JP2006001757A - 誘電体セラミック組成物、セラミック焼結体及びセラミック多層基板 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 xBaO−y(Nd1-mMem)2O3−zTiO2(但し、Meはランタノイド元素であり、0.10≦x≦0.25、0.05≦y≦0.25、0.60≦z≦0.75、0≦m≦1)で表される誘電体セラミックス100重量部に対して、酸化ケイ素を30〜60モル%、酸化ホウ素を5〜30モル%、酸化バリウムを15〜50モル%、酸化ストロンチウムを1〜15モル%、及び酸化カルシウムを1〜10モル%含有するガラスを5重量部以上、45重量部以下の割合で含有し、さらに、酸化マンガンを1.5重量部超、3.0重量部以下の割合で含有する誘電体セラミック組成物。
【選択図】 なし
Description
試料番号1〜40の各セラミック多層基板において、(1)低温焼結性セラミック材料との接合性、(2)焼結性、(3)内蔵されているコンデンサの誘電率、(4)内蔵されているコンデンサの温度特性、(5)絶縁抵抗値、及び(6)信頼性評価を以下の要領で行った。
3〜7…セラミック層
8…セラミック層
9〜16…電極
17〜21…ビアホール電極
31…電子部品素子
32,33…導電性接合剤
41…セラミック多層基板
42…セラミック層
51…セラミック多層基板
52…第1の基板部分
53…第2の基板部分
54…第3の基板部分
55,56…内部電極
58,58a,58b…ビアホール電極
61〜63…電子部品素子
64…ケース
65,66…アース電極
C…コンデンサ
C1,C2…コンデンサ
Claims (7)
- xBaO−y(Nd1-mMem)2O3−zTiO2(但し、Meはランタノイド元素であり、x+y+z=1、0.10≦x≦0.25、0.05≦y≦0.25、0.60≦z≦0.75、0≦m≦1)で表される誘電体セラミックス100重量部に対して、酸化ケイ素をSiO2換算で30〜60モル%、酸化ホウ素をB2O3換算で5〜30モル%、酸化バリウムをBaO換算で15〜50モル%、酸化ストロンチウムをSrO換算で1〜15モル%、及び酸化カルシウムをCaO換算で1〜10モル%含有するガラスを5重量部以上、45重量部以下の割合で含有し、さらに、酸化マンガンをMnO換算で1.5重量部超、3.0重量部以下の割合で含有する、誘電体セラミック組成物。
- 前記誘電体セラミックスは、焼成後に主結晶相として、BaNd2Ti4O12を有する誘電体セラミックスである、請求項1に記載の誘電体セラミック組成物。
- 請求項1に記載の誘電体セラミック組成物を、1000℃以下で焼成してなる、セラミック焼結体。
- 請求項1に記載の誘電体セラミック組成物を、1000℃以下で焼成してなるセラミック層を有する、セラミック多層基板。
- 前記セラミック層が該セラミック層よりも誘電率が低い一対の低誘電率セラミック層の間に設けられており、かつ該低誘電率セラミック層と同時焼成により得られている、請求項4に記載のセラミック多層基板。
- 前記一対の低誘電率セラミック層の間に設けられた前記セラミック層を挟み込むように2つの電極パターンが設けられてコンデンサが形成されている、請求項5に記載のセラミック多層基板。
- 前記電極パターンが銅を主成分とする、請求項6に記載のセラミック多層基板。
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2004
- 2004-06-15 JP JP2004177194A patent/JP2006001757A/ja active Pending
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