
を有する偏向器と、前記偏向器の反射面により反射偏向
された複数の光ビームを被走査面上に隣接する複数の光
ビームスポットとして走査させる走査光学系とを備えた
光走査装置において、主走査方向における前記整形光学
系の焦点距離をｆ1 、前記走査光学系の焦点距離をｆ2
とするとき、前記整形光学系の後側主面から前記走査光
学系の前側主面までの距離をｆ1 ＋ｆ2 としたことを特
徴とするものである。
相互に隣接した発光部から発生された複数の光ビームを
少なくとも主走査方向において略平行光に整形する整形
光学系と、前記複数の光ビームを反射偏向させる反射面
を有する偏向器と、前記偏向器の反射面により反射偏向
された複数の光ビームを被走査面上に隣接する複数の光
ビームスポットとして走査させる走査光学系とを備えた
光走査装置において、主走査方向における前記整形光学
系の焦点距離をｆ1 、前記走査光学系の焦点距離をｆ2
とするとき、前記整形光学系の後側主面から前記走査光
学系の前側主面までの距離をｆ1 ＋ｆ2 としたことを特
徴とするものである。
【０００８】本発明のさらにもう１つの光走査装置は、
相互に隣接した発光部から発生された複数の光ビームを
少なくとも主走査方向において略平行光に整形する整形
光学系と、前記複数の光ビームを反射偏向させる反射面
を有する偏向器と、前記偏向器の反射面により反射偏向
された複数の光ビームを被走査面上に隣接する複数の光
ビームスポットとして走査させる走査光学系とを備えた
光走査装置において、主走査方向において前記整形光学
系と前記走査光学系とがアフォーカル光学系を構成して
いることを特徴とするものである。
相互に隣接した発光部から発生された複数の光ビームを
少なくとも主走査方向において略平行光に整形する整形
光学系と、前記複数の光ビームを反射偏向させる反射面
を有する偏向器と、前記偏向器の反射面により反射偏向
された複数の光ビームを被走査面上に隣接する複数の光
ビームスポットとして走査させる走査光学系とを備えた
光走査装置において、主走査方向において前記整形光学
系と前記走査光学系とがアフォーカル光学系を構成して
いることを特徴とするものである。
【０００９】これらにおいて、複数の光ビームを副走査
方向で被走査面に対して相互に略平行に入射させるよう
に構成されていることが望ましい。
方向で被走査面に対して相互に略平行に入射させるよう
に構成されていることが望ましい。
【００１０】本発明においては、複数の光ビームを主走
査方向で被走査面に対して相互に略平行に入射させるよ
うに構成されているので、被走査面が光軸方向にシフト
しても、主走査方向の複数の光ビームの間隔は変化せ
ず、例えば、複数の光ビームを走査線に対して斜め方向
に一次元配列する場合や二次元配列する場合にも、走査
線に交差する方向の線もスムーズな線として描画等され
ることになり、正確で安定した描画等が可能になる。
査方向で被走査面に対して相互に略平行に入射させるよ
うに構成されているので、被走査面が光軸方向にシフト
しても、主走査方向の複数の光ビームの間隔は変化せ
ず、例えば、複数の光ビームを走査線に対して斜め方向
に一次元配列する場合や二次元配列する場合にも、走査
線に交差する方向の線もスムーズな線として描画等され
ることになり、正確で安定した描画等が可能になる。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明の光走査装置を実施例に基
づいて説明する：図１はこの光走査装置の光学系を示す
斜視図であり、この光学系において、主走査方向Ｐに対
して斜め方向に並んだ４つの発光部（後で説明する図
２、図３では省いて２つの発光部４１1 、４１2 のみが
図示されている。）を有する半導体レーザー４１から射
出した４つの光ビームは、コリメータレンズ４２1 を経
てそれぞれ主走査方向Ｐ、副走査方向Ｓ共に平行な光ビ
ームに変換される。次いで、副走査方向Ｓにのみ正屈折
力を有するシリンドリカルレンズ４２2 でそれぞれ副走
査方向Ｓにのみ集光され、主走査面において平行な光ビ
ームとして、また、副走査面においては反射面４５近傍
に集光する光ビームとしてそれぞれ回転多面鏡４４の反
射面４５に入射する。その反射面４５で反射偏向された
それぞれの光ビームは、第１走査レンズ４６1 及び第２
走査レンズ４６2 により集光されて、被走査面４８上に
主走査方向Ｐに対して斜め方向に並んだ４個の光ビーム
スポットとして結像されて４本の走査線を形成する。こ
こで、第１走査レンズ４６1 は正屈折力を有する軸対称
なレンズであり、第２走査レンズ４６2 は主走査方向Ｐ
に長い長尺レンズであり、副走査方向Ｓにのみ正屈折力
を有し、主走査面内では屈折力を有さない。このような
構成の光学系では、副走査面において、反射面４５と被
走査面４８を共役関係にして、反射面４５近傍の集光点
を被走査面４８に結像する。また、主走査面において
は、反射面４５から反射された平行な光ビームを被走査
面４８に結像する（共役型面倒れ補正光学系を構成して
いる。）。
づいて説明する：図１はこの光走査装置の光学系を示す
斜視図であり、この光学系において、主走査方向Ｐに対
して斜め方向に並んだ４つの発光部（後で説明する図
２、図３では省いて２つの発光部４１1 、４１2 のみが
図示されている。）を有する半導体レーザー４１から射
出した４つの光ビームは、コリメータレンズ４２1 を経
てそれぞれ主走査方向Ｐ、副走査方向Ｓ共に平行な光ビ
ームに変換される。次いで、副走査方向Ｓにのみ正屈折
力を有するシリンドリカルレンズ４２2 でそれぞれ副走
査方向Ｓにのみ集光され、主走査面において平行な光ビ
ームとして、また、副走査面においては反射面４５近傍
に集光する光ビームとしてそれぞれ回転多面鏡４４の反
射面４５に入射する。その反射面４５で反射偏向された
それぞれの光ビームは、第１走査レンズ４６1 及び第２
走査レンズ４６2 により集光されて、被走査面４８上に
主走査方向Ｐに対して斜め方向に並んだ４個の光ビーム
スポットとして結像されて４本の走査線を形成する。こ
こで、第１走査レンズ４６1 は正屈折力を有する軸対称
なレンズであり、第２走査レンズ４６2 は主走査方向Ｐ
に長い長尺レンズであり、副走査方向Ｓにのみ正屈折力
を有し、主走査面内では屈折力を有さない。このような
構成の光学系では、副走査面において、反射面４５と被
走査面４８を共役関係にして、反射面４５近傍の集光点
を被走査面４８に結像する。また、主走査面において
は、反射面４５から反射された平行な光ビームを被走査
面４８に結像する（共役型面倒れ補正光学系を構成して
いる。）。
【００１２】図１の光学系の主走査方向の光路展開図を
図２に、副走査方向の光路展開図を図３に示す。ただ
し、図を簡単にするため、コリメータレンズ４２1 とシ
リンドリカルレンズ４２2 からなる光学系を整形光学系
４２とし、その整形光学系４２を主走査方向の焦点距離
と副走査方向の焦点距離が異なる単一のレンズとして図
示してあり、また、第１走査レンズ４６1 と第２走査レ
ンズ４６2 からなる光学系も走査光学系４６とし、その
走査光学系４６を主走査方向の焦点距離と副走査方向の
焦点距離が異なる単一のレンズとして図示してある。
図２に、副走査方向の光路展開図を図３に示す。ただ
し、図を簡単にするため、コリメータレンズ４２1 とシ
リンドリカルレンズ４２2 からなる光学系を整形光学系
４２とし、その整形光学系４２を主走査方向の焦点距離
と副走査方向の焦点距離が異なる単一のレンズとして図
示してあり、また、第１走査レンズ４６1 と第２走査レ
ンズ４６2 からなる光学系も走査光学系４６とし、その
走査光学系４６を主走査方向の焦点距離と副走査方向の
焦点距離が異なる単一のレンズとして図示してある。
【００１３】この光学系においては、主走査方向におい
て、図２に示すように、複数の発光部４１1 、４１2 を
有する半導体レーザー４１は、整形光学系４２の前側焦
点面に配置されており、整形光学系４２の主走査方向焦
点距離をｆ1 、走査光学系４６の主走査方向焦点距離を
ｆ2 とするとき、整形光学系４２の後側焦点と走査光学
系４６の前側焦点が一致するように、整形光学系４２と
走査光学系４６とは主点間距離がｆ1 ＋ｆ2 だけ離間し
て配置されており、被走査面４８は走査光学系４６の後
側焦点面に略一致して配置されている。
て、図２に示すように、複数の発光部４１1 、４１2 を
有する半導体レーザー４１は、整形光学系４２の前側焦
点面に配置されており、整形光学系４２の主走査方向焦
点距離をｆ1 、走査光学系４６の主走査方向焦点距離を
ｆ2 とするとき、整形光学系４２の後側焦点と走査光学
系４６の前側焦点が一致するように、整形光学系４２と
走査光学系４６とは主点間距離がｆ1 ＋ｆ2 だけ離間し
て配置されており、被走査面４８は走査光学系４６の後
側焦点面に略一致して配置されている。
【００１４】また、副走査方向においては、図３（ａ）
に示すように、複数の発光部４１1、４１2 を有する半
導体レーザー４１は、整形光学系４２の前側焦点より遠
方に配置されており、その半導体レーザー４１と回転多
面鏡４４の反射面４５とが整形光学系４２により共役関
係になっており、発光部４１1 、４１2 の像が反射面４
５近傍に結像される。また、走査光学系４６により、反
射面４５と被走査面４８とは共役関係になっており、発
光部４１1 、４１2 の二次像が被走査面４８上に結像さ
れる。
に示すように、複数の発光部４１1、４１2 を有する半
導体レーザー４１は、整形光学系４２の前側焦点より遠
方に配置されており、その半導体レーザー４１と回転多
面鏡４４の反射面４５とが整形光学系４２により共役関
係になっており、発光部４１1 、４１2 の像が反射面４
５近傍に結像される。また、走査光学系４６により、反
射面４５と被走査面４８とは共役関係になっており、発
光部４１1 、４１2 の二次像が被走査面４８上に結像さ
れる。
【００１５】このような配置であるので、主走査方向に
おいては、整形光学系４２と走査光学系４６はアフォー
カル光学系を構成しており、走査光学系４６の前側焦点
近傍で発光部４１1 、４１2 から出た複数の光ビームの
主光線が交差することになり、その複数の光ビームの主
光線が被走査面４８に対して略平行に入射する。そのた
め、回転多面鏡４４を図１の矢印の方向に回転させて複
数の光ビームを被走査面４８上で方向Ｐへ主走査させ、
被走査面４８を相対的方向Ｓへ副走査させる場合に、被
走査面４８が光軸方向にシフトしても、主走査方向の複
数の光ビームの間隔は変化せず、図４のように、複数の
光ビームを走査線に対して斜め方向に一次元配列する場
合や二次元配列する場合にも、走査線に交差する方向の
線もスムーズな線として描画される。
おいては、整形光学系４２と走査光学系４６はアフォー
カル光学系を構成しており、走査光学系４６の前側焦点
近傍で発光部４１1 、４１2 から出た複数の光ビームの
主光線が交差することになり、その複数の光ビームの主
光線が被走査面４８に対して略平行に入射する。そのた
め、回転多面鏡４４を図１の矢印の方向に回転させて複
数の光ビームを被走査面４８上で方向Ｐへ主走査させ、
被走査面４８を相対的方向Ｓへ副走査させる場合に、被
走査面４８が光軸方向にシフトしても、主走査方向の複
数の光ビームの間隔は変化せず、図４のように、複数の
光ビームを走査線に対して斜め方向に一次元配列する場
合や二次元配列する場合にも、走査線に交差する方向の
線もスムーズな線として描画される。
【００１６】なお、副走査方向においては、図３（ａ）
のような配置では、被走査面４８が光軸方向にシフトす
ると、副走査方向の複数の光ビームの間隔（走査線の間
隔）が変化するが、図３（ｂ）に示すように、整形光学
系４２と回転多面鏡４４の反射面４５との間に副走査方
向にのみ正パワーを有するリレーレンズ４３を配置し、
整形光学系４２とリレーレンズ４３とで半導体レーザー
４１と回転多面鏡４４の反射面４５とを共役関係にし
て、発光部４１1 、４１2 の像を反射面４５近傍に結像
するようにすると共に、走査光学系４６の前側焦点近傍
で複数の光ビームの主光線が交差するようにすることに
より、その複数の光ビームの主光線が副走査方向におい
ても被走査面４８に対して略平行に入射するようにする
ことができる。この場合には、被走査面４８が光軸方向
にシフトしても、副走査方向の複数の光ビームの間隔も
変化しなくなり、より正確で安定した描画等が可能にな
る。
のような配置では、被走査面４８が光軸方向にシフトす
ると、副走査方向の複数の光ビームの間隔（走査線の間
隔）が変化するが、図３（ｂ）に示すように、整形光学
系４２と回転多面鏡４４の反射面４５との間に副走査方
向にのみ正パワーを有するリレーレンズ４３を配置し、
整形光学系４２とリレーレンズ４３とで半導体レーザー
４１と回転多面鏡４４の反射面４５とを共役関係にし
て、発光部４１1 、４１2 の像を反射面４５近傍に結像
するようにすると共に、走査光学系４６の前側焦点近傍
で複数の光ビームの主光線が交差するようにすることに
より、その複数の光ビームの主光線が副走査方向におい
ても被走査面４８に対して略平行に入射するようにする
ことができる。この場合には、被走査面４８が光軸方向
にシフトしても、副走査方向の複数の光ビームの間隔も
変化しなくなり、より正確で安定した描画等が可能にな
る。
【００１７】以上、本発明の光走査装置を実施例に基づ
いて説明してきたが、本発明はこれら実施例に限定され
ず種々の変形が可能である。
いて説明してきたが、本発明はこれら実施例に限定され
ず種々の変形が可能である。
【００１８】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の光走査装置によると、複数の光ビームを主走査方向で
被走査面に対して相互に略平行に入射させるように構成
されているので、被走査面が光軸方向にシフトしても、
主走査方向の複数の光ビームの間隔は変化せず、例え
ば、複数の光ビームを走査線に対して斜め方向に一次元
配列する場合や二次元配列する場合にも、走査線に交差
する方向の線もスムーズな線として描画等されることに
なり、正確で安定した描画等が可能になる。
の光走査装置によると、複数の光ビームを主走査方向で
被走査面に対して相互に略平行に入射させるように構成
されているので、被走査面が光軸方向にシフトしても、
主走査方向の複数の光ビームの間隔は変化せず、例え
ば、複数の光ビームを走査線に対して斜め方向に一次元
配列する場合や二次元配列する場合にも、走査線に交差
する方向の線もスムーズな線として描画等されることに
なり、正確で安定した描画等が可能になる。
【図１】本発明の１実施例の光走査装置の光学系を示す
斜視図である。
斜視図である。
【図２】図１の光学系の主走査方向の光路展開図であ
る。
る。
【図３】図１の光学系の副走査方向の光路展開図であ
る。
る。
【図４】マルチビーム光走査装置における被走査面での
複数の光ビームの配置例を示す図である。
複数の光ビームの配置例を示す図である。
Ｐ…主走査方向 Ｓ…副走査方向 ４１…半導体レーザー ４１1 、４１2 …発光部 ４２…整形光学系 ４２1 …コリメータレンズ ４２2 …シリンドリカルレンズ ４３…リレーレンズ ４４…回転多面鏡 ４５…反射面 ４６…走査光学系 ４６1 …第１走査レンズ ４６2 …第２走査レンズ ４８…被走査面
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宗和 健 長野県諏訪市大和３丁目３番５号 セイコ ーエプソン株式会社内 Ｆターム(参考） 2C362 AA40 BA58 BA61 BA86 CB59 2H045 AA01 BA12 BA32 CA03 CB24 DA15 5C072 AA03 BA04 CA06 DA21 DA23 HA02 HA06 HA13 HB10 RA12
Claims (5)
- 【請求項１】 被走査面上で隣接する複数の光ビームを
主走査方向に偏向させ、かつ、主走査方向と直交する副
走査方向に被走査面を相対的に移動させる光走査装置に
おいて、前記の複数の光ビームを主走査方向で被走査面
に対して相互に略平行に入射させるように構成されてい
ることを特徴とする光走査装置。 - 【請求項２】 相互に隣接した発光部から発生された複
数の光ビームを少なくとも主走査方向において略平行光
に整形する整形光学系と、前記複数の光ビームを反射偏
向させる反射面を有する偏向器と、前記偏向器の反射面
により反射偏向された複数の光ビームを被走査面上に隣
接する複数の光ビームスポットとして走査させる走査光
学系とを備えた光走査装置において、 主走査方向において前記走査光学系の前側焦点近傍で前
記複数の光ビームが交差することを特徴とする光走査装
置。 - 【請求項３】 相互に隣接した発光部から発生された複
数の光ビームを少なくとも主走査方向において略平行光
に整形する整形光学系と、前記複数の光ビームを反射偏
向させる反射面を有する偏向器と、前記偏向器の反射面
により反射偏向された複数の光ビームを被走査面上に隣
接する複数の光ビームスポットとして走査させる走査光
学系とを備えた光走査装置において、 主走査方向における前記整形光学系の焦点距離をｆ1 、
前記走査光学系の焦点距離をｆ2 とするとき、前記整形
光学系の後側主面から前記走査光学系の前側主面までの
距離をｆ1 ＋ｆ2 としたことを特徴とする光走査装置。 - 【請求項４】 相互に隣接した発光部から発生された複
数の光ビームを少なくとも主走査方向において略平行光
に整形する整形光学系と、前記複数の光ビームを反射偏
向させる反射面を有する偏向器と、前記偏向器の反射面
により反射偏向された複数の光ビームを被走査面上に隣
接する複数の光ビームスポットとして走査させる走査光
学系とを備えた光走査装置において、 主走査方向において前記整形光学系と前記走査光学系と
がアフォーカル光学系を構成していることを特徴とする
光走査装置。 - 【請求項５】 前記の複数の光ビームを副走査方向で被
走査面に対して相互に略平行に入射させるように構成さ
れていることを特徴とする請求項１から４の何れか１項
記載の光走査装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11176404A JP2001004938A (ja) | 1999-06-23 | 1999-06-23 | 光走査装置 |
| US09/597,423 US6628443B1 (en) | 1999-06-23 | 2000-06-19 | Optical scanner |
| EP00113358A EP1063552A1 (en) | 1999-06-23 | 2000-06-23 | Optical scanner |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11176404A JP2001004938A (ja) | 1999-06-23 | 1999-06-23 | 光走査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001004938A true JP2001004938A (ja) | 2001-01-12 |
Family
ID=16013092
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11176404A Pending JP2001004938A (ja) | 1999-06-23 | 1999-06-23 | 光走査装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6628443B1 (ja) |
| EP (1) | EP1063552A1 (ja) |
| JP (1) | JP2001004938A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005049510A (ja) * | 2003-07-31 | 2005-02-24 | Toshiba Corp | 光走査装置 |
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| KR100452852B1 (ko) * | 2002-01-09 | 2004-10-14 | 삼성전자주식회사 | 확대 광학계 및 그것을 갖는 화상형성 장치 |
| CN101898325B (zh) * | 2010-07-28 | 2012-05-30 | 中国人民解放军国防科学技术大学 | 光学元件表面的修形加工方法及用于该方法的数控机床 |
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| US5512949A (en) | 1993-12-29 | 1996-04-30 | Xerox Corporation | Multiple beam raster output scanner optical system having telecentric chief exit rays |
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-
1999
- 1999-06-23 JP JP11176404A patent/JP2001004938A/ja active Pending
-
2000
- 2000-06-19 US US09/597,423 patent/US6628443B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-06-23 EP EP00113358A patent/EP1063552A1/en not_active Ceased
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005049510A (ja) * | 2003-07-31 | 2005-02-24 | Toshiba Corp | 光走査装置 |
| JP4522060B2 (ja) * | 2003-07-31 | 2010-08-11 | 株式会社東芝 | 光走査装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6628443B1 (en) | 2003-09-30 |
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