JP2005520792A5

JP2005520792A5 -

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Publication number: JP2005520792A5
Application number: JP2003545648A
Authority: JP
Filing date: 2002-11-14
Publication date: 2006-01-12

Claims

式Ｖ：

［式中、Ｒ₁は、有機置換基であり、
Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄およびＲ₅は、それぞれ、互いに独立して、水素、またはその基に属する炭素原子もしくはヘテロ原子によって結合された無機もしくは有機置換基であるか、あるいはこれらの基の単数もしくは複数の対が、炭素原子および／またはヘテロ原子によって結合された架橋を形成してもよい］
で示されるピロールの製造方法であって、
式IIａ：

［式中、Ｒ₁は、式Ｖの化合物について定義されたとおりであり、
Ｒ^xは、非置換もしくは置換アルキル、非置換もしくは置換アリール、非置換もしくは置換アルコキシ、または非置換もしくは置換アリールオキシである］
で示されるイミノホスホランを、式III：

［式中、基Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄およびＲ₅は、式Ｖの化合物について定義されたとおりである］
で示されるジオキソ化合物と、酸の存在下で反応させて、
必要ならば、出発材料中の官能基を保護された形態とし、必要ならば、保護されたいかなる基も適切な段階で除去する方法。
Ｒ₁が、低級アルキル、または特に下位式ＩＡもしくは下位式ＩＢ：

［式中、Ｒ_a'およびＲ_c'は、それぞれ、互いに独立して、水素もしくはヒドロキシル保護基であるか、またはＲ_a'およびＲ_c'は、一緒になって、架橋性ヒドロキシル保護基であり；Ｒ_b'（式ＩＡにのみ存在する）は、カルボキシル保護基である］
で示される基であり、
Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄およびＲ₅が、それぞれ、水素、低級アルキル、低級アルコキシカルボニル、フェニルアミノカルボニル、フェニル、ナフチルおよびフルオロフェニルから互いに独立して選ばれ、
式IIａのイミノホスホラン中のＲ^xが、好ましくは、低級アルキルまたはフェニルであって、
適切に置換された出発材料を用いる、式Ｖのピロールを製造するための請求項１に記載の方法。
式IIａ：

［式中、Ｒ₁は、下位式ＩＡ：

（式中、Ｒ_a'およびＲ_c'は、それぞれ、互いに独立して、水素またはヒドロキシル保護基であるか、あるいはＲ_a'およびＲ_c'は、一緒になって、架橋性ヒドロキシル保護基であり；Ｒ_b'は、カルボキシル保護基である）
で示される基であり；
Ｒ^xは、非置換もしくは置換アルキル、非置換もしくは置換アリール、非置換もしくは置換アルコキシ、または非置換もしくは置換アリールオキシである］
で示されるイミノホスホラン。
請求項１〜３のいずれか一項に記載の製造方法を包含する、アトルバスタチンの製造方法であって、式Ｖのピロールにおいて、
Ｒ₁が、請求項４に示されたとおりの式ＩＡ［Ｒ_a'およびＲ_c'は、それぞれ、互いに独立して、水素もしくはヒドロキシル保護基であるか、またはＲ_a'およびＲ_c'は、一緒になって、架橋性ヒドロキシル保護基であり；Ｒ_b'は、カルボキシル保護基である］の基であり、
Ｒ₂が、イソプロピルであり、
Ｒ₃が、フェニルアミノカルボニルであり、
Ｒ₄が、フェニルであり、
Ｒ₅が、４−フルオロフェニルであって、
適切に置換された出発材料を用い、必要ならば、保護基の除去および／またはラクトン環の開裂を含む方法。