JP2005507353A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (43)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030226377A1 (en) * 2002-03-05 2003-12-11 Barrett W. Tim Method of making silica-titania extreme ultraviolet elements
KR100556141B1 (ko) * 2003-03-27 2006-03-03 호야 가부시키가이샤 마스크 블랭크용 유리 기판 제조 방법 및 마스크 블랭크제조 방법
JP4219718B2 (ja) * 2003-03-28 2009-02-04 Ｈｏｙａ株式会社 Ｅｕｖマスクブランクス用ガラス基板の製造方法及びｅｕｖマスクブランクスの製造方法
JP4792705B2 (ja) † 2003-04-03 2011-10-12 旭硝子株式会社 ＴｉＯ２を含有するシリカガラスおよびその製造法
JP5367204B2 (ja) 2003-04-03 2013-12-11 旭硝子株式会社 ＴｉＯ２を含有するシリカガラスおよびＥＵＶリソグラフィ用光学部材
JP2011168485A (ja) * 2003-04-03 2011-09-01 Asahi Glass Co Ltd ＴｉＯ２を含有するシリカガラスおよびその製造法
JP2010275189A (ja) * 2003-04-03 2010-12-09 Asahi Glass Co Ltd ＴｉＯ２を含有するシリカガラスおよびＥＵＶリソグラフィ用光学部材
JP4792706B2 (ja) 2003-04-03 2011-10-12 旭硝子株式会社 ＴｉＯ２を含有するシリカガラスおよびその製造方法
JP5402975B2 (ja) * 2003-04-03 2014-01-29 旭硝子株式会社 ＴｉＯ２を含有するシリカガラスおよびその製造法
EP1471038A3 (de) * 2003-04-26 2005-11-23 Schott Ag Verfahren zur Herstellung von Glaskörpern aus dotiertem Quarzglas
DE10359102A1 (de) * 2003-12-17 2005-07-21 Carl Zeiss Smt Ag Optische Komponente umfassend ein Material mit einer vorbestimmten Homogenität der thermischen Längsausdehnung
JP4492123B2 (ja) * 2004-01-05 2010-06-30 旭硝子株式会社 シリカガラス
DE102004015766B4 (de) * 2004-03-23 2016-05-12 Asahi Glass Co., Ltd. Verwendung eines SiO2-TiO2-Glases als strahlungsresistentes Substrat
DE102004024808B4 (de) * 2004-05-17 2006-11-09 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Quarzglasrohling für ein optisches Bauteil zur Übertragung extrem kurzwelliger ultravioletter Strahlung
JP4957249B2 (ja) * 2004-07-01 2012-06-20 旭硝子株式会社 ＴｉＯ２を含有するシリカガラスおよびその製造方法
JP4487783B2 (ja) * 2005-01-25 2010-06-23 旭硝子株式会社 ＴｉＯ２を含有するシリカガラスの製造方法およびＴｉＯ２を含有するシリカガラスを用いたＥＵＶリソグラフィ用光学部材
KR100651453B1 (ko) * 2005-10-21 2006-11-29 삼성전자주식회사 수트 모재의 제조 장치
TW200940472A (en) 2007-12-27 2009-10-01 Asahi Glass Co Ltd TiO2-containing silica glass
JP5365247B2 (ja) 2008-02-25 2013-12-11 旭硝子株式会社 ＴｉＯ２を含有するシリカガラスおよびそれを用いたリソグラフィ用光学部材
WO2009107858A1 (en) * 2008-02-26 2009-09-03 Asahi Glass Co., Ltd. Tio2-containing silica glass and optical member for euv lithography using high energy densities as well as special temperature controlled process for its manufacture
JP5417884B2 (ja) * 2008-02-27 2014-02-19 旭硝子株式会社 ＴｉＯ２を含有するシリカガラスおよびそれを用いたリソグラフィ用光学部材
EP2250133A1 (en) * 2008-02-29 2010-11-17 Asahi Glass Company, Limited Tio2-containing silica glass and optical member for lithography using the same
JP5644058B2 (ja) * 2008-03-21 2014-12-24 旭硝子株式会社 ＴｉＯ２を含有するシリカガラス
JP2009274947A (ja) 2008-04-16 2009-11-26 Asahi Glass Co Ltd ＴｉＯ２を含有するＥＵＶリソグラフィ光学部材用シリカガラス
JP2010135732A (ja) 2008-08-01 2010-06-17 Asahi Glass Co Ltd Ｅｕｖマスクブランクス用基板
US20100124709A1 (en) * 2008-11-20 2010-05-20 Daniel Warren Hawtof Image mask assembly for photolithography
EP2377826B2 (en) † 2009-01-13 2020-05-27 AGC Inc. OPTICAL MEMBER COMPRISING SILICA GLASS CONTAINING TiO2
US8735308B2 (en) * 2009-01-13 2014-05-27 Asahi Glass Company, Limited Optical member comprising TiO2-containing silica glass
WO2010098352A1 (ja) * 2009-02-24 2010-09-02 旭硝子株式会社 多孔質石英ガラス体の製造方法およびｅｕｖリソグラフィ用光学部材
EP2468692A1 (en) 2009-08-19 2012-06-27 Asahi Glass Company, Limited Tio2-containing silicia glass, and optical member for euv lithography
DE102010039779A1 (de) * 2009-08-28 2011-03-24 Corning Inc. Glas mit geringer wärmeausdehnung für euvl-anwendungen
DE102010028488A1 (de) * 2010-05-03 2011-11-03 Carl Zeiss Smt Gmbh Substrate für Spiegel für die EUV-Lithographie und deren Herstellung
US8567214B2 (en) * 2010-06-28 2013-10-29 Asahi Glass Company, Limited Method for producing glass body and method for producing optical member for EUV lithography
JPWO2012105513A1 (ja) 2011-01-31 2014-07-03 旭硝子株式会社 チタニアを含有するシリカガラス体の製造方法およびチタニアを含有するシリカガラス体
JP5640920B2 (ja) * 2011-08-18 2014-12-17 信越化学工業株式会社 チタニアドープ石英ガラス及びその製造方法
DE102012013134B4 (de) * 2012-07-03 2014-04-03 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Verfahren zur Herstellung von Zylindern aus Quarzglas
US8987155B2 (en) 2012-08-30 2015-03-24 Corning Incorporated Niobium doped silica titania glass and method of preparation
US9382151B2 (en) 2014-01-31 2016-07-05 Corning Incorporated Low expansion silica-titania articles with a Tzc gradient by compositional variation
US9382150B2 (en) 2014-03-14 2016-07-05 Corning Incorporated Boron-doped titania-silica glass having very low CTE slope
EP3209615A4 (en) 2014-10-20 2018-07-04 Navus Automation, Inc. Fused silica furnace system&method for continuous production of fused silica
PL3218317T3 (pl) 2014-11-13 2019-03-29 Gerresheimer Glas Gmbh Filtr cząstek urządzenia do wytwarzania szkła, jednostka tłoka, głowica dmuchu, wspornik głowicy dmuchu i urządzenie do wytwarzania szkła, przystosowane lub zawierające filtr
US9580350B2 (en) 2014-11-19 2017-02-28 Corning Incorporated High hydroxyl TiO2-SiO2 glass
WO2016085915A1 (en) 2014-11-26 2016-06-02 Corning Incorporated Doped silica-titania glass having low expansivity and methods of making the same

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE438752A (enExample) * 1939-04-22
US3806570A (en) * 1972-03-30 1974-04-23 Corning Glass Works Method for producing high quality fused silica
JPS57100930A (en) * 1980-12-12 1982-06-23 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Preparation of base material for optical fiber
US4440558A (en) * 1982-06-14 1984-04-03 International Telephone And Telegraph Corporation Fabrication of optical preforms by axial chemical vapor deposition
US5067975A (en) * 1989-12-22 1991-11-26 Corning Incorporated Method of manufacturing optical waveguide fiber with titania-silica outer cladding
US5152819A (en) * 1990-08-16 1992-10-06 Corning Incorporated Method of making fused silica
US5043002A (en) * 1990-08-16 1991-08-27 Corning Incorporated Method of making fused silica by decomposing siloxanes
JP2818350B2 (ja) * 1993-03-18 1998-10-30 信越化学工業株式会社 石英ガラス母材の製造方法
JP2818349B2 (ja) * 1993-03-18 1998-10-30 信越化学工業株式会社 石英ガラス母材の製造方法
JP4350168B2 (ja) 1997-03-07 2009-10-21 コーニング インコーポレイテッド チタニアドープ溶融シリカの製造方法
DE69841741D1 (de) 1997-09-24 2010-08-05 Corning Inc VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON GESCHMOLZENES SiO2-TiO2 GLAS
EP1094990A1 (en) 1998-04-22 2001-05-02 Corning Incorporated Methods for making ultra-low expansion silica-titania glasses
EP1010672A1 (en) * 1998-12-17 2000-06-21 PIRELLI CAVI E SISTEMI S.p.A. Method and apparatus for forming an optical fiber preform by combustionless hydrolysis
US6242136B1 (en) * 1999-02-12 2001-06-05 Corning Incorporated Vacuum ultraviolet transmitting silicon oxyfluoride lithography glass
US6265115B1 (en) * 1999-03-15 2001-07-24 Corning Incorporated Projection lithography photomask blanks, preforms and methods of making
USRE41220E1 (en) 1999-07-22 2010-04-13 Corning Incorporated Extreme ultraviolet soft x-ray projection lithographic method system and lithographic elements
KR100647968B1 (ko) 1999-07-22 2006-11-17 코닝 인코포레이티드 극 자외선 소프트 ｘ-선 투사 리소그라피 방법 및 마스크디바이스
US6606883B2 (en) * 2001-04-27 2003-08-19 Corning Incorporated Method for producing fused silica and doped fused silica glass

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