JP2005533391A5 - - Google Patents

Claims (16)

1. プラズマ注入システムであって、
   プラズマ注入チェンバー内で、イオンをワークピースに注入することができる少なくとも一つの注入位置と、イオンをワークピースに注入することができない少なくとの一つの他の位置との間で、複数のワークピースのそれぞれを移動させるワークピース支持体と、
   ワークピースの少なくとも一部にイオンを注入するために、注入位置にあるワークピースの表面またはその近くにプラズマを発生させるように構成されるプラズマ発生装置と、
   少なくとも一つの注入位置と少なくとも一つの他の位置との間で、複数のワークピースをプラズマ注入チェンバー内で移動させる制御器と、
   を含み、
   制御器は、注入処理の間、プラズマ発生装置に、ワークピースが注入位置にきたとき各ワークピースにプラズマを発生させ、イオンを注入させる、ところのプラズマ注入システム。
2. 制御器は、プラズマ注入チェンバーで、ワークピース支持体の少なくとも一部を移動させるワークピース駆動制御器を含む、請求項１に記載のプラズマ注入システム。
3. 制御器は、処理ガスの導入を制御し、プラズマ注入チェンバーでの注入プラズマの発生を制御するプラズマ注入制御器を含む、請求項１または２に記載のプラズマ注入システム。
4. ワークピース支持体は、プラズマ注入チェンバー内で回転のために取り付けられる、複数のワークピースを支持するように構成されるディスクを含む、請求項１ないし３のいずれかに記載のプラズマ注入システム。
5. ディスクは複数のワークピースを、ディスクの上に円形に配列して支持する、請求項４に記載のプラズマ注入システム。
6. ワークピース支持体は、プラズマ発生装置がプラズマを発生させる領域に関して、弧状の軌道にそって、ワークピースを移動させる、請求項４に記載のプラズマ注入システム。
7. ワークピース支持体は、ディスクの回転に関して、放射方向に複数のワークピースを移動せるように構成される、請求項４ないし６のいずれかに記載のプラズマ注入システム。
8. プラズマ発生装置は、注入位置にあるワークピースの一部のみに、イオンを注入するのに適したプラズマを発生させるように構成される、請求項１ないし７のいずれかに記載のプラズマ注入システム。
9. ワークピース支持体は、各ワークピースを注入のためのプラズマに周期的に配置させるように構成され、プラズマ発生装置は、プラズマのイオンを加速し、ワークピースに衝突させるために、パルスをプラズマに適用するよう構成され、プラズマに適用されるパルスのレートが、ワークピース支持体が、各ワークピースを注入のためのプラズマに配置させるためのレートよりも高い、請求項１ないし８のいずれかに記載のプラズマ注入システム。
10. 複数のワークピースは、複数のワークピースにプラズマからのイオンを注入するために、プラズマが発生する領域に連続して配置される、請求項１ないし９のいずれかに記載のプラズマ注入システム。
11. イオンをワークピースに注入する注入方法であって、
    複数のワークピースをプラズマ注入チェンバーに供給する工程と、
    複数のワークピースをプラズマ注入チェンバー内で移動させる工程と、
    複数のワークピースの少なくともひとつをプラズマ注入チェンバーで移動させる間、複数のワークピースの少なくともひとつの表面、またはその近くにあるプラズマからのイオンを、複数のワークピースの少なくともひとつに注入する工程と、
    を含む、注入方法。
12. 複数のワークピースを移動させる工程は、プラズマ注入チェンバで複数のワークピースを円形経路にそって移動させる工程を含む、請求項１１に記載の注入方法。
13. 回転の軸線が複数のワークピースのどのひとつにも通過しない、請求項１２に記載の注入方法。
14. イオン注入工程は、イオンが注入されるワークピースのそれぞれの粒子注入領域よりも小さいプラズマ放電領域に、プラズマを発生させる工程を含む、請求項１１に記載の注入方法。
15. 複数のワークピースを移動せる工程は、複数のワークピースのそれぞれを、粒子注入のためのプラズマに周期的に位置させる工程を含み、イオン注入工程は、複数のワークピースのそれぞれが粒子注入のためのプラズマに位置するレートを超えるレートをもつ電場で、プラズマをパルス化する工程を含む、請求項１１に記載の注入方法。
16. 複数のワークピースを移動させる工程は、複数のワークピースに与えられるドーズ量の一様性または全ドーズ量における変化を調節するために、複数のワークピースの速度を調節する工程を含む、請求項１１に記載の注入方法。