JP5658397B2 - 帯状基材処理設備 - Google Patents
帯状基材処理設備 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5658397B2 JP5658397B2 JP2014100499A JP2014100499A JP5658397B2 JP 5658397 B2 JP5658397 B2 JP 5658397B2 JP 2014100499 A JP2014100499 A JP 2014100499A JP 2014100499 A JP2014100499 A JP 2014100499A JP 5658397 B2 JP5658397 B2 JP 5658397B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- strip
- drum
- coating
- frame trim
- processing equipment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
本発明は、請求項1の上位概念に記載の帯状基材処理設備に関する。
帯状材料をプロセスチャンバ内でコーティングするための公知の真空コーティング設備が、排気可能な第1リールチャンバ内に、第1ローラ台内に配置されている、コーティングすべき帯状材料用の組み込まれた巻出し枠を有する巻出機を備え、且つ排気可能な第2リールチャンバ内に、第2ローラ台内に配置されている、取り外し可能な巻取り枠を有する巻取機を備える。当該コーティングすべき帯状材料が、これらのリールチャンバ間で排気可能なプロセスチャンバを通過する。この場合、当該帯状材料用のガイド装置を有するプロセスローラ台と、冷却ローラとが、各プロセスチャンバ内に配置されている。少なくとも1つのマグネトロンスパッタ源が、当該冷却ローラの表面の上方に存在する。
別の公知の帯状基材コーティング設備では、巻出し枠及び巻取り枠が、プロセスチャンバ内に配置されている。このプロセスチャンバには、独立したリールチャンバが不要になるという利点があるものの、当該巻き枠の交換が、曝気なしでは不可能であるという欠点がある。このタイプの設備も、ここで説明されている本発明によって有益に改良され得る。
2つのプロセスチャンバを有する、帯状材料用の真空コーティング設備が、独国特許第19735603号明細書から公知である。1つのローラ台が、各プロセスチャンバ内に存在する。偏向ローラ、張力測定ローラ及び冷却ローラが、このローラ台内で軸支されている。位置合わせを互いに可能にするため、すなわち帯状材料のたるみを阻止するため、各ローラ台の位置が、水平方向に且つ垂直方向に調整可能である。異なる気体と異なる圧力とで稼働できるようにするため、プロセスチャンバとリールチャンバとは、帯状材料用のバルブによって互いに真空分離されている。コーティングすべき帯状材料が、当該帯状材料用のバルブを通過して搬送される。
巻出し枠及び巻取り枠が、リールチャンバ内に存在する。コーティングすべき材料が、第1リールチャンバ内で巻出し枠によって巻き出され、コーティングプロセスに移行され、引き続き第2リールチャンバ内で巻き取られる。
当該帯状材料をコーティングするため、例えばマグネトロンスパッタ源が使用され得る。しかし、例えば、蒸気配管を有する加熱蒸発器のような別のコーティング源が使用されてもよい。当該コーティング源の中心長手線が、当該コーティング源に付設されている冷却ローラの中心軸に対して位置合わせ可能であるように、当該コーティング源の位置が、それぞれの冷却ローラに対して当該中心軸に対して平行に調整可能に配置されている。
冒頭で述べた種類の真空コーティング設備が、独国特許第10157186号明細書から公知である。当該真空コーティング設備では、巻出し枠用のロール台が、第1リールチャンバ内の第1固定地点上に固定されていて、プロセスロール台が、プロセスチャンバ内の第2固定地点上と第3固定地点上とに固定されていて、巻取り枠用のロール台が、第2リールチャンバ内の第4固定地点上に固定されている。
実際には、冷却ローラの表面の周囲に沿って狭い隙間を保持しつつ配置された一般に複数のマグネトロンスパッタ源から成る配列を、当該配列と当該冷却ローラとの間を接触させることなしに、回転軸に対して完全に平行に移動させることが困難であることが分かっている。
それ故に、過去においては、1つの冷却ローラとこの冷却ローラの周囲に沿った複数のコーティング源から成る配列とを有する多重コーティング装置も、この問題を回避することを試みている。このために、これらのコーティング源は、複数の、大抵は3つの、複数のコーティング源から成る部分配列に分割されている。これらの部分配列はそれぞれ、当該冷却ローラの円周の180°以下の部分を包囲し、これらの部分配列は、互いに旋回可能に連結されている。
水平方向に指向された回転軸を有する冷却ローラでは、例えば、複数のコーティング源が、2時の位置、4時の位置、6時の位置、8時の位置及び10時の位置に配置されている。時計の文字盤と同様に、6時の位置が、この冷却ローラの周囲の最も下の地点に相当する。
したがって、コーティング源から冷却ローラまでの物理的に必要な距離は、コーティング動作中は必要な圧力差に起因して数ミリメートル、例えば2〜3mmである。帯状基材の表面をコーティングするための公知の多重コーティング装置は、円柱状の外側面の円周の180°以上を網羅する部分だけ帯状基板を送り出すための当該外側面を有する1つの冷却ローラと、当該外側面の円周の180°以上を網羅する部分にわたって割り当てられた、当該外側面にそれぞれ合わせられたコーティング方向にある複数のコーティング源から成る1つの配列とから構成される。この場合、当該複数のコーティング源から成るこの配列は、分離面によって分離された2つの部分配列に分離されていて、各部分配列の複数のコーティング源が、互いに対向して固定配置されていて、当該各部分配列は、当該冷却ローラの円周の180°以下の部分を包囲する。この場合、当該2つの部分配列は、当該分離面に対して垂直方向に当該冷却ローラから離れるように移動可能である。
したがって、共通のハウジング内に配置されたコーティング源を1つずつ又は複数個ずつ有する複数のコーティング装置が、複数の、いわゆるコンパートメントユニットとも呼ばれる部分配列を成して互いに固定連結され得る。これらのコーティング源は、例えば、回転可能な円筒型マグネトロンでもよい。
したがって、帯状基材が、コーティング装置を擦ることなしに、当該帯状基材を通過させるために十分である隙間が、このコーティング装置と例えば熱間ローラ又は冷間ローラとして構成され得るドラムの外側面との間に確保されるように、例えば、1:100〜1:300までの有効な圧力差を発生させるために、当該コーティング装置の半径方向の距離を非常に正確に調整できることが必要である。この隙間は、当該ドラムの外側面とフレームトリムとによって限定される。このフレームトリムは、当該コーティング装置のハウジングに固定されていて且つ開口部を有する。蒸気状のコーティング材が、コーティング源からこの開口部を通じてドラムによって送り出される帯状基材の表面に到達する。当該フレームトリムは、当該ドラムの円柱状の外側面の形に合わせて湾曲されている形を有するので、当該隙間は、あらゆる地点で同じ大きさである。
このために、当該コンパートメントユニットは、ドラムに接触することなしに、コストをかけて機械式に固定される。しかしながら、このような位置調整は、帯状基材処理設備、すなわちドラム及び帯状基材処理装置の稼働中に発生しうる振動、熱変形及び熱膨張に対抗できない。その結果、帯状基材とコーティング装置、詳しく言うとこのコーティング装置のフレームトリムとの間の接触を引き起こしうる。この場合には、当該コーティング層が損傷され、当該帯状基材を廃棄する必要がある。
本発明の課題は、公知の帯状基材処理設備の上記欠点を排除すること、したがって正常にコーティングされた帯状基材の生産量を増大させることにある。
この課題は、請求項1に記載の、密閉チャンバを有し、且つ帯状基材を少なくとも1つの回転可能なドラム1の円柱状の外側面の円周の少なくとも一部分だけ送り出すための当該ドラム1を前記密閉チャンバ内に有し、且つ少なくとも1つのコーティング装置2を有する帯状基材処理設備であって、当該コーティング装置2は、前記ドラム1の前記外側面に合わせられたコーティング方向にある、1つのハウジング3内に配置された少なくとも1つのコーティング源4を有し、コーティング材が、前記コーティング源4からフレームトリムの開口部6を通じて前記外側面によって送り出される前記帯状基材に到達するように、前記開口部6を有する前記フレームトリム5が、前記少なくとも1つのコーティング源4と前記ドラム1の前記外側面との間の前記ハウジング3に配置されている当該帯状基材処理設備において、前記フレームトリム5が、前記ドラム1の半径方向に可動に前記ハウジング3に配置されていて、前記ドラム1の回転軸方向に一定の幅に離間された少なくとも2つのスペーシングローラ7が、前記フレームトリム5に配置されていて、当該スペーシングローラ7の外面が、前記ドラム1の前記外側面に接触することによって前記外側面から前記フレームトリム5までの距離を確定すること、及び、前記スペーシングローラ7は、前記ドラム1の前記外側面の、前記帯状基材によって覆われた領域の外側に配置されていることによって解決される。好適な構成及びその他の構成は、従属請求項に記載されている。
帯状基材処理設備が、密閉チャンバを有し、且つ帯状基材を少なくとも1つの回転可能なドラムの円柱状の外側面の円周の少なくとも一部分だけ送り出すための当該ドラムを前記密閉チャンバ内に有し、且つ少なくとも1つのコーティング装置を有し、当該コーティング装置は、前記ドラムの前記外側面に合わせられたコーティング方向にある、1つのハウジング内に配置された少なくとも1つのコーティング源を有し、コーティング材が、前記コーティング源からフレームトリムの開口部を通じて前記外側面によって送り出される前記帯状基材に到達するように、前記開口部を有する前記フレームトリムが、前記少なくとも1つのコーティング源と前記ドラムの前記外側面との間の前記ハウジングに配置されている当該帯状基材処理設備では、前記フレームトリムが、前記ドラムの半径方向に可動に前記ハウジングに配置されていて、前記ドラムの回転軸方向に一定の幅に離間された少なくとも2つのスペーシングローラが、前記フレームトリムに配置されていて、当該スペーシングローラの外面が、前記ドラムの外側面に接触することによって前記外側面から前記フレームトリムまでの距離を確定することが提唱される。
フレームトリムが、ハウジングに対して相対移動可能であることによって、及び、回転軸方向に互いに一定の幅に離間された複数のスペーシングローラによって、ドラムの回転軸方向にあるコーティング装置の全長にわたってこのフレームトリムからこのドラムの外側面までの半径方向の距離を常に正確に調整することが保証される。ドラムが回転するので、スペーシングローラも回転する。その結果、当該コーティング工程の精度を低下させうる静止摩擦が、スペーシングローラとドラムとの間で発生しない。
特に、フレームトリムの半径方向の移動可能性が、1自由度だけで表される構成では、コーティング装置の各端部に対する各スペーシングローラの配置、すなわち、例えば、ドラムの外側面の、帯状基材によって覆われた領域の各側方上の各スペーシングローラの配置が、コーティング装置とドラムとの間の隙間の幅を一定に調整するために及び一定に保証するために十分である。当該調整及び保証を達成するためには、フレームトリムをハウジングに沿ってドラムの半径方向に移動させることが重要である。
1つの実施の形態では、前記フレームトリムが、前記ドラムの半径方向に弾性力を発生させるように前記ハウジングに配置されていることが提唱されている。したがって、一方では誤差が補正され得、他方ではコーティング装置の一部又は/及びドラムが、熱の影響によって膨張するときでも、フレームトリムからドラムの外側面までの半径方向の距離が、常に正確であることが保証され得る。
別の実施の形態では、前記スペーシングローラが、前記ドラムの前記外側面の、前記帯状基材によって覆われた領域の外側に配置されていることが提唱されている。したがって、このスペーシングローラによる帯状基材の接触が回避される。その結果、帯状基材上にコーティングされているコーティング材の層が、非接触に維持される。
別の実施の形態では、少なくとも2つのスペーシングローラが、前記ドラムの前記外側面の、前記帯状基材によって覆われた領域の各側方上に配置されていることが提唱されている。当該構成は、特に、フレームトリムが、半径方向に移動されないときに、ドラムの回転軸に対して平行に延在する、傾いている軸を中心にするこのフレームトリムの望まない傾きを阻止するために適している。
さらに、前記フレームトリムから前記ドラムの外側面までの距離が、前記帯状基材処理設備の稼働中に調整可能であることが提唱され得る。当該帯状基材処理装置で実施可能なコーティング工程の具体例が存在し、当該具体例では、帯状基材が、前方だけに移動されるのではなくて、その前方とは反対方向にも移動される必要がある。当該具体例では、実際のコーティング工程は、最初の搬送方向では(比較的低い)工程速度で実施される。この場合、帯状基材が、巻出し枠から巻き出され、巻取り枠上に巻き取られ、引き続き、当該帯状基材が巻き戻される、すなわち、当該帯状基材が、(比較的高い)巻き戻し速度でこの巻取り枠から巻き出され、この巻出し枠上に巻き取られる。当該帯状基材が、その巻き戻し時に約100メートル/分の速度で送られるので、複数のスペーシングローラが、当該巻き戻し中にドラムに接触しているときに、これらのスペーシングローラが、例えば10回/秒の回転数で回転される。このときに、当該帯状基材とフレームトリムとの衝突を回避するため、及び、これらのスペーシングローラとドラムとの間の摩擦を取り除くため、当該帯状基材の巻き戻し時のフレームトリムとドラムとの間の距離を大きくすることが重要である。したがって、これらのスペーシングローラが、ドラムから同時に持ち上げられる。
ドラムのかき傷を回避するため、及び、ドラムとの摩擦によって引き起こされる当該複数のスペーシングローラの同期する回転運動を保証するため、これらのスペーシングローラ又はドラムに接触しているこれらのスペーシングローラの外面が、特に合成樹脂によって覆われている、例えば、バイトン(登録商標)、ニトリルゴム等から成る帯具等のような外郭によって覆われている。何故なら、これらのスペーシングローラは、硬質クロムメッキ処理されたドラムに直接に接触するからである。
フレームトリムの半径方向の位置の調整は、例えば、前記フレームトリムから前記ドラムの前記外側面までの距離が、レバー機構によって調整可能であることによって達成され得る。このレバー機構は、前記ドラムの回転軸に対して平行に配置された少なくとも1つのシャフトと、当該シャフトに固定配置された、前記フレームトリムに枢着連結されている少なくとも1つのレバーとを有する。この簡単なレバー機構は、高温下でも確実に且つ問題なく機能する。
幅の大きい帯状基材の場合でも、すなわち非常に長いドラム及びコーティング装置の場合でも、フレームトリムの半径方向の均等な移動を保証するため、少なくとも2つのレバーが、前記少なくとも1つのシャフトに配置されていて、これらのレバーが、前記ドラムの回転軸方向に互いに一定の幅に離間された、対応する数の把持点で前記フレームトリムに枢着連結されていることがさらに提唱され得る。例えば、各レバーが、1つのコーティング装置の各端部でこのフレームトリムを把持すると、当該2つの端部の半径方向の移動が、同じ大きさである。
したがって、当該1つ又は複数のシャフトは、レバートランスミッション又は/及び牽引ケーブル又は/及び歯車装置を介して1つの駆動装置に操作可能に連結され得る。特に、1つの前記コーティング装置が、同一の駆動装置に操作可能に連結している少なくとも2つのシャフトを有すること、又は/及び、2つ以上のコーティング装置の複数の前記シャフトが、同一の駆動装置に操作可能に連結していることが提唱され得る。したがって、当該フレームトリムの半径方向の移動を操作するために装置にかかるコストが著しく減少する。したがって、帯状基材処理設備が、全体的に安価に製造可能である。したがって、さらに、個々のフレームトリムが、均等に移動可能であり、且つ、複数のフレームトリムが、互いに同期して調整可能である。
その他の実施の形態では、前記駆動装置が、前記密閉チャンバの外側に配置されていて、且つこの密閉チャンバの隔壁に配置された回転継手を通じて、且つ取り外し可能なユニオンリンクを介して前記1つ又は複数のシャフトに操作可能に連結されていることが提唱されている。したがって、一方では、安価な駆動装置、例えば耐真空用でない電気モータが使用され得る。他方では、この駆動装置は、整備の目的で容易にアクセスできる。すなわち、この駆動装置を固定されている、密閉チャンバの扉として形成された前記密閉チャンバの隔壁が開かれ得る。この場合、取り外し可能なユニオンリンクとして形成された、この駆動装置と前記1つ又は複数のシャフトとの間の連結部分が、追加の手段なしに外れる。
以下に、本発明を実施の形態及び添付図面に基づいて詳しく説明する。
図1及び図2のそれぞれには、コーティング装置2の横断面と、円柱状の外側面を有するドラム1であって、帯状基材を当該外側面の円周の少なくとも一部分だけ送り出すための当該ドラム1との横断面が示されている。このコーティング装置2及びこのドラム1は、帯状基材処理設備の(図示されなかった)密閉チャンバ内に配置されている。このコーティング装置2の細部が、ぞれぞれの図に同様に拡大して示されている。
コーティング装置2は、ハウジング3を有する。2つのコーティング源4、すなわち2つの回転可能な円筒型マグネトロンが、このハウジング3内に配置されている。当該両円
筒型マグネトロンの蒸着方向はそれぞれ、ドラム1の外側面上に合わせられている。ドラム1の回転軸と当該両コーティング源4の回転軸とは、図1及び図2に対して垂直に延在する。開口部6を有するフレームトリム5が、2つのコーティング源4とドラム11の外側面との間のハウジング3に配置されている。コーティング材が、この開口部6を通じて帯状基材上にコーティングされる。この帯状基材は、コーティング装置2とドラム1との間の狭い隙間を通過して搬送される。以下でさらに詳しく説明するように、この隙間は、図1及び2では異なる幅で示されている。
筒型マグネトロンの蒸着方向はそれぞれ、ドラム1の外側面上に合わせられている。ドラム1の回転軸と当該両コーティング源4の回転軸とは、図1及び図2に対して垂直に延在する。開口部6を有するフレームトリム5が、2つのコーティング源4とドラム11の外側面との間のハウジング3に配置されている。コーティング材が、この開口部6を通じて帯状基材上にコーティングされる。この帯状基材は、コーティング装置2とドラム1との間の狭い隙間を通過して搬送される。以下でさらに詳しく説明するように、この隙間は、図1及び2では異なる幅で示されている。
上記フレームトリム5は、ドラム1の半径方向に可動にハウジング3に配置されている。したがって、コーティング装置2のハウジング3が固定されているときに、すなわちハウジング3を移動させることなしに、フレームトリム5とドラム1の外側面との間の隙間の幅の上記変更が可能になる。ドラム1の回転軸方向に一定の幅に離間された2対のスペーシングローラ7が、フレームトリム5に配置されている。当該スペーシングローラ7の外面が、ドラム1の外側面に接触することによってドラム1の外側面からフレームトリム5までの距離を確定する。換言すれば、少なくとも2つのスペーシングローラ7が、ドラム1の外側面の、帯状基材によって覆われた領域の各側により正確に配置されている、つまり帯状基材によって覆われた領域の外側に配置されている。図1及び2には、互いに一定の幅に離間された各対のスペーシングローラ7のうちの1つのスペーシングローラ7だけがそれぞれ目視可能である。何故なら、ドラム1の回転軸が、当該図面に対して垂直に延在し、それ故に回転軸方向に一定の幅に離間されたその他の各スペーシングローラ7が、当該目視可能な各スペーシングローラ7の後に存在するからである。
図1に示された構成と図2に示された構成との比較から分かるように、帯状基材処理設備の領域内のドラム1の外側面からトリムフレーム5までの距離が調整可能である。当該距離の調整は、フレームトリム5が、レバー機構に連結されていることによって達成される。このレバー機構は、回転軸方向に一定の幅で離間された上記2対のスペーシングローラ7の各対ごとにドラム1の回転軸に対して平行に配置された1つのシャフト8を有し、且つコーティング装置2の両端部の各々の端部ごとに当該シャフト8に固着配置されていて且つフレームトリム5に枢着連結されている1つのレバー9を有する。
1つのシャフト8に取り付けられた当該2つのレバー9の各レバーが、把持点でフレームトリム5に枢着連結されている。この把持点は、この実施の形態ではフレームトリム5に固定されている旋回軸である。それぞれの旋回軸は、レバー9の凹部を通じてそのレバー9に枢着連結されている。当該旋回軸は、その凹部内に配置されている。当該旋回軸は、その枢軸連結のほかに、すなわちレバー9に対する当該旋回軸の相対回転可能性のほかに、運動力学的な非連動性を回避するために相対移動をさらに可能にする。
図3及び4には、フレームトリム5の位置を変えるために使用されるレバー機構の2つの異なる構成が示されている。
いわゆるコンパートメントユニットに一緒に固定結合されている2つのコーティング装置から成る1つの部分配列がそれぞれ示されている。これのコーティング装置2はそれぞれ、共通のベースフレーム内に固定されたハウジング3内に配置された(ここでは図示されなかった)コーティング源を有する当該ハウジング3を備える。(ここでは図示されなかった)ドラム1に面している側では、フレームトリム5が、当該2つのハウジング3ごとにこのドラム1の半径方向に可動に配置されている。各フレームトリム5は、開口部6を有する。コーティング材の蒸気が、この開口部6を通じて帯状基材に到達する。
ドラム1の回転軸方向に一定の幅で離間された2対のスペーシングローラ7が、各フレームトリム5に配置されている。当該スペーシングローラ7の外面が、ドラム1の外側面に接触することによってその外側面からフレームトリム5までの距離を確定する。これらのフレームトリム5はそれぞれ、各側面上でレバー機構に連結されている。当該レバー機構はそれぞれ、当該ドラムの回転軸に対して平行に配置された1つのシャフト8を有し、且つコーティング装置2の両端部の各々の端部ごとに当該シャフト8に固着配置されていて且つフレームトリム5に枢着連結されている1つのレバー9を有する。
図3では、当該シャフト8は、レバートランスミッション10と牽引ケーブル11とから成る組み合わせ機構を介して1つの駆動装置に操作可能に連結されている。これに対して図4では、当該シャフト8は、レバートランスミッション10だけを介してこの駆動装置に操作可能に連結されている。
図3及び4の当該2つの実施の形態では、レバートランスミッション10が、戻しばね12を有する。その結果、当該複数のフレームトリム5がそれぞれ、ドラム1の半径方向に弾性力を発生させるようにハウジング3に配置されている。
当該2つの実施の形態では、2つのコーティング装置2の全ての4つのシャフト8が、同一の駆動装置によって操作可能に連結されている。(ここでは図示されなかった)この駆動装置は、上記の帯状基材処理設備の密閉チャンバの外側に配置されていて、且つ当該帯状基材処理設備の密閉チャンバの(ここでは図示されなかった)隔壁に配置された回転継手を通じて取り外し可能なユニオンリンク13を介してこれらのシャフト8に操作可能に連結されている。
1 ドラム
2 コーティング装置
3 ハウジング
4 コーティング源
5 フレームトリム
6 開口部
7 スペーシングローラ
8 シャフト
9 レバー
10 レバートランスミッション
11 牽引ケーブル
12 戻しばね
13 ユニオンリンク
2 コーティング装置
3 ハウジング
4 コーティング源
5 フレームトリム
6 開口部
7 スペーシングローラ
8 シャフト
9 レバー
10 レバートランスミッション
11 牽引ケーブル
12 戻しばね
13 ユニオンリンク
Claims (10)
- 密閉チャンバを有し、且つ帯状基材を少なくとも1つの回転可能なドラム(1)の円柱状の外側面の円周の少なくとも一部分だけ送り出すための当該ドラム(1)を前記密閉チャンバ内に有し、且つ少なくとも1つのコーティング装置(2)を有する帯状基材処理設備であって、当該コーティング装置(2)は、前記ドラム(1)の前記外側面に合わせられたコーティング方向にある、1つのハウジング(3)内に配置された少なくとも1つのコーティング源(4)を有し、コーティング材が、前記コーティング源(4)からフレームトリムの開口部(6)を通じて前記外側面によって送り出される前記帯状基材に到達するように、前記開口部(6)を有する前記フレームトリム(5)が、前記少なくとも1つのコーティング源(4)と前記ドラム(1)の前記外側面との間の前記ハウジング(3)に配置されている当該帯状基材処理設備において、
前記フレームトリム(5)が、前記ドラム(1)の半径方向に可動に前記ハウジング(3)に配置されていて、前記ドラム(1)の回転軸方向に一定の幅に離間された少なくとも2つのスペーシングローラ(7)が、前記フレームトリム(5)に配置されていて、当該スペーシングローラ(7)の外面が、前記ドラム(1)の前記外側面に接触することによって前記外側面から前記フレームトリム(5)までの距離を確定すること、及び
前記スペーシングローラ(7)は、前記ドラム(1)の前記外側面の、前記帯状基材によって覆われた領域の外側に配置されていることを特徴とする帯状基材処理設備。 - 前記フレームトリム(5)は、前記ドラム(1)の半径方向に弾性力を発生させるように前記ハウジング(3)に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の帯状基材処理設備。
- 少なくとも2つのスペーシングローラ(7)が、前記ドラム(1)の前記外側面の、前記帯状基材によって覆われた領域の各側方上に配置されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の帯状基材処理設備。
- 前記フレームトリム(5)から前記ドラム(1)の前記外側面までの距離が、前記帯状基材処理設備の稼働中に調整可能であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の帯状基材処理設備。
- 前記フレームトリム(5)から前記ドラム(1)の前記外側面までの距離は、レバー機構によって調整可能であり、このレバー機構は、前記ドラム(1)の回転軸に対して平行に配置された少なくとも1つのシャフト(8)と、当該シャフト(8)に固定配置された、前記フレームトリム(5)に枢着連結されている少なくとも1つのレバー(9)とを有することを特徴とする請求項4に記載の帯状基材処理設備。
- 少なくとも2つのレバー(9)が、前記少なくとも1つのシャフト(8)に配置されていて、これらのレバー(9)が、前記ドラム(1)の回転軸方向に互いに一定の幅に離間された、対応する数の把持点で前記フレームトリム(5)に枢着連結されていることを特徴とする請求項5に記載の帯状基材処理設備。
- 前記シャフト(8)は、レバートランスミッション(10)又は/及び牽引ケーブル(11)又は/及び歯車装置を介して1つの駆動装置に操作可能に連結されていることを特徴とする請求項5又は6に記載の帯状基材処理設備。
- 前記コーティング装置(2)は、同一の駆動装置に操作可能に連結している少なくとも2つのシャフト(8)を有することを特徴とする請求項5〜7のいずれか1項に記載の帯状基材処理設備。
- 2つ以上のコーティング装置(2)の複数の前記シャフト(8)が、同一の駆動装置に操作可能に連結していることを特徴とする請求項5〜8のいずれか1項に記載の帯状基材処理設備。
- 前記駆動装置は、前記密閉チャンバの外側に配置されていて、且つこの密閉チャンバの隔壁に配置された回転継手を通じて、且つ取り外し可能なユニオンリンク(13)を介して1つ又は複数の前記シャフト(8)に操作可能に連結されていることを特徴とする請求項7〜9のいずれか1項に記載の帯状基材処理設備。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE201310209009 DE102013209009B3 (de) | 2013-05-15 | 2013-05-15 | Bandsubstratbehandlungsanlage |
DE102013209009.9 | 2013-05-15 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014224319A JP2014224319A (ja) | 2014-12-04 |
JP5658397B2 true JP5658397B2 (ja) | 2015-01-21 |
Family
ID=51064680
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014100499A Expired - Fee Related JP5658397B2 (ja) | 2013-05-15 | 2014-05-14 | 帯状基材処理設備 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5658397B2 (ja) |
DE (1) | DE102013209009B3 (ja) |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6320456A (ja) * | 1986-07-14 | 1988-01-28 | Nippon Kokan Kk <Nkk> | 差動排気型蒸着処理室 |
DE10205805C1 (de) * | 2002-02-13 | 2003-08-14 | Ardenne Anlagentech Gmbh | Einrichtung zur Beschichtung von bandförmigen Substraten im Vakuum |
EP2278047A1 (en) * | 2005-08-31 | 2011-01-26 | Konica Minolta Holdings, Inc. | Plasma discharge treatment apparatus, and method of manufacturing gas barrier film |
-
2013
- 2013-05-15 DE DE201310209009 patent/DE102013209009B3/de not_active Expired - Fee Related
-
2014
- 2014-05-14 JP JP2014100499A patent/JP5658397B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE102013209009B3 (de) | 2014-07-24 |
JP2014224319A (ja) | 2014-12-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6277277B2 (ja) | 真空処理装置用の基板スプレッディングデバイス、基板スプレッディングデバイスを有する真空処理装置、及びそれを動作させる方法 | |
JP6360882B2 (ja) | フレキシブル基板のための堆積プラットフォーム及びその操作方法 | |
JP5768194B2 (ja) | バンド状基層の為の多重コーティング装置およびバンド状基層真空コーティング装置 | |
JP5312351B2 (ja) | 帯材状の基板を真空処理するための処理装置 | |
JP2011225932A (ja) | パターン成膜のためのスパッタリング成膜装置 | |
US20200165721A1 (en) | Vacuum processing system and methods therefor | |
US10648072B2 (en) | Vacuum processing system and method for mounting a processing system | |
US20160273102A1 (en) | Tape-substrate coating line having a magnetron arrangement | |
JP5658397B2 (ja) | 帯状基材処理設備 | |
JP2005515299A (ja) | 帯状の材料を被覆するための真空被覆設備 | |
JP6356824B2 (ja) | フレキシブル基板を処理するための装置、及びその処理チャンバを洗浄するための方法 | |
JP2012516946A (ja) | 真空コーティングロール基板のための高生産性装置 | |
TW202212627A (zh) | 在r2r沉積系統中塗覆彈性基板的方法及氣相沉積系統 | |
KR101395767B1 (ko) | 스트립형 재료를 이송하기 위한 장치 | |
US8986795B2 (en) | Manufacturing method of functional film | |
JP4902561B2 (ja) | 搬送装置、搬送方法および成膜装置 | |
JP2018537586A (ja) | フレキシブル基板用のキャリア | |
US20110283934A1 (en) | Highly productive apparatus for vacuum coating roll substrates | |
JP2020527195A (ja) | 真空チャンバ用の熱処理装置、可撓性基板上に材料を堆積させる堆積装置、真空チャンバ内での可撓性基板の熱処理方法、および可撓性基板の処理方法 | |
KR101374664B1 (ko) | 스퍼터 장치 | |
JP6153243B2 (ja) | 薄膜形成装置 | |
JP2017509801A5 (ja) | ||
JP2009074154A (ja) | 成膜装置 | |
WO2018149510A1 (en) | Deposition apparatus for coating a flexible substrate and method of coating a flexible substrate | |
KR20100042218A (ko) | 필름상 박막형성장치 및 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140922 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20141105 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20141127 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5658397 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |