JP2009279046A - 粒子線治療システム - Google Patents
粒子線治療システム Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009279046A JP2009279046A JP2008131465A JP2008131465A JP2009279046A JP 2009279046 A JP2009279046 A JP 2009279046A JP 2008131465 A JP2008131465 A JP 2008131465A JP 2008131465 A JP2008131465 A JP 2008131465A JP 2009279046 A JP2009279046 A JP 2009279046A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- particle beam
- charged particle
- irradiation
- electromagnet
- breaking
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Radiation-Therapy Devices (AREA)
Abstract
本発明の目的は、スポットスキャニング法による粒子線治療に好適な照射ビームが得られ、小型で安価かつ調整容易な粒子線治療システムを提供することにある。
【解決手段】
粒子線治療システム100は、シンクロトロン200と、ビーム輸送系300と、照射装置500から構成され、ビーム輸送系300に設置され照射装置500への荷電粒子ビームの供給を遮断するビーム遮断装置700が、ビーム輸送系300を構成する偏向電磁石31の入口側に設置された2つの異なる応答速度の遮断電磁石33,34とその励磁電源33Aと34A、および出口側に設置されたビームダンプ35から構成される。制御装置600は励磁電源33Aと34Aを制御して遮断電磁石33,34の動作タイミングを調整する。
【選択図】図7
Description
以下、図1〜図6を用いて、本発明の第1の実施形態による粒子線治療システムの構成及び動作について説明する。最初に、図1〜図3を用いて、本実施形態による粒子線治療システムの全体構成及び粒子線ビームの照射原理について説明する。図1は、本発明の第1の実施形態による粒子線治療システムの構成を示すシステム構成図である。
次に、本発明の第2の実施形態による粒子線治療システムの構成について説明する。図7は、本実施形態による粒子線治療システムの全体構成を示すシステム構成図である。ここでは、第1の実施形態のシステム構成と相違する部分のみ説明する。
次に、本発明の第3の実施形態による粒子線治療システムの構成と運転方法について説明する。図9は、本実施形態による粒子線治療システムの全体構成を示すシステム構成図である。ここでは、第1の実施形態のシステム構成や運転方法と相違する部分のみを説明する。
次に、本発明の第4の実施形態による粒子線治療システムの構成について説明する。図11は、本実施形態による粒子線治療システムの全体構成を示すシステム構成図である。本実施形態では、第3の実施形態と同様に、荷電粒子ビームを加速する加速器としてサイクロトロン800を用いており、また、第2の実施形態と同様に、ビーム遮断装置700としてビーム輸送系300の偏向電磁石31の入口側に2台の遮断電磁石33と34、出口側にビームダンプ35を配置する構成である。
最後に、本発明の第5の実施形態による粒子線治療システムの構成について説明する。図13は本実施形態による粒子線治療システムの全体構成を示すシステム構成図である。他実施形態と異なり本実施形態では、2台の遮断電磁石のうち1台をビーム輸送系300の偏向電磁石31の入口側に、もう一台をビーム輸送系300の直線部に配置している。図13では高速遮断電磁石33を直線部に配置しているが逆でもよい。また、本実施形態では、加速器としてサイクロトロン800を用いているが、シンクロトロン200であってもよい。
21,31,83 偏向電磁石
22,32 収束/発散型四極電磁石
23 六極電磁石
24 入射装置
25,82 加速空胴
26 出射装置
26A,33A,34A,81A,500A 電源
27,84 出射偏向装置
33 高速遮断電磁石
34 低速遮断電磁石
35 ビームダンプ
41 患者
42 患部
51 走査電磁石
52 ビームモニタ
71 磁性体コア
72 ビームダクト
73 励磁コイル
74 入力部
75 変圧・整流部
76 パルス整形部
77 制御部
78 出力部
79 パターン整形・出力部
81 イオン源
100 粒子線治療システム
200 シンクロトロン
300 ビーム輸送系
400 治療室
500 照射装置
600 制御装置
700 ビーム遮断装置
800 サイクロトロン
Claims (5)
- 荷電粒子ビームを所定のエネルギーまで加速し出射する加速装置と、
前記荷電粒子ビームを照射対象に出射する照射装置と、
前記加速装置から出射された前記荷電粒子ビームを前記照射装置に導くビーム輸送系と、
前記ビーム輸送系に設置され、前記照射装置への荷電粒子ビームの供給を遮断するビーム遮断装置とを備え、
前記ビーム遮断装置は、
前記ビーム輸送系を通過する前記荷電粒子ビームを偏向する第1遮断電磁石と、
前記第1遮断電磁石と応答速度が異なる第2の遮断電磁石を有することを特徴とする粒子線治療システム。 - 荷電粒子ビームを所定のエネルギーまで加速し出射する加速装置と、
前記荷電粒子ビームを照射対象に出射する照射装置と、
前記加速装置から出射された前記荷電粒子ビームを前記照射装置に導くビーム輸送系と、
前記ビーム輸送系に設置され、前記照射装置への荷電粒子ビームの供給を遮断するビーム遮断装置とを備え、
前記ビーム遮断装置は、
前記荷電粒子ビームの入口側に設置される応答速度の異なる複数の遮断電磁石と、
前記荷電粒子ビームの出口側に設置されるビームダンプを備えることを特徴とする粒子線治療システム。 - 前記ビーム遮断装置は、前記遮断電磁石により荷電粒子ビームを偏向し、偏向された前記荷電粒子ビームを前記ビームダンプで消滅させることを特徴とする請求項2に記載の粒子線治療システム。
- 前記第1遮断電磁石と前記第2遮断電磁石は、実質的に逆極性の2極磁場成分を生成し、前記ビーム輸送系に導かれた前記荷電粒子ビームを偏向することを特徴とする請求項1に記載の粒子線治療システム。
- 前記ビーム遮断装置は、
前記第2遮断電磁石を励磁して荷電粒子ビームを偏向し、偏向した前記荷電粒子ビームを前記照射装置へ供給し、
前記第2遮断電磁石への励磁を停止し、前記第2遮断電磁石よりも励磁速度がはやい前記第1遮断電磁石を励磁することで前記照射装置への前記荷電粒子ビームの供給を遮断することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の粒子線治療システム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008131465A JP5111233B2 (ja) | 2008-05-20 | 2008-05-20 | 粒子線治療システム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008131465A JP5111233B2 (ja) | 2008-05-20 | 2008-05-20 | 粒子線治療システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009279046A true JP2009279046A (ja) | 2009-12-03 |
JP5111233B2 JP5111233B2 (ja) | 2013-01-09 |
Family
ID=41450166
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008131465A Active JP5111233B2 (ja) | 2008-05-20 | 2008-05-20 | 粒子線治療システム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5111233B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011099448A1 (ja) * | 2010-02-10 | 2011-08-18 | 株式会社東芝 | 粒子線ビーム照射装置及びその制御方法 |
JP2017083466A (ja) * | 2012-01-31 | 2017-05-18 | エイチアイエル アプライド メディカル リミテッド | レーザ駆動イオンビームのレーザ作動磁場操作 |
CN109464750A (zh) * | 2017-09-07 | 2019-03-15 | 南京中硼联康医疗科技有限公司 | 中子捕获治疗系统 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07191169A (ja) * | 1993-12-24 | 1995-07-28 | Toshiba Corp | イオン偏向磁石及びイオン偏向方法 |
JPH07335398A (ja) * | 1994-06-14 | 1995-12-22 | Power Reactor & Nuclear Fuel Dev Corp | 荷電粒子ビームダンプ装置 |
JPH10270200A (ja) * | 1997-03-27 | 1998-10-09 | Mitsubishi Electric Corp | 出射ビーム強度制御装置及び制御方法 |
JP2004121654A (ja) * | 2002-10-04 | 2004-04-22 | Hitachi Ltd | 医療用荷電粒子照射装置 |
JP2005332794A (ja) * | 2004-04-19 | 2005-12-02 | Mitsubishi Electric Corp | 荷電粒子ビーム加速器、荷電粒子ビーム加速器を用いた粒子線照射医療システムおよび、粒子線照射医療システムの運転方法 |
-
2008
- 2008-05-20 JP JP2008131465A patent/JP5111233B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07191169A (ja) * | 1993-12-24 | 1995-07-28 | Toshiba Corp | イオン偏向磁石及びイオン偏向方法 |
JPH07335398A (ja) * | 1994-06-14 | 1995-12-22 | Power Reactor & Nuclear Fuel Dev Corp | 荷電粒子ビームダンプ装置 |
JPH10270200A (ja) * | 1997-03-27 | 1998-10-09 | Mitsubishi Electric Corp | 出射ビーム強度制御装置及び制御方法 |
JP2004121654A (ja) * | 2002-10-04 | 2004-04-22 | Hitachi Ltd | 医療用荷電粒子照射装置 |
JP2005332794A (ja) * | 2004-04-19 | 2005-12-02 | Mitsubishi Electric Corp | 荷電粒子ビーム加速器、荷電粒子ビーム加速器を用いた粒子線照射医療システムおよび、粒子線照射医療システムの運転方法 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011099448A1 (ja) * | 2010-02-10 | 2011-08-18 | 株式会社東芝 | 粒子線ビーム照射装置及びその制御方法 |
JP2011161055A (ja) * | 2010-02-10 | 2011-08-25 | Toshiba Corp | 粒子線ビーム照射装置及びその制御方法 |
US8552408B2 (en) | 2010-02-10 | 2013-10-08 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Particle beam irradiation apparatus and control method of the particle beam irradiation apparatus |
JP2017083466A (ja) * | 2012-01-31 | 2017-05-18 | エイチアイエル アプライド メディカル リミテッド | レーザ駆動イオンビームのレーザ作動磁場操作 |
CN109464750A (zh) * | 2017-09-07 | 2019-03-15 | 南京中硼联康医疗科技有限公司 | 中子捕获治疗系统 |
CN109464750B (zh) * | 2017-09-07 | 2024-01-12 | 南京中硼联康医疗科技有限公司 | 中子捕获治疗系统 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5111233B2 (ja) | 2013-01-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4691576B2 (ja) | 粒子線治療システム | |
JP4339904B2 (ja) | 粒子線治療システム | |
JP4988516B2 (ja) | 粒子線治療システム | |
JP4257741B2 (ja) | 荷電粒子ビーム加速器、荷電粒子ビーム加速器を用いた粒子線照射医療システムおよび、粒子線照射医療システムの運転方法 | |
JP5978125B2 (ja) | 粒子線治療システム | |
US10090132B2 (en) | Charged particle beam irradiation apparatus | |
JP4982535B2 (ja) | 粒子線治療システム | |
JP4633002B2 (ja) | 荷電粒子ビーム加速器のビーム出射制御方法及び荷電粒子ビーム加速器を用いた粒子ビーム照射システム | |
JP6169254B2 (ja) | 円形加速器、円形加速器の運転方法、および粒子線治療装置 | |
JP6200368B2 (ja) | 荷電粒子照射システムおよび荷電粒子ビーム照射システムの制御方法 | |
JP2010238463A (ja) | 荷電粒子ビーム照射装置 | |
JP6243263B2 (ja) | 荷電粒子線治療装置 | |
JP5111233B2 (ja) | 粒子線治療システム | |
JP5998089B2 (ja) | 粒子線照射システムとその運転方法 | |
JP5781421B2 (ja) | 粒子線治療システム | |
JP6686068B2 (ja) | 円形加速器及び重粒子線治療装置 | |
US9210793B2 (en) | Charged particle beam radiation control device and charged particle beam radiation method | |
JP2018094147A (ja) | 荷電粒子線治療装置 | |
JP6640997B2 (ja) | 粒子線治療装置 | |
JP6342140B2 (ja) | 重粒子線治療装置及びシンクロトロン加速器 | |
JP2011076819A (ja) | 環状加速器及びそれを用いた粒子線治療システム | |
JP2014079300A (ja) | 荷電粒子ビーム照射システム | |
JP2016207663A (ja) | 粒子線照射システムとその運転方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100506 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120608 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120612 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120810 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120911 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121009 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151019 Year of fee payment: 3 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5111233 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151019 Year of fee payment: 3 |