KR20090128428A

KR20090128428A - 스트립 형태 기판의 진공 처리 장치

Info

Publication number: KR20090128428A
Application number: KR1020097020074A
Authority: KR
Inventors: 볼프강 프가레크; 본스초 본스츄
Original assignee: 레이볼드 압틱스 게엠베하
Priority date: 2007-02-26
Filing date: 2008-02-26
Publication date: 2009-12-15
Also published as: CN101627147A; US20100215848A1; US9297065B2; JP2010519417A; DE102007009615A1; EP2176442A1; WO2008104362A1; TWI405866B; EP2176442B1; JP5312351B2; CN101627147B; TW200907102A

Abstract

제1 공정 롤러와 하나 이상의 공정 소스를 구비한 제1 공정 챔버, 및 제2 공정 롤러와 하나 이상의 공정 소스를 구비한 제2 공정 챔버에서 스트립 형태 기판의 전면부의 하나 이상의 영역에 대한 진공 처리용 특히, 진공 코팅용 처리 장치에 있어서, 상기 제1 및 제2 공정 챔버 사이에 배치된 이송 챔버를 포함하며, 상기 이송 챔버는 상기 제1 및 제2 공정 챔버 둘다와 접속되고, 상기 제1 및 제2 공정 챔버중 하나 이상의 공정 챔버, 처리될 기판을 위한 탈착식 권출 릴을 구비한 권출 장치, 탈착식 권취 릴을 구비한 권취 장치, 및 상기 권출 릴 및/또는 권취 릴을 로딩 및 언로딩하기 위한 외측 에어 락(air lock)과 압력에 있어서 분리될 수 있다. 처리될 상기 기판은 상기 제1 공정 롤러 및 상기 제2 공정 롤러 방향으로 기판의 후면부가 대향하고, 상기 권출 장치로부터 상기 제1 공정 롤러로, 상기 제1 공정 롤러로부터 상기 제2 공정 롤러로, 상기 제2 공정 롤러로부터 상기 권취 장치로 상기 이송 챔버를 통하여 가이드 될 수 있다. 본 발명은 또한, 처리 장치를 작동하기 위한 방법에 관한 것이다.

공정 챔버, 공정 소스, 스트립 형태 기판, 권취 장치, 권출 장치, 공정 롤러, 이송 챔버.

Description

스트립 형태 기판의 진공 처리 장치{VACUUM TREATMENT OF STRIP-SHAPED SUBSTRATES}

본 발명은, 제1 공정 챔버, 공정 롤러, 하나 이상의 공정 소스, 및 공정 롤러와 하나 이상의 공정 소스를 구비한 제2 공정 챔버를 포함하는 스트립 형태 기판의 전면부의 진공 처리, 특히 진공 코팅용 처리 장치에 관한 것이다.

스트립 형태 기판은, 예를 들어, 코팅을 위해 공정 소스에 노출되는 금속 스트립, 자기 테이프, 필름, 플라스틱 시트 등이 될 수 있다. 스퍼터(sputter) 소스, 특히 마그네트론(magnetron) 스퍼터 소스, 증기 코팅, 플라즈마, 물리적 기상 증착 또는 화학적 기상 증착 소스(PVD 또는 CVD 소스)가 보통 공정 소스로써 사용된다. 게다가, 이러한 소스들은 또한, 코팅될 기판의 전처리, 세정, 건조, 표면 활성화 및/또는 중합(polymerization)에 사용될 수 있다. 공정 소스를 구비한 두 개의 공정 챔버의 사용은 단지 하나의 공정 챔버를 구비한 장치와 비교하여 장치의 처리량을 증가시킨다.

DE 101 571 86 C1에는 공정 챔버에서 스트립 형태의 코팅 재료용 진공 코팅 장치가 기재되어 있고, 코팅될 스트립 형태의 재료용으로 삽입되는 권출 릴(reel)을 구비한 권출 장치는 제1 진공 가능한 릴 챔버(evacuable reel chamber)에 배치 되고, 코팅될 재료용으로 교체 가능한 권취 릴을 구비한 권취 장치는 제2 진공 가능한 릴 챔버에 배치된다. 코팅될 스트립 형태 재료는, 스트립 형태 기판용 다수의 편향 롤러(deflecting roller)를 구비한 가이드 장치를 포함하는 두 개의 공정 챔버를 통하여 이동한다.

JP 00063206470 AA는, 두 개의 공정 롤러가 스트립의 양쪽 면이 교대로 코팅될 수 있는 그러한 방식으로 배치되는 경우에 대하여, 두 개의 공정 챔버 및 두 개의 공정 롤러를 포함하는 스트립 코팅 장치에 대하여 이미 개시하고 있다.

JP 00063206470 AA에는, 또한, 공정 챔버의 외측에 배치되는 권취 및 권출 롤러를 포함하는, 강철 스트립(steel strip)의 한 쪽의 기상 증착용 장치가 기재되어 있다. 권취 및 권출 장치는 에어 락(air lock)을 통하여 공정 챔버에 연결된다.

또한, DE 10 2005 042762 A1에는, 진공 챔버의 내부는 격벽에 의해서 롤러 챔버 및 코팅 챔버로 분리되는 스트립 코팅 장치에 대하여 기재되어 있다. 권취 및 권출 롤러도 마찬가지로 진공 챔버에 위치한다.

WO 2005/116289에는 추가 스트립 처리 장치에 대해서 기재되어 있고, 권출 및 권취 릴의 변경은 전체 장치 또는 진공 처리부에 배출구를 만드는 것 없이 가능하다. 이러한 목적을 위하여, 와인딩 스테이션(winding station) 및 처리 스테이션은 서로에 관하여 움직일 수 있는 별개의 베이스 안 또는 베이스 상에 위치된다. 처리 스테이션의 베이스는 장치 하우징의 고정된 부분이고, 작동 상태에서 처리 스테이션의 베이스는 또한 와인딩 스테이션을 둘러싼다. 와인딩 스테이션의 베이스는 공통 베이스를 둘러싸는 프레임워크에 배치되고, 처리 모듈을 향하여 개방되고, 장 치 하우징에 대하여 움직일 수 있고, 밸브에 의하여 실제 처리 스테이션에 대하여 밀봉될 수 있다. 외측으로부터, 와인딩 스테이션은 동작 중에 단단히 닫힐 수 있는 장치 하우징의 이격된 개구를 통하여 접근할 수 있다.

공지된 방법의 경우에는, 스트립 형태 기판은 처리 스테이션과 와인딩 스테이션 사이에서 기판의 전면부를 접촉하는 편향 롤러를 통하여 가이드 된다.

얇은 필름 태양 전지의 생산을 위해서, 예를 들면, 투명 산화 아연(zinc-oxide) 윈도우 층을 가지는 구리-인듐-셀레나이트(CIS)를 기반으로, 스트립 형태 기판의 한쪽 코팅은 PVD 또는 CVD 공정을 통해서 수행된다. 한쪽 면의 코팅 동안에, 코팅이 전면부 상에서 행하여지는 경우에는 스트립 형태 기판은 단지 후면부만 접촉된다. 기판의 전면부 접촉을 최소화하거나 완전히 피하는 것이 다른 공정의 경우에서도 또한 필요할 수 있다. 전면부 상에서 기판을 접촉하는 통상적인 스트립 평향 롤러 없는 처리 장치가 요구된다.

본 발명의 목적은 기판을 가이드하기 위해 기판의 전면부와 접촉할 필요가 없는, 스트립 형태 기판의 진공 처리 특히, 진공 코팅을 위한 처리 장치 및 진공 처리 방법을 제공하는 것이다.

독립항의 특징에 의하여 본 발명에 따른 목적이 달성된다.

제1 공정 롤러와 하나 이상의 공정 소스를 구비한 제1 공정 챔버 및 제2 공정 롤러와 하나 이상의 공정 소스를 구비한 제2 공정 챔버에서 스트립 형태 기판의 전면부에 하나 이상의 영역에 대한 진공 처리용 특히, 진공 코팅용 처리 장치의 경우에 있어서, 본 발명에 따라서 다음 내용이 제공된다. 제1 및 제2 공정 챔버 사이에 배치되어 이송 챔버가 공정 챔버 둘다에 접속되고, 압력에 있어서, 상기 제1 및 제2 공정 챔버 중 적어도 하나와 분리될 수 있고, 또한, 처리될 기판을 위한 착탈식 권출 릴을 구비한 권출 장치, 착탈식 권취 릴을 구비한 권취 장치 및 권출 릴 및/또는 권취 릴을 로딩 및 언로딩하기 위한 외측 에어 락(air lock)과도 분리가능하다.

처리될 기판은 제1 공정 롤러 및 제2 공정 롤러 방향으로 기판의 후면부가 대향하고, 권출 장치로부터 제1 공정 롤러로, 제1 공정 롤러로부터 제2 공정 롤러로, 제2 공정 롤러로부터 권취 장치로 이송 챔버를 통하여 가이드 될 수 있다.

전면부의 코팅될 영역은 바람직하게는, 기판의 전체 너비를 넘어 연장될 수 있는, 스트립 형태 기판의 가장 자리에 평행한 스트립이다.

제1 공정 챔버와 제2 공정 챔버 사이의 이송 챔버, 및 권출 장치로부터 제1 공정 롤러로, 제1 공정 롤러로부터 제2 공정 롤러로, 제2 공정 롤러로부터 권취 장치로 이송 챔버를 통하여 코팅될 기판의 가이드의 배치는, 스트립 형태 기판의 전면부의 미리 결정된 영역, 바람직하게는 코팅될 영역을 접촉하는 편향 롤러 없이도 가능하게 한다. 설비 장치의 다른 구성 요소에 의해 스트립 형태 기판에 관계된 영역과의 접촉 또한, 피할 수 있는 것은 당연하다.

권출 장치와 제1 공정 롤러 사이에서, 제1 공정 롤러와 제2 공정 롤러, 및/또는 제2 공정 롤러와 권취 장치 사이에서 처리될 기판용, 특유 롤러 및 편향 롤러에서의 가이드 장치가 단지 기판의 후면부만 접촉시키거나, 또는, 상응하게 기판의 전면부가 적어도 미리 결정된 영역에서 접촉 없이 가이드 된다면 바람직할 것이다.

그러나, 본 발명은, 예를 들면, 구체적으로 한정된 조건에서 장치의 구성 요소에 의해 스트립 형태 기판의 전면부와의 접촉이 발생하는 실시예를 포함하는 것은 당연하다.

진공이 하나 이상의 공정 챔버에서 유지되는 동안에, 권출 릴 및/또는 권취 릴이 이송 챔버로 로딩되거나 이송 챔버로부터 언로딩될 수 있도록 제1 및 제2 공정 챔버가 이송 챔버와 접속되는 것이 특히 바람직히다. 이송 챔버의 로딩 또는 언로딩은 그러므로 전체 장치의 배기(venting) 없이도 일어날 수 있다. 이송 챔버가, 제1 및 제2 공정 챔버를 연결하는 중간 챔버와, 벽에 의해 상기 중간 챔버로부터 분리된 잠금 챔버를 가지는 것이 바람직하고, 여기서 중간 챔버는 코팅될 기판이 상기 제1 공정 챔버로부터 상기 제2 공정 챔버로 이동하는 코팅될 기판용 채널을 형성한다. 잠금 챔버는 제1 스트립 잠금부에 의해 제1 공정 챔버와 접속되고, 제2 스트립 잠금부에 의해 제2 공정 챔버와 접속된다. 스트립 밸브는 핀치(pinch) 밸브로써 형성될 수 있는데, 스트립 밸브는 장치의 작동시 접촉 없이 기판이 이동할 수 있도록 적당히 큰 단면적을 가진다. 바람직한 스트립 밸브는 예를 들면 WO 99/50472로부터 공지되어 있다. 또한, 중간 챔버는, 제1 스트립 잠금부 및/또는 제2 스트립 잠금부에 의해 제1 공정 챔버 및/또는 제2 공정 챔버와 접속될 수 있고, 이로써 중간 챔버에서 기판을 가이드하기 위해 제공되는 장치, 또는 서비스를 수행하거나 작업을 조정하기 위한 다른 구성에 대한 접속이 공정 챔버의 진공을 파괴하지 않으면서도 접속구(access opening)를 통해 가능하다.

만약 제1 공정 롤러 및/또는 제2 공정 롤러가 냉각 및/또는 가열할 수 있으면, 즉, 냉각 및/또는 가열 롤러로써 형성되면, 스트립 형태 기판은 코팅 동안에 미리 결정된 온도 범위에서 유지될 수 있고, 결과적으로, 공정의 품질과 신뢰성이 보장되거나 향상될 수 있다.

기판의 효율적인 공정을 이루기 위해서, 다수의 공정 소스가 공정 챔버 또는 챔버들에 배치되는 것이 바람직하다. 다수의 공정 소스는 공정 소스의 수에 따라 증가되는 공정 영역을 통하여 이동하는 스트립 형태 기판의 전면부 상에 형성된다. 신뢰성 있는 공정 제어를 위하여, 공정 소스의 공정 영역이, 기판이 공정 롤러 주위를 둘러싸는 영역에 놓이고, 그 이후 공정 소스의 작동 동안에 기판이 공정 롤러에 의해 지지되는 것이 바람직하다. 본 장치의 주요한 효과는, 공정 소스의 공정 영역에서 기판이 180°이상의 랩(wrap)으로 공정 롤러 주위를 감쌈으로써 달성된다. 다른 실시예에서, 180°이상의 랩 또한 제공될 수 있다. 랩의 정도는 각각의 제1 공정 롤러 또는 제2 공정 롤러에 관하여 권취 장치 및 권출 장치의 상대적인 위치에 의해 결정되거나 정해질 수 있다.

본 처리 장치는 바람직하게는 기판의 진공 코팅용으로 사용되는데, 스퍼터 소스, 마그네트론 스퍼터 소스, 증기 코팅, 플라즈마, PVD 또는 CVD 소스가 공정 소스로써 사용된다. 처리될 기판의 전처리, 세정, 건조, 표면 활성화 및/또는 중합에서 또한 상기 소스가 사용될 수 있는 것은 당연하다. 소스가 스퍼터 소스이면, 평면 타겟 또는 원통형 타겟을 가질 것이다. 또한, 제1 공정 챔버는 평면 타겟의 공정 소스를 갖출 수 있고, 제2 공정 소스는 원통형 타겟을 갖출 수 있다. 유사하게, 반대 구성도 고려될 수 있다. 그러한 구성은 특히 바람직하게는 CIGS 태양 전지의 생산에 사용될 수 있다. 평면 타겟은 언도프 아연(undoped zinc)(i-ZnO)을 코팅하는데 사용되는 것이 바람직하고, 반면 원통형 타겟은 도프 산화아연(doped ZnO) 층의 생산에 바람직하다. 평면 또는 원통형 타켓의 다른 구성이 다른 처리 공정에 사용될 수 있는 것 또한 당연하다.

본 발명의 다른 양상에 따르면, 공정 롤러와 하나 이상의 공정 소스를 구비한 제1 공정 챔버, 및 공정 롤러와 하나 이상의 공정 소스를 구비한 제2 공정 챔버에서 스트립 형태 기판의 전면부의 진공 처리를 위한 방법에 있어서, 처리될 기판은 권출 장치로부터 제1 공정 롤러로, 제1 공정 롤러로부터 제2 공정 롤러로, 제2 공정 롤러로부터 권취 장치로 가이드되고, 이 과정 동안에 기판의 후면부가 제1 및 제2 공정 롤러 방향에 대향한다. 권출 장치 및 권취 장치는 이송 챔버에 배치되고, 이송 챔버는 제1 공정 챔버와 제2 공정 챔버 사이에 배치되고, 공정 챔버 둘 다와 접속되고, 하나 이상의 공정 챔버로부터 압력에 의해서 분리될 수 있다. 본 발명에 따른 방법은, 권취 장치와 권출 장치 사이에서 처리될 스트립 형태 기판의 가이드는 편향 롤러에 의해서 스트립 형태 기판의 처리될 전면부와 어떤 접촉도 요구하지 않는 장점을 가진다.

본 발명의 바람직한 실시예는 도면을 기반으로 더 상세하게 후술되고, 본 발명의 다른 양상 및 장점은 또한 어떻게 실시예들이 함께 그룹되느냐에 따라 독립적으로 나타난다.

도 1은 두 개의 공정 롤러의 회전 축에 대한 수직 단면으로, 스트립 형태 기판(10)의 진공 처리를 위한 본 발명에 따른 처리 장치의 매우 단순화된 도면을 도시하고 있다.

[도면의 주요부분에 대한 부호의 설명]

10 : 스트립 형태 기판

12 : 스트립 형태 기판의 전면부

13 : 스트립 형태 기판의 후면부

20 : 공정 챔버 1

21 : 공정 롤러 1

30 : 공정 챔버 2

31 : 공정 롤러 2

32 : 공정 소스

40 : 이송 챔버

41 : 중간 챔버

42 : 잠금 챔버

43 : 가이드 장치

50 : 권출 장치

51 : 가이드 장치

52 : 스트립 밸브

60 : 권취 장치

61 : 가이드 장치

62 : 스트립 밸브

본 발명의 일 실시예에 따른 처리 장치는 공정 롤러(21)를 구비한 제1 공정 챔버(20), 공정 롤러(31)를 구비한 제2 공정 챔버(30) 및 제1 공정 챔버와 제2 공정 챔버 사이에 배치된 이송 챔버(40)를 포함한다. 또한, 처리 공정을 제어하기 위한 제어 장치(도시되지 않음)가 제공된다.

공정 롤러(21, 31)는 롤러 프레임(도시되지 않음)에 배치되어, 예를 들면, 롤러의 축 위치를 조정하게 하고, 서로 실질적으로 평행하게 배치된 회전 축을 가진다. 이송 챔버(40)는 공정 챔버(20) 및 공정 챔버(30)와 접속된다. 공정 챔버(20, 30) 및 이송 챔버(40)는 진공 펌프(도시되지 않음)에 의해 진공으로 될 수 있다. 스트립 재료의 공급을 제공하는, 권출 릴(reel)을 구비한 권출 장치(50)와 권취 릴을 구비한 권취 장치(60)가 이송 챔버(40)에 배치된다. 권취 릴 및 권출 릴의 축은 바람직하게는 서로 평행하고, 공정 롤러의 축과 평행하게 배치된다.

예를 들면, 코팅 처리를 위해 한쪽 면이 공정 소스(22, 33)에 노출되는 금속 스트립, 자기 테이프, 필름, 플라스틱 시트 등이 스트립 형태 기판(10)으로써 제공된다.

하나 이상의 공정 소스(22), 바람직하게는 다수의 공정 소스(22)가 공정 챔버(20)에 배치된다. 유사하게, 하나 이상의 공정 소스(32), 바람직하게는 다수의 공정 소스(32)가 공정 챔버(30)에 배치된다. 바람직하게는, 공정 소스(22, 32)는 마그네트론 스퍼터(magnetron sputter) 소스이다. 그러나, 다른 스퍼터 소스, 증기-코팅, 플라즈마, PVD 또는 CVD 소스가 사용되는 것 또한 가능하다. 게다가, 공정 소스는 또한, 처리될 기판의 전처리, 세정, 건조, 표면 활성화 및/또는 중합용 소스가 될 수 있다. 소스는 각각 바람직하게는 각각의 공정 롤러의 회전 축에 평행하게 소정 길이 이상으로 연장된다. 또한, 도 1에 도시된 바와 같이, 공정 소스(22) 및/또는 공정 소스(32)는 기판(10)에 가능한 크게 처리 구역을 형성하기 위하여, 원형 링의 방식으로 각각의 공정 롤러(21) 또는 공정 롤러(31) 주위에 배치된다.

본 발명의 목적을 이루기 위하여, 공정 소스(22) 및/또는 공정 소스(32)에 의해서 공정 챔버(20) 및 공정 챔버(30)에서의 처리, 바람직하게는 코팅 처리를 받는 기판(10)의 면은 스트립 형태 기판(10)의 전면부(12)로 한정된다. 기판의 전면부(12)는 바람직하게는 권취 및/또는 권출 동안에 반경 방향으로 외측으로 향하지만 반드시 그런 것은 아니다. 기판(10)의 반대쪽은 후면부(13)로써 참조된다.

이송 챔버(40)는, 벽(45)으로 분리된 중간 챔버(41) 및 잠금 챔버(42)를 포함한다. 중간 챔버(41)는 처리될 기판을 위한 채널을 형성하고, 기판은 제1 공정 챔버(20)로부터 제2 공정 챔버(30)로 상기 채널 내에서 이동한다. 중간 챔버(41)는, 각각의 스트립 밸브(46, 47)에 의한 공정 챔버(20) 또는 공정 챔버(30)로부터 압력의 측면에서 분리될 수 있다. 스트립 밸브(46, 47)는 선택 사항이고, 따라서, 본 발명의 다른 양상에 따르면 밸브 둘 다 또는 밸브들 중 어느 하나는 생략될 수 있다.

잠금 챔버(42)는 스트립 잠금부(52)에 의해 제1 공정 챔버(20)와, 스트립 잠 금부(62)에 의해 제2 공정 챔버(30)와 접속된다.

권출 릴 또는 권취 릴이 이송 챔버(40)로 로딩 또는 이송 챔버(40)로부터 언로딩될때, 적어도 하나의 공정 챔버(20, 30)에서 셋팅되어 있는 진공 또는 압력이 유지되도록 제1 공정 챔버(20) 및 제2 공정 챔버(30)가 이송 챔버(40)에 접속되는 것은 당연하다. 중간 챔버(41)와 잠금 챔버(42)를 분리하는 벽(45)은 공정 챔버(20) 및 공정 챔버(30)의 영역에 접하거나 그 영역 안까지 연장된다. 스트립 밸브(52, 62)가 닫히면, 잠금 챔버(42)는 압력/진공에 있어서 공정 챔버(20) 및 공정 챔버(30)로부터 차단되고, 따라서, 공정 챔버(20) 또는 공정 챔버(30)를 배기할 필요 없이 외측 에어 락(air lock)(44)을 통해서 권출 릴(50) 및 권취 릴(60)에 접속할 수 있다.

본 발명의 다른 양상에 따르면, 이송 챔버(40)는 일체형으로써 형성된다.

공정 롤러(21) 및/또는 공정 롤러(31)는 각각 그 자체로 이미 알려진 가열 롤러 및/또는 냉각 롤러로써 형성될 수 있다.

스트립 밸브(46, 47, 52, 62)는 개방 상태에서 스트립 형태 기판의 비접촉 이송이 가능하도록 충분히 큰 간극을 가진다. 닫힌 상태에서는, 스트립 밸브는 각각의 공정 챔버를 이송 챔버로부터 압력에 있어 분리되도록 한다. 또한, 스트립 잠금부의 닫힌 상태에서는, 스트립 형태 기판(10)은 각각의 스트립 잠금부에 의해서 확실하게 고정될 수 있다. 이것은 스트립 형태 기판(10)의 부분 길이를 분리해 놓았다가, 예를 들면, 태킹(tacking) 또는 용접을 통해 추가 공급된 기판을 그 고정단에 붙이는 것이 가능하다는 장점이 있다.

권출 장치(50)는 스트립 형태 기판의 후면부(13)에 대향하는 가이드 장치(51)를 가지고, 따라서 스트립 형태 기판의 전면부(12)와 접촉하지 않는다. 또한, 권취 장치(60)는 마찬가지로 스트립 형태 기판의 전면부(12)와 접촉 없이 작동하는 가이드 장치를 가진다. 스트립 형태 기판의 전면부(12)와 접촉하지 않는 가이드 장치(43) 또한 중간 챔버(41)의 영역에 제공되고, 따라서, 기판(10)은 기판의 전면부(13)의 접촉 없이 가이드될 수 있다.

장치의 작동 동안에, 스트립 형태 기판(10)은 공정 롤러(21) 및 공정 롤러(22) 방향으로 후면부(13)가 대향한다. 처리될 스트립 형태 기판은 권출 장치로부터 공정 롤러(21)로 가이드 되고, 공정 롤러(21)를 둘러싸고, 공정 롤러(21)에 의해 편향되고, 공정 롤러(31)의 방향으로 가이드 된다. 공정 롤러(21)와 공정 롤러(31) 사이에서, 스트립 형태 기판은 이송 챔버(40)를 통하여 가이드 된다. 도 1에 도시된 바와 같이, 기판(10)의 이송은, 상대적으로 작은 간극 단면적을 가진 터널을 형성하고 있는 중간 챔버(41)를 통하여 일어난다.

기판(10)은 공정 롤러(31) 주위를 둘러싸고, 스트립 밸브(62)에 의해 권취 장치(60)로 편향되어 가이드 된다. 본 발명에 따라 권출 장치(50)와 권취 장치(60) 사이에서 이송되면서 처리 장치에서 기판(10)이 처리되는 동안에, 기판의 전면부(12)는 접촉할 필요가 없다. 모든 편향 및 가이드 장치는 스트립 형태 기판의 후면부(13) 상에 맞물리고, 따라서 전면부(12)의 손상 또는 오염은 최소화 되거나 완전히 방지될 수 있다.

스트립 형태 기판은 중간 스트립 상에 기판의 후면부(13)에 배치될 수 있다. 가능하다면, 기판(10)은 처리 장치에서 처리 전에 중간 스트립으로 부터 빼낼 수 있고, 처리 후에 다시 중간 스트립에 충당될 수 있다. 본 발명에 따른 장치 또는 본 발명에 따른 방법에 의해서 상하로 배치되는 둘 이상의 층을 포함하는 스트립 형태 기판의 처리 또한 가능한 것은 당연하다.

Claims

제1 공정 롤러와 하나 이상의 공정 소스를 구비한 제1 공정 챔버, 및 제2 공정 롤러와 하나 이상의 공정 소스를 구비한 제2 공정 챔버에서 스트립 형태 기판의 전면부의 하나 이상의 영역에 대한 진공 처리용 특히, 진공 코팅용 처리 장치에 있어서,

상기 제1 및 제2 공정 챔버 사이에 배치된 이송 챔버를 포함하며,

상기 이송 챔버는 상기 제1 및 제2 공정 챔버 둘다와 접속되고, 상기 제1 및 제2 공정 챔버중 하나 이상의 공정 챔버, 처리될 기판을 위한 탈착식 권출 릴을 구비한 권출 장치, 탈착식 권취 릴을 구비한 권취 장치, 및 상기 권출 릴 및/또는 권취 릴을 로딩 및 언로딩하기 위한 외측 에어 락(air lock)과 압력에 있어서 분리될 수 있고,

처리될 상기 기판은 상기 제1 공정 롤러 및 상기 제2 공정 롤러 방향으로 기판의 후면부가 대향하고, 상기 권출 장치로부터 상기 제1 공정 롤러로, 상기 제1 공정 롤러로부터 상기 제2 공정 롤러로, 상기 제2 공정 롤러로부터 상기 권취 장치로 상기 이송 챔버를 통하여 가이드 될 수 있는,

처리 장치.
제1항에 있어서,

상기 권출 릴 및/또는 권취 릴이 상기 이송 챔버로 로딩되고 상기 이송 챔버 로부터 언로딩되는 동안, 상기 제1 및 제2 공정 챔버 중 적어도 하나의 챔버의 진공이 파괴되지 않도록 상기 제1 및 제2 공정 챔버가 상기 이송 챔버와 접속되는,

처리 장치.
제2항에 있어서,

상기 이송 챔버는 상기 제1 및 제2 공정 챔버를 연결하는 중간 챔버 및 벽에 의해 상기 중간 챔버로부터 분리된 잠금 챔버를 포함하고,

상기 중간 챔버는, 코팅될 상기 기판이 상기 제1 공정 챔버로부터 상기 제2 공정 챔버로 이동하기 위한 채널을 형성하고,

상기 잠금 챔버는 제1 스트립 잠금부에 의해 상기 제1 공정 챔버와 접속되고, 제2 스트립 잠금부에 의해 상기 제2 공정 챔버와 접속되는,

처리 장치.
제3항에 있어서,

상기 중간 챔버는, 제1 스트립 잠금부에 의해 상기 제1 공정 챔버와 및/또는 제2 스트립 잠금부에 의해 상기 제2 공정 챔버와 접속되는,

처리 장치.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,

상기 제1 공정 롤러 및/또는 상기 제2 공정 롤러는 냉각 및/또는 가열될 수 있는,

처리 장치.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,

다수의 공정 소스가 상기 제1 공정 챔버에 배치되고, 및/또는 처리될 상기 기판이 180°이상의 랩(wrap)으로 상기 공정 소스의 공정 영역에서 상기 공정 롤러 주위를 감싸는,

처리 장치.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,

다수의 공정 소스가 상기 제2 공정 챔버에 배치되고, 및/또는 처리될 상기 기판이 180°이상의 랩(wrap)으로 상기 공정 소스의 공정 영역에서 상기 공정 롤러 주위를 감싸는,

처리 장치.
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,

처리될 상기 기판용 하나 이상의 가이드 장치가 상기 중간 챔버에 배치되는,

처리 장치.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,

상기 권출 장치는 처리될 상기 기판을 위한 하나 이상의 가이드 장치를 포함하고, 및/또는 상기 권취 장치는 처리될 상기 기판을 위한 하나 이상의 가이드 장치를 포함하는,

처리 장치.
제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,

하나 이상의 상기 공정 소스는 스퍼터 소스, 마그네트론 스퍼터 소스, 증기 코팅, 플라즈마, PVD 또는 CVD 소스, 또는 처리될 상기 기판의 전처리, 세정, 건조, 표면 활성화 및/또는 중합을 위한 소스인,

처리 장치.
제10항에 있어서,

상기 스퍼터 소스 또는 상기 마그네트론 스퍼터 소스는 평면 타겟을 포함하는,

처리 장치.
제10항 또는 제11항에 있어서,

상기 스퍼터 소스 또는 상기 마그네트론 스퍼터 소스는 원통형 타겟을 포함하는,

처리 장치.
제10항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서,

상기 제1 공정 챔버 및/또는 상기 제2 공정 챔버는 평면 타겟을 갖는 하나 이상의 마그네트론 스퍼터 소스 및 원통형 타겟을 갖는 하나 이상의 마그네트론 스퍼터 소스가 구비된,

처리 장치.
제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,

적어도 미리 결정된 작동 상태 동안에는, 처리될 상기 기판은 하나 이상의 가이드 장치에 의해 기판의 전면부의 미리 결정된 영역 상에 접촉될 수 없고, 및/또는 기판의 후면부만이 하나 이상의 가이드 장치 방향으로 대향하는,

처리 장치.
제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서,

상기 권출 장치와 상기 제1 공정 롤러 사이, 상기 제1 공정 롤러와 상기 제2 공정 롤러 사이, 및/또는 상기 제2 공정 롤러와 상기 권취 장치 사이에서 처리될 상기 기판용 상기 가이드 장치는, 적어도 미리 결정된 영역에서 상기 기판의 후면부와만 접촉하거나 전면부와 접촉하지 않는,

처리 장치.
제1 공정 롤러와 하나 이상의 공정 소스를 구비한 제1 공정 챔버, 및 제2 공정 롤러와 하나 이상의 공정 소스를 구비한 제2 공정 챔버에서 스트립 형태 기판의 전면부에 대한 진공 처리 특히, 진공 코팅 방법에 있어서,

처리될 상기 기판은 권출 장치로부터 상기 제1 공정 롤러로, 상기 제1 공정 롤러로부터 상기 제2 공정 롤러로, 상기 제2 공정 롤러로부터 권취 장치로 가이드 되고, 가이드 과정에서 상기 제1 공정 롤러 및 상기 제2 공정 롤러 방향으로 기판의 후면부가 대향하고,

상기 권출 장치 및 상기 권취 장치는 이송 챔버 내에 배치되고,

상기 이송 챔버는 상기 제1 공정 챔버와 상기 제2 공정 챔버 사이에 배치되고, 상기 제1 및 제2 공정 챔버 둘 다와 접속되어 있으며, 상기 제1 및 제2 공정 챔버 중 하나 이상의 공정 챔버로부터 압력에 있어서 차단될 수 있는,

진공 처리 방법.
제16항에 있어서,

처리될 상기 기판은 상기 제1 공정 챔버, 상기 제2 공정 챔버, 및/또는 상기 이송 챔버에서 하나 이상의 가이드 장치에 의해서 가이드 되고, 적어도 미리 결정된 작동 상태에서는, 처리될 상기 기판은 하나 이상의 가이드 장치에 의해서 기판의 전면부가 접촉되지 않고, 및/또는 하나 이상의 가이드 장치 방향으로 그 후면부만이 대향하는,

진공 처리 방법.