JP2005515299A - 帯状の材料を被覆するための真空被覆設備 - Google Patents

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ヘヒト・ハンス−クリスティアン
シュトゥデント・ハンス−ヨッヘン
ウンゲンツ・ペーター
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フオン・アルデンネ・アンラーゲンテヒニク・ゲゼルシヤフト・ミト・ベシユレンクテル・ハフツング
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    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010519417A (ja) * 2007-02-26 2010-06-03 ライボルト オプティクス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 帯材状の基板を真空処理するための処理装置
JP2013539157A (ja) * 2010-07-21 2013-10-17 シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト 基板上に超電導層を形成するための方法及び装置

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102004006131B4 (de) 2004-02-07 2005-12-15 Applied Films Gmbh & Co. Kg Bandbeschichtungsanlage mit einer Vakuumkammer und einer Beschichtungswalze
CN1842614A (zh) * 2004-05-25 2006-10-04 应用薄膜有限责任与两合公司 条带处理设备
ES2336870B1 (es) 2007-08-20 2011-02-18 Novogenio, S.L. Sistema y procedimiento para el recubrimiento en vacio y en continuo de un material en forma de banda.
DE102010040077B4 (de) 2010-08-31 2014-09-11 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Vakuumbehandlungsverfahren und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
DE102011015875A1 (de) 2011-04-04 2012-10-04 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Transportvorrichtung für bandförmige Substrate in einer Vakuumanlage
JP5831759B2 (ja) * 2011-04-28 2015-12-09 日東電工株式会社 真空成膜方法、及び該方法によって得られる積層体
JP5930791B2 (ja) 2011-04-28 2016-06-08 日東電工株式会社 真空成膜方法、及び該方法によって得られる積層体
DE102013107690B4 (de) 2013-06-21 2017-12-28 Von Ardenne Gmbh Bandsubstratbehandlungsanlage
DE102013112067B4 (de) 2013-11-01 2018-01-04 Von Ardenne Gmbh Bandsubstratbehandlungsanlage
DE202014102847U1 (de) 2014-06-23 2014-07-14 Von Ardenne Gmbh Bandsubstrat-Vakuumbeschichtungsanlage
DE102014113036A1 (de) 2014-09-10 2015-08-20 Von Ardenne Gmbh Anordnung und Verfahren zur Beschichtung eines bandförmigen Substrats
DE102014115386B4 (de) 2014-10-22 2018-08-23 VON ARDENNE Asset GmbH & Co. KG Vakuum-Substratbehandlungsanlage
DE102015114187B4 (de) 2015-08-26 2018-10-11 Solayer Gmbh Durchlauf-Folienbehandlungsanlage vertikal ausgerichteter Substrate

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1078402B (de) * 1956-12-06 1960-03-24 Heraeus Gmbh W C Vorrichtung zum Vakuumbedampfen von Baendern
DE19735603C1 (de) * 1997-08-15 1998-11-19 Ardenne Anlagentech Gmbh Vakuumbeschichtungsanlage für Mehrschichtsysteme

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010519417A (ja) * 2007-02-26 2010-06-03 ライボルト オプティクス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 帯材状の基板を真空処理するための処理装置
US9297065B2 (en) 2007-02-26 2016-03-29 Leybold Optics Gmbh Vacuum treatment of strip-shaped substrates
JP2013539157A (ja) * 2010-07-21 2013-10-17 シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト 基板上に超電導層を形成するための方法及び装置

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