JP2005511875A5 - - Google Patents

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  1. ポリマー基材の表面を改質するための方法であって:
    a)第1および第2の主表面を有するポリマー基材を提供する工程;
    b)少なくとも1種の溶媒と少なくとも1種の無機光化学電子供与体とを含む光反応性溶液を前記第1の主表面と接触させて界面を形成させ、その際、前記第2の主表面は、前記光反応性溶液によっては実質的にコーティングされない状態にとどめておく工程;および、
    c)前記界面を化学線に暴露させる工程;
    を含み、その際、前記少なくとも1種の無機光化学電子供与体には、チオシアン酸塩、硫化物塩、二硫化物塩、四硫化物塩、チオ炭酸塩、チオシュウ酸塩、チオリン酸塩、亜ジチオン酸塩、セレノシアン酸塩、セレン化物塩及びアジド塩からなる群より選択される可溶性で非揮発性の塩を含ませる、ポリマー基材の表面を改質する方法。
  2. 前記ポリマー基材がフルオロポリマーを含む、請求項1に記載の方法。
  3. 改質された表面を有するポリマー基材であって:
    a)第1および第2の主表面を有するポリマー基材を提供する工程;
    b)少なくとも1種の溶媒と少なくとも1種の無機光化学電子供与体とを含む光反応性溶液を前記第1の主表面と接触させて界面を形成させ、その際、前記第2の主表面は、前記光反応性溶液によっては実質的にコーティングされない状態にとどめておく工程;および、
    c)前記界面を化学線に暴露させる工程;
    を含み、その際、前記少なくとも1種の無機光化学電子供与体には、チオシアン酸塩、硫化物塩、二硫化物塩、四硫化物塩、チオ炭酸塩、チオシュウ酸塩、チオリン酸塩、亜ジチオン酸塩、セレノシアン酸塩、セレン化物塩及びアジド塩からなる群より選択される可溶性で非揮発性の塩を含ませる方法により調製されたポリマー基材。
  4. 前記ポリマー基材がフルオロポリマーを含む、請求項3に記載のポリマー基材。
  5. 複合材料物品を調製するための方法であって:
    a)1つの表面を有するポリマー基材を提供する工程;
    b)1つの表面を有する第2の基材を提供する工程;
    c)少なくとも1種の溶媒と少なくとも1種の無機光化学電子供与体とを含む光反応性溶液を、薄膜として、前記ポリマー基材の表面の上にコーティングして、第1の界面を形成させ、かつその際、前記少なくとも1種の無機光化学電子供与体は、チオシアン酸塩、硫化物塩、二硫化物塩、四硫化物塩、チオ炭酸塩、チオシュウ酸塩、チオリン酸塩、亜ジチオン酸塩、セレノシアン酸塩、セレン化物塩及びアジド塩からなる群より選択される工程;
    d)前記第2の基材の表面を前記コーティングした光反応性溶液と接触させて第2の界面を形成させる工程;および
    e)前記第1および第2の界面を同時に、複合材料物品を形成させるのに充分な化学線に暴露させる工程;
    を含む、複合材料物品を調製する方法。
  6. 前記ポリマー基材がフルオロポリマーを含む、請求項に記載の方法。
  7. 改質された表面を有するポリマー基材であって:
    a)1つの表面を有するポリマー基材を提供する工程;
    b)少なくとも1種の溶媒と少なくとも1種の無機光化学電子供与体とを含む光反応性溶液を前記ポリマー基材の表面と接触させて界面を形成させる工程;および
    c)前記界面を化学線に暴露させる工程;
    を含み、その際、前記少なくとも1種の無機光化学電子供与体には、チオシアン酸塩、硫化物塩、二硫化物塩、四硫化物塩、チオ炭酸塩、チオシュウ酸塩、チオリン酸塩、亜ジチオン酸塩、セレノシアン酸塩、セレン化物塩及びアジド塩からなる群より選択される可溶性で非揮発性の塩を含ませる方法によって調製することが可能な、ポリマー基材。
  8. 複合材料物品であって:
    a)1つの表面を有するポリマー基材を提供する工程;
    b)1つの表面を有する第2の基材を提供する工程;
    c)少なくとも1種の溶媒と少なくとも1種の無機光化学電子供与体とを含む光反応性溶液を、薄膜として、前記ポリマー基材の表面の上にコーティングして、第1の界面を形成させる工程;
    d)前記第2の基材の表面を前記コーティングした光反応性溶液と接触させて第2の界面を形成させる工程;および
    e)前記第1および第2の界面を同時に、複合材料物品を形成させるのに充分な化学線に暴露させる工程;
    を含み、その際、前記少なくとも1種の無機光化学電子供与体には、チオシアン酸塩、硫化物塩、二硫化物塩、四硫化物塩、チオ炭酸塩、チオシュウ酸塩、チオリン酸塩、亜ジチオン酸塩、セレノシアン酸塩、セレン化物塩及びアジド塩からなる群より選択される可溶性で非揮発性の塩を含ませる方法によって調製することが可能な、複合材料物品。
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Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6752894B2 (en) * 2001-12-14 2004-06-22 3M Innovative Properties Company Process for modifying a polymeric surface
US6986947B2 (en) 2003-10-09 2006-01-17 3M Innovative Properties Company Method of modifying a fluoropolymer and articles thereby
US7273531B2 (en) * 2003-11-05 2007-09-25 3M Innovative Properties Company Method of modifying a fluoropolymeric substrate and composite articles thereby
ITMI20041251A1 (it) * 2004-06-22 2004-09-22 Solvay Solexis Spa Gel di perfluoroelastomeri
US20080070182A1 (en) * 2006-09-20 2008-03-20 3M Innovative Properties Company Orthodontic elements and other medical devices with a fluorinated polymer, and methods
US20090018275A1 (en) 2007-01-26 2009-01-15 Greene, Tweed Of Delaware, Inc. Method of Bonding Perfluoroelastomeric Materials to a Surface
US9029474B2 (en) 2007-04-25 2015-05-12 Nissan Chemical Industries, Ltd. Process for production of surface-modified polymer structures
DE102007040096B4 (de) * 2007-08-24 2016-05-12 Elringklinger Ag Bauteil und Verfahren zur Herstellung
US20100055472A1 (en) * 2008-08-28 2010-03-04 Bravet David J Fluoropolymer laminate
EP2379326A4 (en) * 2008-12-31 2015-04-08 Saint Gobain Performance Plast MULTILAYER POYLMER ITEMS AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
US8288482B2 (en) 2009-06-17 2012-10-16 E I Du Pont De Nemours And Company Curable fluoroelastomer compositions
US10934198B1 (en) * 2014-02-08 2021-03-02 Mansour S. Bader Relative non-wettability of a purification membrane
GB201108963D0 (en) * 2011-05-27 2011-07-13 3M Innovative Properties Co Composite materials comprising polyamides and fluoroelastomers
DE102011104628A1 (de) 2011-06-06 2012-12-06 Mann + Hummel Gmbh Antimikrobielles Filtermedium und Filtermodul
JP2013099867A (ja) * 2011-11-07 2013-05-23 Sony Corp 基板層の融着方法、マイクロ流体チップの製造方法及び基板層の融着装置
US9243170B2 (en) 2013-08-26 2016-01-26 Tyco Electronics Corporation Adhesive manufacturing process, adhesive, and article
CN107210236B (zh) * 2015-02-06 2019-06-07 Agc株式会社 膜、其制造方法以及使用该膜的半导体元件的制造方法

Family Cites Families (46)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2789063A (en) 1954-03-26 1957-04-16 Minnesota Mining & Mfg Method of activating the surface of perfluorocarbon polymers and resultant article
US3254561A (en) 1961-06-19 1966-06-07 Polaroid Corp Process for polarizing ultraviolet light utilizing oriented, iodide stained film
US3376278A (en) 1964-11-06 1968-04-02 Minnesota Mining & Mfg Process for the chemical modification of the solid surface of a polymer
US3762325A (en) * 1967-11-27 1973-10-02 Teeg Research Inc Electromagnetic radiation sensitive lithographic plates
US3563871A (en) 1969-11-14 1971-02-16 Ford Motor Co Process for reducing the surface friction of an elastomer using radiation and an oxygen free atmosphere
CA1053994A (en) 1974-07-03 1979-05-08 Amp Incorporated Sensitization of polyimide polymer for electroless metal deposition
US4186084A (en) 1975-05-20 1980-01-29 E. I. Du Pont De Nemours And Company Hydrophilic fluoropolymers
US4164463A (en) 1975-05-20 1979-08-14 E. I. Du Pont De Nemours And Company Hydrophilic fluoropolymers
US4261800A (en) 1977-08-15 1981-04-14 Western Electric Co., Inc. Method of selectively depositing a metal on a surface of a substrate
US4192764A (en) * 1977-11-03 1980-03-11 Western Electric Company, Inc. Stabilizing composition for a metal deposition process
US4233421A (en) 1979-02-26 1980-11-11 Minnesota Mining And Manufacturing Company Fluoroelastomer composition containing sulfonium curing agents
DE3024450A1 (de) 1980-06-28 1982-01-28 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Verfahren zur herstellung von waessrigen, kolloidalen dispersionen von copolymerisaten des typs tetrafluorethylen-ethylen
US5086123A (en) 1984-02-27 1992-02-04 Minnesota Mining And Manufacturing Company Fluoroelastomer compositions containing fluoroaliphatic sulfonamides as curing agents
US4613653A (en) 1984-06-11 1986-09-23 The Dow Chemical Company Modification of polymers
US4567241A (en) 1984-06-11 1986-01-28 The Dow Chemical Company Modification of polymer surfaces
US4775449A (en) 1986-12-29 1988-10-04 General Electric Company Treatment of a polyimide surface to improve the adhesion of metal deposited thereon
US4824692A (en) 1987-07-27 1989-04-25 The Goodyear Tire & Rubber Company Process for the surface treatment of unsaturated rubber by photochemical modification with alkyl halides
US4912171A (en) 1988-04-01 1990-03-27 Minnesota Mining And Manufacturing Company Fluoroelastomer curing process with phosphonium compound
US5478652A (en) 1989-06-22 1995-12-26 Minnesota Mining And Manufacturing Company Fluoroelastomer composition with improved bonding properties
US5284611A (en) 1989-06-22 1994-02-08 Minnesota Mining And Manufacturing Company Fluoroelastomer composition with improved bonding properties
US5051312A (en) 1990-03-29 1991-09-24 E. I. Du Pont De Nemours And Company Modification of polymer surfaces
US5075427A (en) 1990-11-19 1991-12-24 W. R. Grace & Co.-Conn. Polymer surface modification using aqueous stable diazo solution
US5320789A (en) 1991-11-06 1994-06-14 Japan Atomic Energy Research Institute Surface modification of fluorine resin with laser light
JPH05339536A (ja) 1992-06-11 1993-12-21 Minnesota Mining & Mfg Co <3M> フッ素ゴム塗布用組成物
US5262490A (en) 1992-08-24 1993-11-16 Minnesota Mining And Manufacturing Company Fluoroelastomer composition with organo-onium compounds
JPH075773B2 (ja) 1992-12-22 1995-01-25 工業技術院長 紫外レーザーを用いたフッ素系高分子成形品の表面改質方法
US5419968A (en) 1993-02-16 1995-05-30 Gunze Limited Surface-hydrophilized fluororesin moldings and method of producing same
WO1994021715A1 (en) 1993-03-23 1994-09-29 Tokai University Solid surface modifying method and apparatus
US5285002A (en) 1993-03-23 1994-02-08 Minnesota Mining And Manufacturing Company Fluorine-containing polymers and preparation and use thereof
JP2612404B2 (ja) 1993-03-29 1997-05-21 浜松ホトニクス株式会社 フッ素樹脂の表面改質方法及びその装置
MY120404A (en) 1993-10-15 2005-10-31 Kuraishiki Boseki Kabushiki Kaisha Process for modifying the surfaces of the molded materials made of fluorine resins
JP3211532B2 (ja) 1993-12-21 2001-09-25 ウシオ電機株式会社 プラスチックス表面改質方法
JP3390763B2 (ja) 1993-12-24 2003-03-31 オリンパス光学工業株式会社 樹脂製チューブの表面改質方法
JP3206310B2 (ja) 1994-07-01 2001-09-10 ダイキン工業株式会社 表面改質されたフッ素樹脂成形品
CN1082440C (zh) 1994-08-19 2002-04-10 美国3M公司 含有含氟聚合物层的多层组合物
US5656121A (en) 1994-08-19 1997-08-12 Minnesota Mining And Manufacturing Company Method of making multi-layer composites having a fluoropolymer layer
US5955556A (en) 1995-11-06 1999-09-21 Alliedsignal Inc. Method of manufacturing fluoropolymers
US5734085A (en) 1995-12-21 1998-03-31 Minnesota Mining And Manufacturing Company Fluorinated phosphonium salts
JP3437361B2 (ja) 1996-01-24 2003-08-18 独立行政法人産業技術総合研究所 樹脂成形用金型
US5859086A (en) 1996-08-07 1999-01-12 Competitive Technologies Of Pa, Inc. Light directed modification fluoropolymers
US5882466A (en) 1996-08-08 1999-03-16 Minnesota Mining And Manufacturing Company Aqueous bonding composition
JP4357024B2 (ja) 1999-03-09 2009-11-04 静岡県 フッ素樹脂線状体の表面処理方法
US6685793B2 (en) * 2001-05-21 2004-02-03 3M Innovative Properties Company Fluoropolymer bonding composition and method
US6630047B2 (en) * 2001-05-21 2003-10-07 3M Innovative Properties Company Fluoropolymer bonding composition and method
US6753087B2 (en) * 2001-05-21 2004-06-22 3M Innovative Properties Company Fluoropolymer bonding
US6752894B2 (en) * 2001-12-14 2004-06-22 3M Innovative Properties Company Process for modifying a polymeric surface

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