JP2005507873A - 新規置換1h−ジヒドロピラゾール、それらの製造および使用 - Google Patents
新規置換1h−ジヒドロピラゾール、それらの製造および使用 Download PDFInfo
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Abstract
Description
【0001】
本発明は、1−アリール−置換ジヒドロ−1H−ピラゾールおよびピラゾールの新規カルボン酸誘導体に関する。これらの化合物は、殺虫剤として興味深い、ある種のアントラニル酸アミド化合物の製造のために有用である(例えば(特許文献1)を参照のこと)。(非特許文献1)は、1−(3−シアノフェニル)−3−メチル−1H−ピラゾール−5−カルボン酸の製造および血液凝固因子Xaの抑制剤の製造におけるその使用を開示する。本発明は、1−アリール−置換ジヒドロ−1H−ピラゾールおよびピラゾールの好結果および好都合な製造のために有用な技術を提供する。
【0002】
【特許文献1】
PCT公報 国際公開第01/070671号パンフレット
【非特許文献1】
ジャーナル・オブ・メディカル・ケミストリー(J.Med.Chem.)第44巻、2001年、p.566−578
【発明の開示】
【発明の概要】
【0003】
本発明は、式I
【0004】
【化1】
【0005】
(式中、
R1はH、C1〜C6アルキル、C2〜C6アルケニル、C2〜C6アルキニル、C3〜C6シクロアルキル、C1〜C6ハロアルキル、C2〜C6ハロアルケニル、C2〜C6ハロアルキニルまたはC3〜C6ハロシクロアルキルであり、
各R2は独立してC1〜C4アルキル、C2〜C4アルケニル、C2〜C4アルキニル、C3〜C6シクロアルキル、C1〜C4ハロアルキル、C2〜C4ハロアルケニル、C2〜C4ハロアルキニル、C3〜C6ハロシクロアルキル、ハロゲン、CN、NO2、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4ハロアルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4アルキルスルフィニル、C1〜C4アルキルスルホニル、C1〜C4アルキルアミノ、C2〜C8ジアルキルアミノ、C3〜C6シクロアルキルアミノ、C3〜C6(アルキル)シクロアルキルアミノ、C2〜C4アルキルカルボニル、C2〜C6アルコキシカルボニル、C2〜C6アルキルアミノカルボニル、C3〜C8ジアルキルアミノカルボニルまたはC3〜C6トリアルキルシリルであり、
R3はH、C1〜C4アルキル、C2〜C4アルキルカルボニルまたはC2〜C6アルコキシカルボニルであり、
XはNまたはCR4であり、
R4はHまたはR2であり、
R5はC1〜C4アルキルであり、そして
nは0〜3であり、ただし、XがCHである場合、nは少なくとも1である)
の化合物を提供する。
【0006】
本発明は、さらに、式Iの化合物の製造方法を提供する。この方法は、(1)式6
【0007】
【化2】
【0008】
(式中、X、R1、R2、R5およびnは、式Iに関して上記のとおり定義される)の化合物を塩基で処理する工程と、
R3がC1〜C4アルキル、C2〜C4アルキルカルボニルまたはC2〜C6アルコキシカルボニルである場合、(2)アルコキシド対イオンにR3を置換するために適切なアルキル化剤またはアシル化剤と反応させて、式Iの化合物を形成する工程と、
を含む。
【0009】
また本発明は、式6の化合物、ならびに式6の化合物の製造方法を提供する。この方法は、塩基の存在下で式4
【0010】
【化3】
【0011】
(式中、X、R1、R2およびnは、式Iに関して上記のとおり定義される)
の化合物を式5
【0012】
【化4】
【0013】
(式中、R5は、式Iに関して上記で定義されるとおりである)
の化合物で処理して、式6の化合物を形成する工程を含む。
【0014】
本発明はさらに、式II
【0015】
【化5】
【0016】
(式中、X、R1、R2およびnは、式Iに関して上記のとおり定義され、且つR6は式Iに関して上記で定義されたとおりのR5であるか、またはR5はHである)
の化合物の製造方法を提供する。この方法は、(3)式Iの化合物を酸で処理する工程と、R6がHである場合、(4)(3)の生成物を転換して、R6がHである式IIの化合物を形成する工程とを含む。
【0017】
また本発明は、式4(式中、R1はCF3であり、各R2は独立してClまたはBrであり且つ1つのR2は3位にあり、XはNまたはCR4であり、R4はH、ClまたはBrであり、そしてnは0、1、2または3であり、ただし、(i)XがCHまたはCClである場合、nは少なくとも1であり、且つ(ii)XがCClであり、3位のR2がClであり、そしてR2が5位にあってClである場合、nは少なくとも3である)の化合物を提供する。
【0018】
また本発明は、式II(式中、R1はCF3であり、各R2は独立してClまたはBrであり且つ1つのR2は3位にあり、XはNまたはCR4であり、R4はHまたはR2であり、R6はHまたはC1〜C4アルキルであり、そしてnは0、1、2または3であり、ただし、XがCHである場合、nは少なくとも1である)の化合物を提供する。
【0019】
また本発明は、式III
【0020】
【化6】
【0021】
(式中、X、R1、R2およびnは、式Iに関して上記のとおり定義され、R7はCH3、ClまたはBrであり、R8はF、Cl、Br、IまたはCF3であり、且つR9はC1〜C4アルキルである)
の化合物の製造方法であって、R6がHである式IIの化合物を使用する方法に関する。この方法は、上記で示された方法により式IIの化合物を製造することを特徴とする。
【発明の詳細な記述】
【0022】
上記詳述において、単独または「アルキルチオ」もしくは「ハロアルキル」のような組み合わされた単語のいずれかで使用される用語「アルキル」としては、メチル、エチル、n−プロピル、i−プロピルまたは種々のブチル、ペンチルもしくはヘキシル異性体のような直鎖または分枝鎖アルキルが挙げられる。「アルケニル」としては、1−プロペニル、2−プロペニル、ならびに種々のブテニル、ペンテニルおよびヘキセニル異性体のような直鎖または分枝鎖アルケンが挙げられる。「アルケニル」としては、1,2−プロパジエニルおよび2,4−ヘキサジエニルのようなポリエンも挙げられる。「アルキニル」としては、1−プロピニル、2−プロピニル、ならびに種々のブチニル、ペンチニルおよびヘキシニル異性体のような直鎖または分枝鎖アルキンが挙げられる。「アルキニル」としては、2,5−ヘキサジイニルのような複数の三重結合から構成される部分も挙げることができる。「アルコキシ」としては、例えば、メトキシ、エトキシ、n−プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ならびに種々のブトキシ、ペントキシおよびヘキシルオキシ異性体が挙げられる。「アルキルチオ」としては、メチルチオ、エチルチオ、ならびに種々のプロピルチオ、ブチルチオ、ペンチルチオおよびヘキシルチオ異性体のような分枝鎖または直鎖アルキルチオ部分が挙げられる。「シクロアルキル」としては、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチルおよびシクロヘキシルが挙げられる。「シクロアルキルアミノ」は、アミノ窒素原子がシクロアルキル基およびハロゲン原子に結合していることを意味し、シクロプロピルアミノ、シクロブチルアミノ、シクロペンチルアミノおよびシクロヘキシルアミノのような基が挙げられる。「(アルキル)シクロアルキルアミノ」は、水素原子がアルキル基により置換されたシクロアルキルアミノ基を意味し、例としては、(アルキル)シクロプロピルアミノ、(アルキル)シクロブチルアミノ、(アルキル)シクロペンチルアミノおよび(アルキル)シクロヘキシルアミノのような基が挙げられる。好ましくは、(アルキル)シクロアルキルアミノ中のアルキルはC1〜C4アルキルであり、シクロアルキルアミノおよび(アルキル)シクロアルキルアミノ中のシクロアルキルはC3〜C6シクロアルキルである。
【0023】
用語「アリール」は、各環または環系が任意に置換されている芳香族炭素環式環もしくは環系または芳香族複素環もしくは環系を指す。用語「芳香族環系」は、完全不飽和の炭素環化合物および多環式環系の少なくとも1つの環が芳香族である複素環化合物を表す。芳香族は、各環原子が本質的に同一平面に存在し、且つ環平面に対して垂直なp−軌道を有し、そして(4n+2)π電子は、nが0または正の整数である場合、環に関連してヒュッケル則に従うことを表す。用語「芳香族炭素環式環系」は、完全芳香族炭素環化合物および多環式環系の少なくとも1つの環が芳香族(例えば、フェニルおよびナフチル)である炭素環化合物を表す。用語「芳香族複素環または環系」は、完全芳香族複素環化合物および多環式環系の少なくとも1つの環が芳香族であり、少なくとも1つの環原子が炭素以外であり、窒素、酸素およびイオウからなる群より独立して選択される1〜4のヘテロ原子を含有し得、ただし各芳香族複素環が4以上の窒素、2以上の酸素および2以上のイオウを含有しない複素環化合物を含む(ここで、芳香族は、ヒュッケル則を満たすものを示す)。いずれかの利用可能な炭素または窒素を通して、前記炭素または窒素上の水素を置換することにより、複素環式環系を付加させることができる。特に、用語「アリール」は、
【0024】
【化7】
【0025】
(式中、R2、Xおよびnは上記のとおり定義され、且つ数字3から6は、それぞれこの部分上の置換基に関する3位〜6位を示す)の部分を指す。
【0026】
用語「ハロゲン」としては、単独または「ハロアルキル」のような組み合わされた単語のいずれかで、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素が挙げられる。更に「ハロアルキル」のような組み合わされた単語で使用される場合、前記アルキルは、同一であっても、または異なっていてもよいハロゲン原子により部分的または完全に置換されていてよい。「ハロアルキル」の例としては、F3C、ClCH2、CF3CH2およびCF3CCl2が挙げられる。用語「ハロアルケニル」、「ハロアルキニル」、「ハロアルコキシ」等は、用語「ハロアルキル」と同様に定義される。「ハロアルケニル」の例としては、(Cl)2C=CHCH2およびCF3CH2CH=CHCH2が挙げられる。「ハロアルキニル」の例としては、HC≡CCHCl、CF3C≡C、CCl3C≡CおよびFCH2C≡CCH2が挙げられる。「ハロアルコキシ」の例としては、CF3O、CCl3CH2O、HCF2CH2CH2OおよびCF3CH2Oが挙げられる。
【0027】
「アルキルカルボニル」の例としては、C(O)CH3、C(O)CH2CH2CH3およびC(O)CH(CH3)2が挙げられる。「アルコキシカルボニル」の例としては、CH3OC(=O)、CH3CH2OC(=O)、CH3CH2CH2OC(=O)、(CH3)2CHOC(=O)および種々のブトキシ−またはペントキシカルボニル異性体が挙げられる。用語「アルキルアミノカルボニル」および「ジアルキルアミノカルボニル」としては、例えば、CH3NHC(=O)、CH3CH2NHC(=O)および(CH3)2NC(=O)が挙げられる。
【0028】
置換基中の全炭素原子数を接頭辞「Ci〜Cj」で示すことができ、ここで、iおよびjは1〜8の数である。例えば、C1〜C3アルキルスルホニルは、メチルスルホニルからプロピルスルホニルまでを示す。上記詳述において、式Iの化合物が芳香族複素環を含有する場合、全ての置換基は、いずれかの利用可能な炭素または窒素を通して、前記炭素または窒素上の水素を置換することにより、この環に付加される。
【0029】
基、例えばR1が、水素であり得る置換基を含有する場合、次いでこの置換基が水素として見なされる場合、前記基が未置換であることに同等であると認識される。
【0030】
本発明に関する化合物は、1以上の立体異性体として存在することも可能である。種々の立体異性体としては、エナンチオマー、ジアステレオマー、アトロプ異性体および幾何異性体が挙げられる。他の立体異性体に関して濃縮された場合、または他の立体異性体から分離された場合、1つの立体異性体がより活性であり得、且つ/または有利な効果を示し得ることは当業者に明白であろう。加えて、当業者は前記立体異性体をいかにして分離するか、濃縮するか、そして/または選択的に製造するかを周知である。従って、本発明の化合物は、立体異性体の混合物として、個々の立体異性体として、または光学的に活性な形態として存在し得る。
【0031】
(a)任意に酸の存在下で、式2
【0032】
【化8】
【0033】
(式中、X、R2およびnは上記のとおり定義される)
の化合物を式3
【0034】
【化9】
【0035】
(式中、R1は上記のとおり定義される)
の化合物で処理して、式4
【0036】
【化10】
【0037】
(式中、X、R1、R2およびnは上記のとおり定義される)
の化合物を形成する工程と、
(b)塩基の存在下で、前記式4の化合物を式5
【0038】
【化11】
【0039】
(式中、R5はC1〜C4アルキルである)
の化合物で処理して、式6
【0040】
【化12】
【0041】
(式中、X、R1、R2、R5およびnは上記のとおり定義される)
の化合物を形成する工程と、
(1)前記式6の化合物を塩基で処理して、R3がHである式Iの化合物を形成する工程と、(2)R3がC1〜C4アルキル、C2〜C4アルキルカルボニルまたはC2〜C6アルコキシカルボニルである場合、アルキル化剤またはアシル化剤と反応させて、式I
【0042】
【化13】
【0043】
(式中、X、R1、R2、R5およびnは上記のとおり定義される)
の化合物を形成する工程と、
(3)式Iの化合物を酸で処理する工程と、R6がHである場合、(4)(3)の生成物を転換してR6がHである式II
【0044】
【化14】
【0045】
(式中、X、R1、R2、R5およびnは上記のとおり定義される)
の化合物を形成する工程と、
を含む段階方法により、式Iの化合物および式IIの化合物を製造することができる。
【0046】
好ましいもの1.R1がH、C1〜C4アルキルまたはC1〜C4ハロアルキルであり、そして各R2が独立してC1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキル、ハロゲンまたはCNである式Iの化合物。
【0047】
好ましいもの2.R1がH、C1〜C4アルキルまたはC1〜C4ハロアルキルであり、
XがNであり、そして
nが0である式Iの化合物。
【0048】
好ましいもの3.R1がCF3であり、
各R2が独立してClまたはBrであり、且つ1つのR2が3位にあり、
R3がHであり、そして
R4がH、ClまたはBrである好ましいもの1の化合物。
【0049】
好ましいもの4.R1がCF3であり、
1つのR2が4位にあり、且つCNであり、そしてR2が5位に存在する場合にはそれはFであり、
R3がHであり、そして
XがCHである好ましいもの1の化合物。
【0050】
好ましいもの5.XがNである好ましいもの1の化合物。
【0051】
注目すべきは、nが1から3である式Iの化合物(制限されないが、好ましいもの1、好ましいもの3、好ましいもの4および好ましいもの5の化合物が挙げられる)である。
【0052】
好ましいもの6.工程(1)が、式6の化合物を第四級フッ化アンモニウム塩で処理する工程を含む、式6の化合物から式Iの化合物を製造する方法。
【0053】
好ましいもの7.R1がH、C1〜C4アルキルまたはC1〜C4ハロアルキルであり、そして各R2が独立してC1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキル、ハロゲンまたはCNである式6の化合物から式Iの化合物を製造する方法。
【0054】
好ましいもの8.R1がCF3であり、各R2が独立してClまたはBrであり、且つ1つのR2が3位にある好ましいもの7の方法。
【0055】
好ましいもの9.R1がCF3であり、
1つのR2が4位にあり、且つCNであり、そしてR2が5位に存在する場合にはそれはFであり、
R3がHであり、そして
XがCHである好ましいもの7の方法。
【0056】
好ましいもの10.XがNである式6の化合物から式Iの化合物を製造する方法。
【0057】
注目すべきは、nが1〜3である式6の化合物から式Iの化合物を製造する方法(制限されないが、好ましいもの6、好ましいもの7、好ましいもの8、好ましいもの9および好ましいもの10の方法が挙げられる)である。
【0058】
好ましいもの11.R1がH、C1〜C4アルキルまたはC1〜C4ハロアルキルであり、そして各R2が独立してC1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキル、ハロゲンまたはCNである、式6の化合物。
【0059】
好ましいもの12.R1がH、C1〜C4アルキルまたはC1〜C4ハロアルキルであり、
XがNであり、そして
nが0である式6の化合物。
【0060】
好ましいもの13.R1がCF3であり、
各R2が独立してClまたはBrであり、且つ1つのR2が3位にあり、
XがNまたはCR4であり、そして
R4がH、ClまたはBrである好ましいもの11の化合物。
【0061】
好ましいもの14.R1がCF3であり、1つのR2が4位にあり、且つCNであり、そしてR2が5位に存在する場合にはそれはFであり、そしてXがCHである好ましいもの11の化合物。
【0062】
好ましいもの15.XがNである好ましいもの11の化合物。
【0063】
好ましいもの16.XがNである式IIの化合物。
【0064】
注目すべきは、nが1〜3である式6の化合物(制限されないが、好ましいもの11、好ましいもの13、好ましいもの14および好ましいもの15の化合物が挙げられる)である。
【0065】
3位、4位または5位は、上記式I、式II、式4および式6に含まれるアリール部分において示される相当する数字により示される。
【0066】
注目すべきは、R1がCF3であり、各R2が独立してClまたはBrであり、且つ1つのR2が3位にあり、XがNまたはCR4であり、そしてR4がH、ClまたはBrであり、そしてnが1、2または3である式4の化合物である。
【0067】
注目すべきは、XがNである式4の化合物である。
【0068】
注目すべきは、nが1、2または3である式IIの化合物である。
【0069】
注目すべきは、R1がCF3であり、各R2が独立してClまたはBrであり、且つ1つのR2が3位にあり、XがNまたはCR4であり、且つR4がHまたはR2であり、R6がHまたはC1〜C4アルキルであり、且つnが1、2または3である、式IIの化合物である。
【0070】
注目すべきは、R1がCF3であり、nが1であり、且つClまたはBrから選択されるR2が3位にある場合にはXがNである式IIの化合物である。例としては、nが1〜3であるものが挙げられる。
【0071】
注目すべきは、R1がCF3であり、nが1であり、且つClまたはBrから選択されるR2が3位にある場合、XがCR4である、式IIの化合物である。例としては、nが1〜3であるものが挙げられる。
【0072】
化合物I、IIおよび6の好ましい製造方法は、上記好ましい化合物を含む。
【0073】
スキーム1に示されるように、触媒量の適切な酸による処理により、式Iの化合物から式IIの化合物を製造することができる。触媒酸は、例えば、硫酸であり得る。一般的に、有機溶媒を使用して反応を実行する。一般的に、約0℃〜200℃の間、より好ましくは約0℃〜100℃の間の温度範囲において、多種多様な溶媒において脱水反応を実行することができることを当業者は認識するであろう。スキーム1の方法における脱水に関して、酢酸を含む溶媒および約65℃の温度が好ましい。この変換に関して、R3がHである式Iの化合物が好ましい。無水条件下での求核開裂を含む多数の方法または酸または塩基のいずれかの使用を伴う加水分解法により、式II(R6がC1〜C4アルキルである)の化合物を式II(R6はHである)の化合物に転換することができる(方法の総論については、T.W.グリーン(T.W.Greene)およびP.G.M.ワッツ(P.G.M.Wuts)著、「有機合成における保護基(Protective Groups in Organic Synthesis)」第2版、ジョン・ワイリー & サンズ社出版(John Wiley & Sons,Inc.),ニューヨーク、1991年、p.224−269を参照のこと)。塩基触媒による加水分解法が好ましい。適切な塩基としては、アルカリ金属(例えば、リチウム、ナトリウムまたはカリウム)の水酸化物が挙げられる。例えば、水と、エタノールのようなアルコールとの混合物に、エステルを溶解することができる。水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムによる処理において、カルボン酸のナトリウム塩を提供するために、エステルをけん化する。塩酸または硫酸のような強酸による酸性化により、カルボン酸が生じる。結晶化、抽出および蒸留を含む当業者に既知の方法によって、カルボン酸を単離することができる。
【0074】
【化15】
【0075】
スキーム2に図示されるように、適切な有機溶媒における適切な塩基による処理により、式6の化合物から式Iの化合物を製造することができる。適切な塩基の例としては、(制限されないが、)水素化ナトリウム、カリウムt−ブトキシド、ジメシルナトリウム(CH3S(O)CH2 −Na+)、アルカリ金属(例えば、リチウム、ナトリウムまたはカリウム)の炭酸塩または水酸化物、テトラアルキル(例えば、メチル、エチルまたはブチル)アンモニウムのフッ化物または水酸化物、あるいは2−第三級ブチルイミノ−2−ジエチルアミノ−1,3−ジメチル−ペルヒドロ−1,3,2−ジアザホスホニンが挙げられる。適切な有機溶媒の例としては、(制限されないが、)アセトン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、ジメチルスルホキシドおよびN,N−ジメチルホルムアミドが挙げられる。環化反応は、通常、約0℃〜120℃の温度範囲において実行される。溶媒、塩基、温度および添加時間の影響は全て、相互に依存しており、反応条件の選択は副生物の形成を最小にするために重要である。好ましい塩基は、フッ化テトラブチルアンモニウムである。次いで、この反応において形成される中間体、M+が塩基から誘導された適切な対イオンである式Iaは、適切な酸(例えば、酢酸)によりプロトン化されて、R3がHである式Ibの化合物が得られる。当業者に既知であるように、適切なアルキル化剤またはアシル化剤の添加によって、Iaのような中間体をアルキル化またはアシル化することができ、R3がC1〜C4アルキル、C2〜C4アルキルカルボニルまたはC2〜C6アルコキシカルボニルである式Icの化合物が得られる。あるいは、適切な塩基およびアルキル化剤またはアシル化剤を使用する別の化学工程において、式Ibの化合物から式Icの化合物を製造することができる。適切なアルキル化剤としては、C1〜C4アルキルのハロゲン化物、スルフェートおよびスルホネートが挙げられ、適切なアシル化剤としては、酸塩化物または無水物およびクロロホルメートが挙げられる。いずれにせよ、IaまたはIbを使用する場合、アルコキシド対イオンにR3を置換するために適切なアルキル化剤またはアシル化剤が使用される。
【0076】
【化16】
【0077】
適切な有機溶媒において、トリエチルアミンのような酸捕捉剤の存在下で、式5の化合物による式4の化合物の処理により、式6の化合物を製造することができる。適切な有機溶媒の例としては、(制限されないが、)ジクロロメタンおよびテトラヒドロフランが挙げられる。反応は、通常、約0℃〜100℃の間の温度で実行される。スキーム3に、この変換を図示する。
【0078】
【化17】
【0079】
スキーム4に図示されるように、水、メタノールまたは酢酸のような溶媒において、式3の化合物による処理により、式2のヒドラジン化合物から式4のヒドラゾン化合物を製造することができる。この反応が任意の酸による触媒を必要とすること、および式4のヒドラゾンの分子置換パターン次第で高温を必要とすることを当業者は認識するだろう。
【0080】
【化18】
【0081】
更なる詳細がなくても、上記の説明を使用する当業者は、本発明をその最も十分な範囲まで利用することができると考えられる。従って、以下の実施例は単なる実例として解釈され、且ついずれかの様式に本開示を制限するものではない。以下の実施例のための出発材料は、その手順が他の実施例に記載されている特定の製造の実行によって、必ずしも製造されなくてもよい。クロマトグラフィー溶媒混合物を除いて、または特記されない限り、百分率は重量によるものである。特記されない限り、クロマトグラフィー溶媒混合物に関する部および百分率は体積によるものである。1H NMRスペクトルは、テトラメチルシランからのppm低磁場で報告される。「s」は一重項を意味し、「d」は二重項を意味し、「t」は三重項を意味し、「q」は四重項を意味し、「m」は多重項を意味し、「dd」は二重項の二重項を意味し、「dt」は三重項の二重項を意味し、「br s」は広域一重項を意味する。
【実施例】
【0082】
実施例1
3−クロロ−2(1H)−ピリジノン(2,2,2−トリフルオロ−1−メチルエチリデン)ヒドラゾンの製造
20℃〜25℃で、1,1,1−トリフルオロアセトン(7.80g、69.6ミリモル)を(3−クロロ−ピリジン−2−イル)−ヒドラジン(あるいは、(3−クロロ−ピリジン−2−イル)−ヒドラジンと称される)(10g、69.7ミリモル)に添加した。添加完了後、混合物を約10分間撹拌した。減圧下で溶媒を除去し、酢酸エチル(100mL)と飽和炭酸ナトリウム溶液(100mL)との間に混合物を分配した。有機層を乾燥させ、蒸発させた。シリカゲル上クロマトグラフィー(酢酸エチルで溶出)により、オフホワイト色の固体として生成物を得た(11g、収率66%)。m.p.64℃〜64.5℃(酢酸エチル/ヘキサンからの結晶化後)。
IR(ヌジョール)ν1629,1590,1518,1403,1365,1309,1240,1196,1158,1100,1032,992,800cm−1。
1H NMR(CDCl3)δ2.12(s,3H),6.91−6.86(m,1H),7.64−7.61(m,1H),8.33−8.32(m,2H)。
MS m/z 237(M+)。
【0083】
実施例2
エチル水素エタンジオエート(3−クロロ−2−ピリジニル)(2,2,2−トリフルオロ−1−メチルエチリデン)ヒドラジンの製造
0℃で、トリエチルアミン(20.81g、0.206モル)を、ジクロロメタン(68mL)中3−クロロ−2(1H)−ピリジノン(2,2,2−トリフルオロ−1−メチルエチリデン)ヒドラゾン(すなわち、実施例1の生成物)(32.63g、0.137モル)に添加した。0℃で、この混合物に、ジクロロメタン(69mL)中クロロオキソ酢酸エチル(18.75g、0.137モル)を滴下した。約2時間かけて混合物を25℃まで加熱した。混合物を0℃まで冷却し、ジクロロメタン(14mL)中クロロオキソ酢酸エチル(3.75g、27.47ミリモル)の更なる部を滴下した。さらなる約1時間後、混合物をジクロロメタン(約450mL)で希釈し、混合物を水(2×150mL)で洗浄した。有機層を乾燥させ、蒸発させた。シリカゲル上クロマトグラフィー(1:1酢酸エチル−ヘキサンで溶出)により、固体として生成物を得た(42.06g、収率90%)。m.p.73.0℃〜73.5℃(酢酸エチル/ヘキサンからの結晶化後)。
IR(ヌジョール)ν1751,1720,1664,1572,1417,1361,1330,1202,1214,1184,1137,1110,1004,1043,1013,942,807,836cm−1。
1H NMR(DMSO−d6,115℃)δ1.19(t,3H),1.72(br s,3H),4.25(q,2H),7.65(dd,J=8.3,4.7Hz,1H),8.20(dd,J=7.6,1.5Hz,1H),8.55(d,J=3.6Hz,1H)。
MS m/z 337(M+)。
【0084】
実施例3
エチル1−(3−クロロ−2−ピリジニル)−4,5−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−カルボキシレートの製造
ジメチルスルホキシド(25mL)中エチル水素エタンジオエート(3−クロロ−2−ピリジニル)(2,2,2−トリフルオロ−1−メチルエチリデン)ヒドラジン(すなわち実施例2の生成物)(5g、14.8ミリモル)を、ジメチルスルホキシド(25mL)中フッ化テトラブチルアンモニウム水和物(10g)に8時間かけて添加した。添加完了時に、酢酸(3.25g)および水(25mL)の混合物に混合物を注ぎ入れた。25℃で一晩撹拌後、次いで、トルエン(4×25mL)で混合物を抽出し、組み合わせたトルエン抽出物を水(50mL)で洗浄し、乾燥させ、蒸発させ、固体を得た。シリカゲル上クロマトグラフィー(1:2酢酸エチル−ヘキサンで溶出)により、固体として生成物を得た(2.91g、収率50%、約5%の3−クロロ−2(1H)−ピリジノン(2,2,2−トリフルオロ−1−メチルエチリデン)ヒドラゾンを含む)。m.p.78℃〜78.5℃(酢酸エチル/ヘキサンからの再結晶化後)。
IR(ヌジョール)ν3403,1726,1618,1582,1407,1320,1293,1260,1217,1187,1150,1122,1100,1067,1013,873,829cm−1。
1H NMR(CDCl3)δ1.19(s,3H),3.20(ABZパターンの1/2,J=18Hz,1H),3.42(ABZパターンの1/2,J=18Hz,1H),4.24(q,2H),6.94(dd,J=7.9,4.9Hz,1H),7.74(dd,J=7.7,1.5Hz,1H),8.03(dd,J=4.7,1.5Hz,1H)。
MS m/z 319(M+)。
【0085】
実施例4
エチル1−(3−クロロ−2−ピリジニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−カルボキシレートの製造
硫酸(濃硫酸、2滴)を、酢酸(10mL)中エチル1−(3−クロロ−2−ピリジニル)−4,5−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−カルボキシレート(すなわち実施例3の生成物)(1g、2.96ミリモル)に添加し、混合物を約1時間、65℃まで加熱した。25℃まで混合物を冷却させ、減圧下で大部分の酢酸を除去した。飽和炭酸ナトリウム水溶液(100mL)と酢酸エチル(100mL)との間に混合物を分配した。酢酸エチル(100mL)で水層をさらに抽出した。組み合わせた有機抽出物を、乾燥させ、蒸発させ、油状物として生成物を得た(0.66g、収率77%)。
IR(ニート)ν3147,2986,1734,1577,1547,1466,1420,1367,1277,1236,1135,1082,1031,973,842,802cm−1。
1H NMR(CDCl3)δ1.23(t,3H),4.25(q,2H),7.21(s,1H),7.48(dd,J=8.1,4.7Hz,1H),7.94(dd,J=6.6,2Hz,1H),8.53(dd,J=4.7,1.5Hz,1H)。
MS m/z 319(M+)。
【0086】
実施例5
1−(3−クロロ−2−ピリジニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−カルボン酸の製造
水(1mL)中水酸化カリウム(0.5g、85%、2.28ミリモル)を、エタノール(3mL)中エチル1−(3−クロロ−2−ピリジニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−カルボキシレート(すなわち実施例4の生成物)(0.66g、2.07ミリモル)に添加した。約30分後、減圧下で溶媒を除去し、混合物を水(40mL)に溶解した。酢酸エチル(20mL)で溶液を洗浄した。濃塩酸で水層を酸性化し、酢酸エチル(3×20mL)で抽出した。組み合わせた抽出物を、乾燥させ、蒸発させ、固体として生成物を得た(0.53g、収率93%)。m.p.178℃〜179℃(ヘキサン−酢酸エチルからの結晶化後)。
IR(ヌジョール)ν1711,1586,1565,1550,1440,1425,1292,1247,1219,1170,1135,1087,1059,1031,972,843,816cm−1。
1H NMR(DMSO−d6)δ7.61(s,1H),7.77(m,1H),8.30(d,1H),8.60(s,1H)。
【0087】
当該分野で既知の方法とともに本明細書に記載の手順により、以下の表1から表5の化合物を製造することができる。表において、以下の略号を使用する:「t」は第三級であり、「s」は第二級であり、「n」はノルマルであり、「i」はイソであり、「Me」はメチルであり、「Et」はエチルであり、「Pr」はプロピルであり、「i−Pr」はイソプロピルであり、そして「t−Bu」は第三級ブチルである。
【0088】
【表1】
【0089】
【表2】
【0090】
【表3】
【0091】
【表4】
【0092】
【表5】
【産業上の利用可能性】
【0093】
有用性
式I、II、4および6の化合物は、式III
【0094】
【化19】
【0095】
(式中、X、R1、R2およびnは上記のとおり定義され、R7はCH3、ClまたはBrであり、R8はF、Cl、Br、IまたはCF3であり、且つR9はC1〜C4アルキルである)の化合物の製造のための合成中間体として有用である。
【0096】
式IIIの化合物は殺虫剤として有用である。
【0097】
スキーム5〜7に概説された方法により、式IIの化合物から(および順番に、式4、6およびIの化合物から)式IIIの化合物を製造することができる。
【0098】
式IIa(R6がHである式IIの化合物)のピラゾールカルボン酸と式7のアントラニル酸とのカップリングにより、式8のベンゾキサジノンを提供する。スキーム5において、トリエチルアミンまたはピリジンのような第三級アミンの存在下における式IIaのピラゾールカルボン酸への塩化メタンスルホニルの連続添加、続いて、式7のアントラニル酸の添加、第三級アミンおよび塩化メタンスルホニルの二回目の添加を介して、式8のベンゾキサジノンは直接製造される。この手順により一般的に、良好な収率のベンゾキサジノンが得られる。
【0099】
【化20】
【0100】
スキーム6は、式8のベンゾキサジノンを直接提供するための、式10のピラゾール酸塩化物と式9のイサト酸無水物とのカップリングを含む、式8のベンゾキサジノンの交互製造を示す。
【0101】
【化21】
【0102】
ピリジンまたはピリジン/アセトニトリルのような溶媒が、この反応に適切である。式10の酸塩化物は、塩化チオニルまたは塩化オキサリルによる塩素化のような既知の手順によって式IIaの相当する酸から入手可能である。
【0103】
スキーム7で概説されるように、式8のベンゾキサジノンとC1〜C4アルキルアミンとの反応によって式IIIの化合物を製造することができる。そのまま、またはテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジクロロメタンまたはクロロホルムを含む種々の溶媒中で、室温から溶媒の還流温度までの範囲の最適温度で、反応を実行することができる。アントラニルアミドを生じるベンゾキサジノンとアミンとの一般的な反応は、化学文献に十分に実証されている。ベンゾキサジノン化学の総論は、ジェイコブセン(Jakobsen)ら著、「バイオオーガニック・アンド・メディシナル・ケミストリー(Biorganic and Medicinal Chemistry)」第8巻、2000年、p.2095−2103、およびその引用文献を参照のこと。コッポラ(Coppola)著、「ジャーナル・オブ・ヘテロサイクリック・ケミストリー(J.Heterocyclic Chemistry)」第36巻、1999年、p.563−588も参照のこと。
【0104】
【化22】
【0105】
注目すべきは、nが0である式IIIの化合物の製造方法である。
【0106】
nが1〜3である式IIIの化合物の製造方法も注目すべきである。
Claims (35)
- 式I
R1はH、C1〜C6アルキル、C2〜C6アルケニル、C2〜C6アルキニル、C3〜C6シクロアルキル、C1〜C6ハロアルキル、C2〜C6ハロアルケニル、C2〜C6ハロアルキニルまたはC3〜C6ハロシクロアルキルであり、
各R2は独立してC1〜C4アルキル、C2〜C4アルケニル、C2〜C4アルキニル、C3〜C6シクロアルキル、C1〜C4ハロアルキル、C2〜C4ハロアルケニル、C2〜C4ハロアルキニル、C3〜C6ハロシクロアルキル、ハロゲン、CN、NO2、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4ハロアルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4アルキルスルフィニル、C1〜C4アルキルスルホニル、C1〜C4アルキルアミノ、C2〜C8ジアルキルアミノ、C3〜C6シクロアルキルアミノ、C3〜C6(アルキル)シクロアルキルアミノ、C2〜C4アルキルカルボニル、C2〜C6アルコキシカルボニル、C2〜C6アルキルアミノカルボニル、C3〜C8ジアルキルアミノカルボニルまたはC3〜C6トリアルキルシリルであり、
R3はH、C1〜C4アルキル、C2〜C4アルキルカルボニルまたはC2〜C6アルコキシカルボニルであり、
XはNまたはCR4であり、
R4はHまたはR2であり、
R5はC1〜C4アルキルであり、そして
nは0〜3であり、ただし、XがCHである場合、nは少なくとも1である)
の化合物。 - R1がH、C1〜C4アルキルまたはC1〜C4ハロアルキルであり、そして各R2が独立してC1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキル、ハロゲンまたはCNである請求項1に記載の化合物。
- nが1〜3である請求項1に記載の化合物。
- R1がCF3であり、各R2が独立してClまたはBrであり且つ1つのR2が3位にあり、R3がHであり、XがNまたはCR4であり、そしてR4がH、ClまたはBrである請求項2に記載の化合物。
- R1がCF3であり、1つのR2が4位にあり且つCNであり、そしてR2が5位に存在する場合にはそれはFであり、R3がHであり、そしてXがCHである請求項2に記載の化合物。
- XがNである請求項2に記載の化合物。
- 工程(1)が、式6の化合物を第四級フッ化アンモニウム塩で処理する工程を含む請求項7に記載の方法。
- R1がH、C1〜C4アルキルまたはC1〜C4ハロアルキルであり、そして各R2が独立してC1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキル、ハロゲンまたはCNである請求項7に記載の方法。
- R1がCF3であり、各R2が独立してClまたはBrであり且つ1つのR2が3位にあり、R3がHである請求項9に記載の方法。
- R1がCF3であり、1つのR2が4位にあり且つCNであり、そしてR2が5位に存在する場合にはそれはFであり、R3がHであり、そしてXがCHである請求項9に記載の方法。
- XがNである請求項7に記載の方法。
- 式6
R1はH、C1〜C6アルキル、C2〜C6アルケニル、C2〜C6アルキニル、C3〜C6シクロアルキル、C1〜C6ハロアルキル、C2〜C6ハロアルケニル、C2〜C6ハロアルキニルまたはC3〜C6ハロシクロアルキルであり、
各R2は独立してC1〜C4アルキル、C2〜C4アルケニル、C2〜C4アルキニル、C3〜C6シクロアルキル、C1〜C4ハロアルキル、C2〜C4ハロアルケニル、C2〜C4ハロアルキニル、C3〜C6ハロシクロアルキル、ハロゲン、CN、NO2、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4ハロアルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4アルキルスルフィニル、C1〜C4アルキルスルホニル、C1〜C4アルキルアミノ、C2〜C8ジアルキルアミノ、C3〜C6シクロアルキルアミノ、C3〜C6(アルキル)シクロアルキルアミノ、C2〜C4アルキルカルボニル、C2〜C6アルコキシカルボニル、C2〜C6アルキルアミノカルボニル、C3〜C8ジアルキルアミノカルボニルまたはC3〜C6トリアルキルシリルであり、
XはNまたはCR4であり、
R4はHまたはR2であり、
R5はC1〜C4アルキルであり、そして
nは0〜3であり、ただし、XがCHである場合、nは少なくとも1である)
の化合物。 - R1がH、C1〜C4アルキルまたはC1〜C4ハロアルキルであり、そして各R2が独立してC1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキル、ハロゲンまたはCNである請求項13に記載の化合物。
- nが1〜3である請求項13に記載の化合物。
- R1がCF3であり、各R2が独立してClまたはBrであり且つ1つのR2が3位にあり、XがNまたはCR4であり、そしてR4がH、ClまたはBrである請求項14に記載の化合物。
- R1がCF3であり、1つのR2が4位にあり且つCNであり、そしてR2が5位に存在する場合にはそれはFであり、そしてXがCHである請求項14に記載の化合物。
- XがNである請求項14に記載の化合物。
- R1がH、C1〜C4アルキルまたはC1〜C4ハロアルキルであり、そして各R2が独立してC1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキル、ハロゲンまたはCNである請求項19に記載の方法。
- R1がCF3であり、各R2が独立してClまたはBrであり且つ1つのR2が3位にある請求項20に記載の方法。
- R1がCF3であり、1つのR2が4位にあり且つCNであり、そしてR2が5位に存在する場合にはそれはFであり、そしてXがCHである請求項20に記載の方法。
- XがNである請求項19に記載の方法。
- nが1〜3である請求項24に記載の化合物。
- R1がH、C1〜C4アルキルまたはC1〜C4ハロアルキルであり、そして各R2が独立してC1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキル、ハロゲンまたはCNである請求項26に記載の方法。
- R1がCF3であり、各R2が独立してClまたはBrであり且つ1つのR2が3位にある請求項28に記載の方法。
- R1がCF3であり、1つのR2が4位にあり且つCNであり、そしてR2が5位に存在する場合にはそれはFであり、そしてXがCHである請求項28に記載の方法。
- XがNである請求項26に記載の方法。
- nが1〜3である請求項32に記載の化合物。
- XがNである請求項32に記載の化合物。
- 式III
各R2は独立してC1〜C4アルキル、C2〜C4アルケニル、C2〜C4アルキニル、C3〜C6シクロアルキル、C1〜C4ハロアルキル、C2〜C4ハロアルケニル、C2〜C4ハロアルキニル、C3〜C6ハロシクロアルキル、ハロゲン、CN、NO2、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4ハロアルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4アルキルスルフィニル、C1〜C4アルキルスルホニル、C1〜C4アルキルアミノ、C2〜C8ジアルキルアミノ、C3〜C6シクロアルキルアミノ、C3〜C6(アルキル)シクロアルキルアミノ、C2〜C4アルキルカルボニル、C2〜C6アルコキシカルボニル、C2〜C6アルキルアミノカルボニル、C3〜C8ジアルキルアミノカルボニルまたはC3〜C6トリアルキルシリルであり、
XはNまたはCR4であり、
R4はH、ClまたはBrであり、
R7はCH3、ClまたはBrであり、
R8はF、Cl、Br、IまたはCF3であり、
R9はC1〜C4アルキルであり、そして
nは0〜3であり、ただし、XがCHである場合、nは少なくとも1である)
の化合物の製造方法であって、
式II
請求項26に記載の方法により前記式IIの化合物を製造することを特徴とする方法。
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